本實(shí)用新型涉及家用電器領(lǐng)域，尤其涉及一種電磁爐及線圈盤。

背景技術(shù)：

電磁爐是一種常見的用于進(jìn)行烹飪及加熱的家用電器。電磁爐在工作時(shí)，利用高頻交流電通過線圈盤，以使其產(chǎn)生高頻變化的磁場，從而在放置在電磁爐上的鐵質(zhì)鍋具底部產(chǎn)生渦流，以對鐵質(zhì)鍋具內(nèi)的食物進(jìn)行加熱。

目前，電磁爐中的線圈盤按照線圈的繞制工藝不同可分為密繞線圈盤和疏繞線圈盤等。其中，疏繞線圈盤包括有線圈盤支架、繞制在線圈盤支架上的線圈和設(shè)置在線圈盤支架底部的磁條等。線圈盤支架表面包括成多個(gè)同心圓設(shè)置的導(dǎo)向筋條，線圈由多組漆包線絞合而成，漆包線一般沿線圈盤支架內(nèi)圈向外圈的方向繞制在導(dǎo)向筋條上并形成圓盤狀的線圈。進(jìn)行線圈的繞制時(shí)，繞線機(jī)在當(dāng)前繞線槽的線圈繞完后，在繞下一個(gè)繞線槽之前，需要在線圈盤徑向上產(chǎn)生一個(gè)位移，為了避免阻礙繞線機(jī)，在繞線的導(dǎo)向筋條上具有切斷口，繞線機(jī)可通過該切斷口繞過導(dǎo)向筋條，避免出現(xiàn)干涉現(xiàn)象。目前，切斷口均在導(dǎo)向筋條的相同位置處開設(shè)，以成直條形或者扇形的切斷口。

然而，由于線圈繞制過程中漆膜可能會(huì)受損失效，而切斷口處的線圈，由于自身產(chǎn)生彎折，容易和相鄰切斷口處的線圈發(fā)生重疊、接觸等現(xiàn)象，這樣可能會(huì)造成線圈匝間短路，產(chǎn)生安全隱患。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種電磁爐及線圈盤，相鄰線圈跳線處不會(huì)出現(xiàn)彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，能夠有效避免匝間短路。

第一方面，本實(shí)用新型提供一種電磁爐，包括面板、殼體和線圈盤，線圈盤被設(shè)置在面板與殼體共同圍成的空腔內(nèi)，線圈盤包括至少一個(gè)線圈盤支架和設(shè)置在線圈盤支架上表面的線圈，線圈盤支架上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成繞線槽，各繞線槽內(nèi)均繞設(shè)一層線圈，各導(dǎo)向筋條上均設(shè)置有可使線圈穿過的跳線缺口，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)。這樣相鄰繞線缺口之間錯(cuò)開，不會(huì)出現(xiàn)相鄰線圈跳線處彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，可以有效避免線圈盤1出現(xiàn)匝間短路的隱患。

可選的，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口之間在沿線圈盤的徑向上不具有重疊區(qū)域。這樣每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口之間均具有足夠的錯(cuò)開角度和間距，能夠避免各自穿設(shè)的線圈之間不會(huì)產(chǎn)生相互接觸和干涉的現(xiàn)象。

可選的，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的周向上的偏移方向相同。這樣繞線機(jī)在進(jìn)行跳線位移時(shí)，進(jìn)行移動(dòng)的角度和位移均較小，其繞線速度和生產(chǎn)效率均較高。

可選的，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的周向上的偏移距離相同。這樣線圈在線圈盤支架上排列較為規(guī)整、美觀。

可選的，每個(gè)跳線缺口中所穿過的線圈與相鄰跳線缺口中所穿過的線圈之間具有間隔。這樣可避免相鄰兩個(gè)跳線缺口中穿過的線圈之間產(chǎn)生接觸，提高了電磁爐的安全性。

可選的，所有跳線缺口的寬度均相等。

可選的，線圈盤包括至少兩個(gè)上下疊放的線圈盤支架與至少兩個(gè)各自繞設(shè)在所述線圈盤支架上表面的線圈。這樣線圈盤包括多層線圈時(shí)，不同線圈盤支架上的線圈仍可以獨(dú)立間隔設(shè)置，因而彼此之間不會(huì)發(fā)生接觸、干涉等現(xiàn)象，避免了匝間短路現(xiàn)象的出現(xiàn)。

