一種真空壓力烘烤設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空壓力烘烤設(shè)備，包含一烤箱及一箱門，烤箱形成一腔室，及一使腔室與外部相連通的開口，烤箱包括一界定出開口的框架及一第一氣密墊圈，框架包含一呈圓環(huán)狀的環(huán)形端面，環(huán)形端面凹陷形成一用以供第一氣密墊圈容置的第一環(huán)形凹槽；箱門設(shè)置于框架并且可開啟地封閉開口，箱門包括一面向環(huán)形端面并可封閉開口的封閉面及一第二氣密墊圈，封閉面凹陷形成一用以供第二氣密墊圈容置的第二環(huán)形凹槽，第一氣密墊圈用以抵接于封閉面以防止腔室內(nèi)充氣時氣體泄漏至外部，第二氣密墊圈用以抵接于環(huán)形端面以防止腔室抽真空時外部氣體流入腔室內(nèi)。本實用新型的真空壓力烘烤設(shè)備使得烤箱的箱門能與框架保持良好的氣密狀態(tài)。
【專利說明】一種真空壓力烘烤設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種真空壓力烘烤設(shè)備，尤其涉及一種具有氣密裝置的真空壓力烘烤設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有真空壓力烤箱通常包括一烤箱及一箱門，烤箱界定有一腔室，箱門可蓋合于烤箱并封閉腔室。真空壓力烤箱是透過一氣壓源提供氣體壓力至腔室內(nèi)，以進行加熱加壓的烘烤作業(yè)。另一方面，真空壓力烤箱是透過一真空幫浦對腔室內(nèi)抽真空，以進行真空環(huán)境下的加熱烘烤作業(yè)。
[0003]氣壓源提供氣體壓力至腔室內(nèi)時，氣體壓力會將箱門朝遠離烤箱方向頂推，若箱門與烤箱之間無法保持緊密的氣密狀態(tài)，則腔室內(nèi)的氣體易產(chǎn)生泄漏的問題，進而造成腔室內(nèi)的壓力降低。當真空幫浦對腔室內(nèi)抽真空時，箱門會朝烤箱方向迫緊，若箱門與烤箱之間無法保持緊密的氣密狀態(tài)，會影響腔室內(nèi)的真空度。因此，如何構(gòu)思一種氣密裝置，不論腔室在充氣加壓的狀態(tài)下或者是在抽真空的狀態(tài)下，箱門都能與烤箱之間保持良好的氣密狀態(tài)，遂成為本案要進一步改善的主題。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的是提供一種真空壓力烘烤設(shè)備，通過第一氣密墊圈及第二氣密墊圈的設(shè)計，使得腔室在充氣加壓的狀態(tài)下或者是在抽真空的狀態(tài)下，烤箱的箱門都能與框架保持良好的氣密狀態(tài)。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種真空壓力烘烤設(shè)備，包括一烤箱，形成一腔室，及一使所述腔室與外部相連通的開口，所述烤箱包括一界定出所述開口的框架，及一第一氣密墊圈，所述框架包含一呈圓環(huán)狀的環(huán)形端面，所述環(huán)形端面凹陷形成一用以供所述第一氣密墊圈容置的第一環(huán)形凹槽；及一箱門，設(shè)置于所述框架并且可開啟地封閉所述開口，所述箱門包括一面向所述環(huán)形端面并可封閉所述開口的封閉面，及一第二氣密墊圈，所述封閉面凹陷形成一用以供所述第二氣密墊圈容置的第二環(huán)形凹槽，所述第一氣密墊圈用以抵接于所述封閉面以防止所述腔室內(nèi)充氣時氣體泄漏至外部，所述第二氣密墊圈用以抵接于所述環(huán)形端面以防止所述腔室抽真空時外部氣體流入所述腔室內(nèi)。
[0006]較佳地，所述烤箱還包括多個連接于所述框架的通氣管，各所述通氣管可沿著一朝向所述封閉面的出氣方向輸送氣體至所述第一環(huán)形凹槽內(nèi)，以頂推所述第一氣密墊圈使其迫緊所述封閉面。
[0007]較佳地，所述第一氣密墊圈可由一與所述封閉面相間隔的初始位置移動至一迫緊位置，在所述的迫緊位置時，所述第一氣密墊圈部分凸伸出所述環(huán)形端面并迫緊于所述封閉面。
