一種隧道窯燒成帶的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及瓷器領域，具體涉及一種隧道窯燒成帶。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有100米隧道窯低溫帶有4對燒嘴，對應5個車位，8.45米長，氧化區(qū)間較短，在一定單位時間內，產(chǎn)品氧化不徹底；還原帶高溫成瓷部分有3對燒嘴，對應4個車位，6.76米長，高溫成瓷區(qū)間較短，上下部溫差大，窯頂升溫困難；還原帶高溫成瓷部分為發(fā)弦拱頂，無效空間大，氣氛不穩(wěn)定。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術的缺陷和不足，提供一種結構簡單，設計合理、使用方便的一種隧道窯燒成帶，它采用隧道窯氧化帶氧化區(qū)間延長后，在同樣進車速度下，實際延長氧化時間80%，解決瓷件氧化不徹底的缺陷；高溫帶增加燒嘴改為上下布局后，首先解決高溫帶上下溫差大，窯頂升溫困難現(xiàn)象，同時增加I個車位區(qū)間，在同樣進車速度下相應延長高溫時間25%，確保成瓷效果；它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本得到大幅度降低。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術方案是:
[0005]本實用新型所述的一種隧道窯燒成帶，包括低溫帶和還原帶，其特征在于，低溫帶和還原帶底部設有傳送線，所述低溫帶內設有低溫燒嘴，頂端部分為拱形，低溫燒嘴數(shù)量為6對，所述還原帶底部加有底層高溫燒嘴，中間采用中段高溫燒嘴，頂端采用吊磚平頂，所述底層高溫燒嘴數(shù)量為4對，中段高溫燒嘴數(shù)量為2對，所述低溫帶長15.21米，還原帶長8.45 米。
[0006]進一步地，所述低溫燒嘴為低溫等速PLC控制燒嘴。
[0007]進一步地，所述高溫燒嘴和中段高溫燒嘴為多級霧化高溫PLC。
[0008]進一步地，所述吊磚平頂采用扁平型結構。
[0009]采用上述結構后，本實用新型有益效果為:本實用新型它采用隧道窯氧化帶氧化區(qū)間延長后，在同樣進車速度下，實際延長氧化時間80%，解決瓷件氧化不徹底的缺陷；高溫帶增加燒嘴改為上下布局后，首先解決高溫帶上下溫差大，窯頂升溫困難現(xiàn)象，同時增加I個車位區(qū)間，在同樣進車速度下相應延長高溫時間25%，確保成瓷效果；還原帶高溫部分由發(fā)弦拱頂改為吊磚平頂后，減少無用空間，確保該段壓力穩(wěn)定，從而形成穩(wěn)定的弱還原氣氛，確保成瓷質量；它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本得到大幅度降低。
【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型的結構示意圖；
[0011]附圖標記說明:
[0012]1、低溫帶；2、還原帶；3、傳送線；4、低溫燒嘴；5、拱形；6、底層高溫燒嘴；7、中段高溫燒嘴；8、吊磚平頂。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型作進一步的說明。
[0014]如圖1所示，本實用新型所述的一種隧道窯燒成帶，包括低溫帶I和還原帶2，其特征在于，低溫帶I和還原帶2底部設有傳送線3，所述低溫帶I內設有低溫燒嘴4，頂端部分為拱形5，低溫燒嘴4數(shù)量為6對，所述還原帶2底部加有底層高溫燒嘴6，中間采用中段高溫燒嘴7，頂端采用吊磚平頂8，所述底層高溫燒嘴6數(shù)量為4對，中段高溫燒嘴7數(shù)量為2對，所述低溫帶I長15.21米，還原帶2長8.45米。
[0015]進一步地，所述低溫燒嘴4為低溫等速PLC控制燒嘴。
[0016]進一步地，所述高溫燒嘴6和中段高溫燒嘴7為多級霧化高溫PLC。
[0017]進一步地，所述吊磚平頂8采用扁平型結構。
[0018]本實用新型它采用隧道窯氧化帶氧化區(qū)間延長后，在同樣進車速度下，實際延長氧化時間80%，解決瓷件氧化不徹底的缺陷；高溫帶增加燒嘴改為上下布局后，首先解決高溫帶上下溫差大，窯頂升溫困難現(xiàn)象，同時增加I個車位區(qū)間，在同樣進車速度下相應延長高溫時間25%，確保成瓷效果；還原帶高溫部分由發(fā)弦拱頂改為吊磚平頂后，減少無用空間，確保該段壓力穩(wěn)定，從而形成穩(wěn)定的弱還原氣氛，確保成瓷質量；它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本得到大幅度降低。
[0019]以上所述僅是本實用新型的較佳實施方式，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內。
【主權項】
1.一種隧道窯燒成帶，包括低溫帶(I)和還原帶(2)，其特征在于，低溫帶(I)和還原帶(2)底部設有傳送線(3)，所述低溫帶(I)內設有低溫燒嘴(4)，頂端部分為拱形(5)，低溫燒嘴(4)數(shù)量為6對，所述還原帶(2)底部加有底層高溫燒嘴(6)，中間采用中段高溫燒嘴(7)，頂端采用吊磚平頂(8)，所述底層高溫燒嘴(6)數(shù)量為4對，中段高溫燒嘴(7)數(shù)量為2對，所述低溫帶⑴長15.21米，還原帶⑵長8.45米。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種隧道窯燒成帶，其特征在于:所述低溫燒嘴(4)為低溫等速PLC控制燒嘴。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種隧道窯燒成帶，其特征在于:所述高溫燒嘴(6)和中段高溫燒嘴(7)為多級霧化高溫PLC。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種隧道窯燒成帶，其特征在于:所述吊磚平頂(8)采用扁平型結構。
【專利摘要】本實用新型涉及瓷器領域，具體涉及一種隧道窯燒成帶，它包括低溫帶和還原帶，其特征在于，低溫帶和還原帶底部設有傳送線，所述低溫帶內設有低溫燒嘴，頂端部分為拱形，所述還原帶底部加有底層高溫燒嘴，中間采用中段高溫燒嘴，頂端采用吊磚平頂。本實用新型它實際延長氧化時間80％，解決瓷件氧化不徹底的缺陷；還原帶解決高溫帶上下溫差大，窯頂升溫困難現(xiàn)象，確保成瓷效果；它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本得到大幅度降低。
【IPC分類】F27B9-36, F27B9-30
【公開號】CN204574781
【申請?zhí)枴緾N201520090970
【發(fā)明人】郭繼龍, 王德福, 李景林, 翟擁軍
【申請人】山東淄博電瓷廠有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年2月10日