可選的，所有線圈盤支架上的線圈之間相互串聯(lián)連接。

可選的，線圈盤支架的底部設(shè)置有容置槽，容置槽中設(shè)有磁條。這樣可防止磁力線外泄，提高電磁爐的加熱效率。

第二方面，本實(shí)用新型還提供一種線圈盤，包括至少一個(gè)線圈盤支架和設(shè)置在線圈盤支架上表面的線圈，線圈盤支架上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成繞線槽，各繞線槽內(nèi)均繞設(shè)一層線圈，各導(dǎo)向筋條上均設(shè)置有可使線圈穿過的跳線缺口，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)。這樣線圈跳線處會(huì)彼此錯(cuò)開，相鄰繞線缺口之間距離變大，因而不會(huì)出現(xiàn)相鄰線圈跳線處彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，可以有效避免線圈盤出現(xiàn)匝間短路的隱患。

本實(shí)用新型的構(gòu)造以及它的其他目的及有益效果將會(huì)通過結(jié)合附圖而對優(yōu)選實(shí)施例的描述而更加明顯易懂。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的電磁爐中線圈盤的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的電磁爐中線圈盤的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說明：

1—線圈盤；

11—線圈盤支架；

12、12a、12b—線圈；

11a—第一線圈盤支架；

11b—第二線圈盤支架；

111—導(dǎo)向筋條；

112—繞線槽；

113、113a、113b—跳線缺口。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的電磁爐中線圈盤的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)施例提供的電磁爐，包括面板、殼體和線圈盤，線圈盤設(shè)置在殼體內(nèi)，且殼體頂部設(shè)置有用于放置鍋具的面板，從而使線圈盤設(shè)置在面板與殼體共同圍成的空腔內(nèi)。電磁爐在進(jìn)行工作時(shí)，線圈盤上的線圈末端向外延伸，并和接線端子連接。接線端子可以為線圈通入高頻變化的電流。高頻電流通入線圈之后，可以產(chǎn)生高頻變化的磁場，磁場的磁力線通過鍋具會(huì)產(chǎn)生無數(shù)小渦流，從而對放置在電磁爐的面板上的鍋具進(jìn)行加熱。

其中，線圈盤1包括有至少一個(gè)線圈盤支架11和設(shè)置在線圈盤支架12上表面的線圈12，線圈盤支架11上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形，且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條111，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成用于繞線的繞線槽112，每個(gè)繞線槽112內(nèi)均繞設(shè)一層線圈12，這樣，繞設(shè)在線圈盤支架11上的各圈線圈12就會(huì)被導(dǎo)向筋條111相互隔開。各導(dǎo)向筋條111上均設(shè)置有可使線圈12穿過的跳線缺口113，每個(gè)跳線缺口113與相鄰跳線缺口在沿線圈盤1的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽112內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口113跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)，這樣在進(jìn)行線圈的繞制的時(shí)候，可以選擇由內(nèi)向外或者由外向內(nèi)進(jìn)行繞設(shè)，每繞滿一個(gè)繞線槽112之后，即可從該繞線槽上的跳線缺口跳至下一個(gè)繞線槽中，再度進(jìn)行繞設(shè)，直至將所有繞線槽繞滿，形成完整的線圈盤1。

具體的，因?yàn)榇┻^跳線缺口113中的線圈12發(fā)生了彎折，其占用空間較大，所以跳線處的線圈較易與其它線圈之間產(chǎn)生接觸及干涉。所以，可以讓每個(gè)繞線槽112上的跳線缺口113并不在線圈盤1的同一條徑向直線上，而是彼此錯(cuò)開，這樣在進(jìn)行繞線時(shí)，相鄰繞線槽112上的跳線缺口113上所穿過的線圈12，即線圈跳線處也會(huì)彼此錯(cuò)開，這樣相鄰跳線缺口113之間距離變大，因而不會(huì)出現(xiàn)相鄰線圈跳線處彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，可以有效避免線圈盤1出現(xiàn)匝間短路的隱患。

因?yàn)榫€圈盤支架11上的跳線缺口113之間均保持錯(cuò)位排列，所以相鄰跳線缺口之間的間距變大，此時(shí)，可通過控制相鄰跳線缺口之間的間距，讓每個(gè)跳線缺口113中所穿過的線圈12與相鄰跳線缺口中所穿過的線圈12之間具有間隔，從而避免相鄰兩個(gè)跳線缺口中穿過的線圈12之間產(chǎn)生接觸而造成的匝間短路現(xiàn)象，提高了電磁爐的安全性。