[0008]較佳地,所述第二氣密墊圈的外徑小于所述第一氣密墊圈的外徑,所述第二氣密墊圈間隔位于所述第一氣密墊圈內(nèi)側(cè)，所述第二氣密墊圈部分凸伸出所述封閉面。[0009]較佳地，所述框架還包含一與所述環(huán)形端面相間隔的環(huán)形槽面、一連接于所述環(huán)形槽面與所述環(huán)形端面之間的內(nèi)周面，及一連接于所述環(huán)形槽面與所述環(huán)形端面之間且間隔位于所述內(nèi)周面外側(cè)的外周面，所述環(huán)形槽面、所述內(nèi)周面以及所述外周面共同界定出所述第一環(huán)形凹槽，所述環(huán)形槽面形成有多個出氣孔，各所述通氣管與對應(yīng)的出氣孔相連通并可透過對應(yīng)的出氣孔輸送氣體至所述第一環(huán)形凹槽內(nèi)。
[0010]較佳地，所述框架還包含一凸設(shè)于所述環(huán)形端面的圍繞壁，所述真空壓力烘烤設(shè)備還包含多個環(huán)設(shè)于所述圍繞壁的頂推裝置，各所述頂推裝置包括一頂推件，所述頂推件可沿著一相反于所述出氣方向的頂推方向頂推所述箱門，以使所述第二氣密墊圈迫緊于所述框架的環(huán)形端面。
[0011]較佳地，所述圍繞壁包含一與所述環(huán)形端面相連接的圍壁部，及多個擋止壁部，所述圍壁部具有一內(nèi)壁面，所述的多個擋止壁部凸設(shè)于所述內(nèi)壁面并與所述環(huán)形端面之間形成一溝槽，每兩個相鄰的擋止壁部之間形成有一與所述溝槽相連通的穿槽，所述箱門還包括一具有所述封閉面的門板，所述門板具有多個位于周緣且彼此相間隔的凸伸部，各所述凸伸部可通過對應(yīng)的所述穿槽穿伸至所述溝槽內(nèi)，所述門板可相對于所述圍繞壁轉(zhuǎn)動以使各所述凸伸部移動至對應(yīng)的擋止壁部與環(huán)形端面之間，各所述頂推裝置為一設(shè)置于對應(yīng)的擋止壁部上的氣壓缸，各所述頂推裝置的頂推件用以頂推對應(yīng)的凸伸部。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的真空壓力烘烤設(shè)備通過各通氣管透過對應(yīng)的出氣孔沿著出氣方向輸送氣體至第一環(huán)形凹槽內(nèi)，以頂推第一氣密墊圈使其移動至迫緊于封閉面的迫緊位置，從而，箱門的門板與框架之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止充氣過程中腔室內(nèi)的氣體泄漏至外部。此外，腔室抽真空時，通過腔室內(nèi)的吸力帶動箱門的門板往環(huán)形端面的方向靠近，第二氣密墊圈會迫緊于環(huán)形端面上，使得箱門的門板與框架之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止腔室抽真空時外部氣體流入腔室內(nèi)。
[0013]通過以下的描述并結(jié)合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的立體圖，說明箱門的門板在關(guān)閉位置。
[0015]圖2為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的示意圖，說明烤箱、氣體供應(yīng)裝置、抽真空裝置以及控制裝置之間的連接關(guān)系。
[0016]圖3為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的立體分解圖，說明烤箱與箱門之間的組裝關(guān)系。
[0017]圖4為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的箱門的立體分解圖，說明箱門的門板與第二氣密墊圈之間的組裝關(guān)系。
[0018]圖5為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的俯視圖，說明箱門的門板在開
啟位置。