可選的，在進(jìn)行線圈繞制的時(shí)候，其繞制方向可以選擇為順時(shí)針繞法，也可以是逆時(shí)針繞法，每個(gè)繞線槽112中線圈繞制方向均相同，以使線圈盤1在通電后能夠產(chǎn)生正確的磁場。在進(jìn)行具體繞制中，繞制方向可以根據(jù)實(shí)際需要而進(jìn)行自由設(shè)置。

具體的，線圈盤支架11上的跳線缺口113，既可以呈一定規(guī)律進(jìn)行排列，也可以為無規(guī)律排列，只要保證相鄰的繞線缺口113彼此位置錯(cuò)開即可。而為了保證線圈12在跳線處能夠完全錯(cuò)開，可使每個(gè)跳線缺口113與相鄰跳線缺口之間在沿線圈盤1的徑向上不具有重疊區(qū)域。這樣，每個(gè)跳線缺口113與相鄰跳線缺口之間均具有足夠的錯(cuò)開角度和間距，能夠避免各自穿設(shè)的線圈12之間不會(huì)產(chǎn)生相互接觸和干涉的現(xiàn)象。

一般的，因?yàn)槔@線機(jī)在繞制線圈12時(shí)，一般只是在同一個(gè)平面上運(yùn)動(dòng)，所以為了減少繞線機(jī)的移動(dòng)位移，提高生產(chǎn)效率，可以讓每個(gè)跳線缺口113與相鄰跳線缺口在沿線圈盤1的周向上的偏移方向相同。這樣，不同導(dǎo)向筋條111上的跳線缺口113均大致沿同一方向依次產(chǎn)生偏移，而在線圈盤1所在平面上，所有跳線缺口113大致排列在同一條直線，或者同一條曲線上。這樣繞線機(jī)在進(jìn)行跳線位移時(shí)，進(jìn)行移動(dòng)的角度和位移均較小，其繞線速度和生產(chǎn)效率均較高。

進(jìn)一步的，當(dāng)所有跳線缺口113與前一個(gè)跳線缺口的相對偏移方向均相同時(shí)，還可以讓每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的周向上的偏移距離也相同。這樣線圈盤支架11上的所有跳線缺口113均成同方向、等間距排列。因而其穿過各跳線缺口113的線圈12之間也能保持同樣的規(guī)律排布，這樣讓線圈12在線圈盤支架11上排列較為規(guī)整。此外可選的，可以設(shè)置線圈盤1上所有跳線缺口113的寬度均相等，以使線圈盤1的繞線更加美觀。

可選的，為了增強(qiáng)線圈盤1所產(chǎn)生磁場的方向性，線圈盤支架11的底部設(shè)置有容置槽，容置槽中設(shè)有磁條(圖中未示出)。由于以線圈盤1為中心的磁力線是上下雙向的，為了使線圈12通電產(chǎn)生的磁力線集中在線圈盤1上方，通過在線圈盤支架11下方或底部設(shè)置磁條，利用磁條進(jìn)行導(dǎo)磁，從而可防止磁力線外泄，提高電磁爐的加熱效率。

具體的，為了增強(qiáng)磁條導(dǎo)磁的均勻性，線圈盤支架11上的磁條可以具有多個(gè)，且多個(gè)磁條呈放射狀間隔設(shè)置在線圈盤支架的底部?；蛘?，磁條也可以為環(huán)形，并設(shè)置在線圈盤支架11的下方。

本實(shí)施例中，電磁爐包括面板、殼體和線圈盤，線圈盤被設(shè)置在面板與殼體共同圍成的空腔內(nèi)，線圈盤包括至少一個(gè)線圈盤支架和設(shè)置在線圈盤支架上表面的線圈，線圈盤支架上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成繞線槽，各繞線槽內(nèi)均繞設(shè)一層線圈，各導(dǎo)向筋條上均設(shè)置有可使線圈穿過的跳線缺口，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)。這樣線圈跳線處會(huì)彼此錯(cuò)開，相鄰跳線缺口之間距離變大，因而不會(huì)出現(xiàn)相鄰線圈跳線處彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，可以有效避免線圈盤出現(xiàn)匝間短路的隱患。

實(shí)施例二

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的電磁爐中線圈盤的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例中的電磁爐，其整體結(jié)構(gòu)和功能均與前述實(shí)施例一種的電磁爐相同，不同之處在于，本實(shí)施例中的線圈盤為多層線圈盤。具體的，如圖2所示，線圈盤包括至少兩個(gè)上下疊放的線圈盤支架與至少兩個(gè)各自繞設(shè)在線圈盤支架上表面的線圈。

具體的，電磁爐中的線圈盤1具體可包括有第一線圈盤支架11a和第二線圈盤支架11b，第二線圈盤支架11b位于第一線圈盤支架11a的上方。其中，第一線圈盤支架11a上的單層線圈和第二線圈盤支架11b上的單層線圈的徑向?qū)挾认嗤?，即兩個(gè)線圈盤支架上的線圈尺寸相同，從而保證整個(gè)線圈盤1的加熱效率以及美觀性。當(dāng)然，第二線圈盤支架11b上的單層線圈的尺寸也可以略小于第一線圈盤支架11a上的單層線圈的尺寸。

第一線圈盤支架11a上的線圈12a與第二線圈盤支架11b上的線圈12b一般為串聯(lián)連接，即在進(jìn)行繞線時(shí)，可以從第一線圈盤支架11a上從中心向外進(jìn)行繞制，形成單層的線圈，然后在第一線圈盤支架11a上方疊放第二線圈盤支架11b，將繞制而成的單層線圈末端延伸上拉至第二線圈盤支架11b上，再由外圈向中心進(jìn)行繞制，形成第二層線圈，最后將線圈末端拉出并和接線端子連接。

其中，第一線圈盤支架11a和第二線圈盤支架11b上的跳線缺口既可以為規(guī)則錯(cuò)位排列，也可以為不規(guī)則錯(cuò)位排列。當(dāng)兩個(gè)線圈盤均為規(guī)則錯(cuò)位排列時(shí)，其錯(cuò)位的偏移方向可相同或相反，即第一線圈盤支架11a和第二線圈盤支架11b上跳線缺口113均朝向同一方向偏移，或者第一線圈盤支架11a上跳線缺口113a朝向順時(shí)針偏移，而第二線圈盤支架11b上的跳線缺口113b朝向逆時(shí)針方向偏移。

同樣的，線圈盤上還可以包括兩個(gè)以上的線圈盤支架，其線圈盤支架的具體結(jié)構(gòu)和線圈的繞設(shè)方式均與兩個(gè)線圈盤支架時(shí)相同，此處不再贅述。

本實(shí)施例中，電磁爐的線圈盤包括有至少兩個(gè)上下疊放的線圈盤支架與至少兩個(gè)各自繞設(shè)在線圈盤支架上表面的線圈。而不同線圈盤支架上的線圈仍可以獨(dú)立間隔設(shè)置，因而彼此之間不會(huì)發(fā)生接觸、干涉等現(xiàn)象，避免了匝間短路現(xiàn)象的出現(xiàn)。

實(shí)施例三

在上述實(shí)施例基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型還提供一種線圈盤，包括至少一個(gè)線圈盤支架和設(shè)置在線圈盤支架上表面的線圈，線圈盤支架上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成繞線槽，各繞線槽內(nèi)均繞設(shè)一層線圈，各導(dǎo)向筋條上均設(shè)置有可使線圈穿過的跳線缺口，每個(gè)所述跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)。本實(shí)施例提供的線圈盤的結(jié)構(gòu)及功能與實(shí)施例一提供的電磁爐中的線圈盤相同，此處不再贅述。

本實(shí)施例中，通過將線圈盤設(shè)置成包括至少一個(gè)線圈盤支架和設(shè)置在線圈盤支架上表面的線圈，線圈盤支架上設(shè)置有多個(gè)呈環(huán)形且同心設(shè)置的導(dǎo)向筋條，相鄰導(dǎo)向筋條之間形成繞線槽，各繞線槽內(nèi)均繞設(shè)一層線圈，各導(dǎo)向筋條上均設(shè)置有可使線圈穿過的跳線缺口，每個(gè)跳線缺口與相鄰跳線缺口在沿線圈盤的徑向上的位置錯(cuò)開設(shè)置，各繞線槽內(nèi)的線圈繞線從跳線缺口跳繞至相鄰的繞線槽內(nèi)。這樣線圈跳線處會(huì)彼此錯(cuò)開，相鄰繞線缺口之間距離變大，因而不會(huì)出現(xiàn)相鄰線圈跳線處彼此干涉及接觸的現(xiàn)象，可以有效避免線圈盤出現(xiàn)匝間短路的隱患。

最后應(yīng)說明的是：以上各實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述各實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。