[0019]圖6為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的局部俯視放大圖，說明箱門的門板在關(guān)閉位置。
[0020]圖7為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的前視圖，說明門板的凸伸部通過對應(yīng)的穿槽穿伸至溝槽內(nèi)。
[0021]圖8為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的前視圖，說明握把帶動門板的各凸伸部轉(zhuǎn)動至對應(yīng)的擋止壁部與環(huán)形端面之間。
[0022]圖9為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的局部剖視示意圖，說明第一氣密墊圈位在與封閉面相間隔的初始位置。
[0023]圖10為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的局部剖視示意圖，說明通氣管排出至出氣孔的氣體將第一氣密墊圈推擠至迫緊于封閉面的迫緊位置。
[0024]圖11為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的局部剖視示意圖，說明頂推件的頂推柱頂推門板的凸伸部，使第二氣密墊圈迫緊于框架的環(huán)形端面。
[0025]圖12為本新型真空壓力烘烤設(shè)備的一較佳實施例的局部剖視示意圖，說明頂推件的頂推柱頂推門板的凸伸部，使第二氣密墊圈與環(huán)形端面分離。
【具體實施方式】
[0026]現(xiàn)在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標號代表類似的元件。
[0027]參閱圖1與圖2，是本新型真空壓力烘烤設(shè)備之一較佳實施例，該真空壓力烘烤設(shè)備100是應(yīng)用于晶圓的烘烤制程，真空壓力烘烤設(shè)備100包含一烤箱1、一箱門2、一氣體供應(yīng)裝置3、一抽真空裝置4，及一控制裝置5。
[0028]參閱圖2、圖3與圖4，烤箱I包括一箱體11、一設(shè)置于箱體11前端的框架12，及一設(shè)置于框架12的第一氣密墊圈14。箱體11形成一用以容置晶圓的腔室111，框架12包含一呈環(huán)形狀的架本體120，架本體120形成一使腔室111與外部相連通的開口 121，框架12的架本體120包括一呈圓環(huán)狀的環(huán)形端面122，環(huán)形端面122凹陷形成一用以供第一氣密墊圈14容置的第一環(huán)形凹槽123，第一氣密墊圈14是由例如為橡膠或硅膠等彈性材質(zhì)所制成。
[0029]箱門2設(shè)置于框架12并且可開啟地封閉開口 121，箱門2包括一樞接臂21、一門板22、一第二氣密墊圈23，及一握把24。樞接臂21的一端可轉(zhuǎn)動地樞接于框架12的一轉(zhuǎn)軸124，門板22可轉(zhuǎn)動地樞接于樞接臂21的另一端，握把24與門板22相連接并且可帶動門板22相對于樞接臂21旋轉(zhuǎn)。門板22具有一面向環(huán)形端面122并可封閉開口 121的封閉面221，封閉面221凹陷形成一用以供第二氣密墊圈23容置的第二環(huán)形凹槽222，第二氣密墊圈23是由例如為橡膠或硅膠等彈性材質(zhì)所制成。箱門2的樞接臂21可帶動門板22在一與框架12分離的開啟位置(如圖5所示)，以及一使封閉面221封閉開口 121的關(guān)閉位置(如圖1所示)之間旋轉(zhuǎn)。
[0030]氣體供應(yīng)裝置3包括一與箱體11相連接的進氣管31、一可透過進氣管31輸送氣體至腔室111內(nèi)的氣壓源32，及一與箱體11相連接用以將腔室111內(nèi)的氣體排出的排氣管33。抽真空裝置4包括一與箱體11相連接的抽氣管41，及一可透過抽氣管41對腔室111抽真空的真空幫浦42?？刂蒲b置5包括一控制單元51，一設(shè)置于進氣管31的進氣控制閥52、一設(shè)置于排氣管33的第一排氣控制閥53，及一設(shè)置于抽氣管41的第二排氣控制閥54。
[0031]控制裝置5的一壓力感測組件55設(shè)置于箱體11用以感測腔室111內(nèi)的氣體壓力值，壓力感測組件55可將感測訊號傳輸至控制單元51?？刂茊卧?1可依據(jù)感測訊號判斷腔室111內(nèi)的氣體壓力狀況，通過這樣，控制單元51可分別控制進氣控制閥52及第一排氣控制閥53的開啟或關(guān)閉，以將腔室111內(nèi)的氣體壓力調(diào)整至所需的壓力狀態(tài)?？刂蒲b置5的一真空壓力感測組件56設(shè)置于箱體11用以感測腔室111內(nèi)的真空壓力值，真空壓力感測組件56可將感測訊號傳輸至控制單元51。控制單元51可依據(jù)感測訊號判斷腔室111內(nèi)的真空壓力狀況，通過這樣，控制單元51可控制第二排氣控制閥54的開啟或關(guān)閉，以將腔室111內(nèi)的真空壓力調(diào)整至所需的壓力狀態(tài)。
[0032]當控制單元51控制進氣控制閥52開啟，使氣壓源32所提供的氣體透過進氣管31對腔室111充氣時，第一氣密墊圈14會抵接于箱門2的門板22的封閉面221，使得箱門2的門板22與框架12之間保持良好的氣密狀態(tài)，通過這樣，以防止充氣過程中腔室111內(nèi)的氣體泄漏至外部。當控制單元51控制第二排氣控制閥54開啟，使真空幫浦42透過抽氣管41對腔室111抽真空時，第二氣密墊圈23會抵接于框架12的環(huán)形端面122，使得箱門2的門板22與框架12之間保持良好的氣密狀態(tài)，通過這樣，以防止抽真空過程中外部氣體經(jīng)由開口 121流入腔室111內(nèi)。
[0033]以下將針對真空壓力烘烤設(shè)備100的具體構(gòu)造進行詳細說明:
[0034]參閱圖3、圖6、圖7與圖8，烤箱I的框架12還包含一凸設(shè)于環(huán)形端面122的圍繞壁125，圍繞壁125包括一與環(huán)形端面122相連接的圍壁部126，及多個擋止壁部127，圍壁部126具有一內(nèi)壁面128，該等擋止壁部127凸設(shè)于內(nèi)壁面128并與環(huán)形端面122相間隔，多個擋止壁部127與環(huán)形端面122之間形成有一溝槽129，每兩個相鄰的擋止壁部127之間形成有一與溝槽129相連通的穿槽130。箱門2的門板22還具有一外周緣223，及多個凸設(shè)于外周緣223且彼此相間隔的凸伸部224，各凸伸部224可通過對應(yīng)的穿槽130穿伸入溝槽129內(nèi)。
[0035]欲將箱門2的門板22由開啟位置旋轉(zhuǎn)至關(guān)閉位置時，沿箭頭V方向推動箱門2的握把24，使樞接臂21帶動門板22相對于框架12旋轉(zhuǎn)。門板22旋轉(zhuǎn)過程中各凸伸部224會通過對應(yīng)的穿槽130穿伸入溝槽129內(nèi)，當?shù)诙饷軌|圈23抵接于框架12的環(huán)形端面122時，門板22即位在關(guān)閉位置。接著，沿箭頭VI旋轉(zhuǎn)握把24使其轉(zhuǎn)動一適當角度，以帶動門板22的各凸伸部224轉(zhuǎn)動至對應(yīng)的擋止壁部127與環(huán)形端面122之間，此時，門板22即固定在關(guān)閉位置。
[0036]參閱圖6、圖9與圖10，烤箱I還包括多個通氣管15，各通氣管15穿設(shè)于箱體11并且連接固定于框架12的架本體120，各通氣管15可沿著一朝向封閉面221的出氣方向I輸送氣體至第一環(huán)形凹槽123內(nèi)，以頂推第一氣密墊圈14使其迫緊封閉面221，通過這樣，使得箱門2的門板22與框架12之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止充氣過程中腔室111內(nèi)的氣體泄漏至外部。
[0037]具體而言，框架12的架本體120還包括一與環(huán)形端面122相間隔的環(huán)形槽面131、一連接于環(huán)形槽面131與環(huán)形端面122之間的內(nèi)周面132，及一連接于環(huán)形槽面131與環(huán)形端面122之間且間隔位于內(nèi)周面132外側(cè)的外周面133，環(huán)形槽面131、內(nèi)周面132以及外周面133共同界定出第一環(huán)形凹槽123。環(huán)形槽面131形成有多個出氣孔134，各通氣管15與對應(yīng)的出氣孔134相連通并可透過對應(yīng)的出氣孔134輸送氣體至第一環(huán)形凹槽123內(nèi)，通過這樣，經(jīng)由出氣孔134排出的氣體會沿著出氣方向I頂推第一氣密墊圈14，使得第一氣密墊圈14部分凸伸出環(huán)形端面122并迫緊于封閉面221。[0038]參閱圖2、圖6、圖9與圖10，當控制單元51控制進氣控制閥52開啟，使氣壓源32所提供的氣體透過進氣管31對腔室111充氣加壓時，腔室111內(nèi)的氣體會將箱門2的門板22往遠離環(huán)形端面122的方向頂撐。通過各出氣孔134排出的氣體沿著出氣方向I頂推第一氣密墊圈14，使得第一氣密墊圈14會由一與封閉面221相間隔的初始位置移動至一迫緊位置，在迫緊位置時，第一氣密墊圈14部分凸伸出環(huán)形端面122并迫緊于封閉面221，通過這樣，箱門2的門板22與框架12之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止充氣過程中腔室111內(nèi)的氣體泄漏至外部。此外，通過內(nèi)周面132及外周面133分別位于第一氣密墊圈14的內(nèi)側(cè)及外側(cè)的設(shè)計方式，確保第一氣密墊圈14移動至迫緊位置時仍能穩(wěn)固地定位在第一環(huán)形凹槽123內(nèi)，以防止第一氣密墊圈14受到氣體的擠壓而產(chǎn)生位移或變形的情形。
[0039]參閱圖2、圖6與圖9，當控制單元51控制第二排氣控制閥54開啟，使真空幫浦42透過抽氣管41對腔室111抽真空時，腔室111內(nèi)的吸力會帶動箱門2的門板22往環(huán)形端面122的方向靠近，使第二氣密墊圈23迫緊于環(huán)形端面122上。在本實施例中，由于第二氣密墊圈23的外徑小于第一氣密墊圈14的外徑，且第二氣密墊圈23間隔位于第一氣密墊圈14內(nèi)側(cè)，因此，箱門2的門板22與框架12之間能保持良好的氣密狀態(tài)，并且能避免腔室111在抽真空的過程中同時對第一環(huán)形凹槽123、出氣孔134以及通氣管15進行抽氣。
[0040]參閱圖3、圖8與圖11，由于箱門2的重量重，因此，為了避免腔室111抽真空的過程中因吸力不足而導(dǎo)致第二氣密墊圈23無法緊密地迫緊于環(huán)形端面122上，進而影響腔室111內(nèi)的真空度，較佳地，在本實施中，真空壓力烘烤設(shè)備100還包含多個環(huán)設(shè)于圍繞壁125的頂推裝置6。各頂推裝置6包括一頂推件61，頂推件62可沿著一相反于出氣方向1(如圖10所示)的頂推方向II頂推箱門2的門板22，以使第二氣密墊圈23能確實地迫緊于框架12的環(huán)形端面122上。
[0041]具體而言，本實施例的頂推裝置6數(shù)量為三個，各頂推裝置6為一氣壓缸，各頂推裝置6包括一設(shè)置于圍壁部126外壁面以及對應(yīng)的擋止壁部127上的氣缸體60，氣缸體60用以驅(qū)使頂推件61沿頂推方向II移動。頂推件61具有兩根穿設(shè)于對應(yīng)的擋止壁部127的頂推柱611，各頂推柱611用以頂推門板22的對應(yīng)凸伸部224，使得門板22及第二氣密墊圈23能朝環(huán)形端面122方向迫緊。
[0042]參閱圖3、圖7與圖12，欲將箱門2由關(guān)閉位置開啟時，沿箭頭VII方向旋轉(zhuǎn)握把24使其轉(zhuǎn)動一適當角度，以帶動門板22的各凸伸部224轉(zhuǎn)動至與對應(yīng)的穿槽130對齊的位置。為了便于將箱門2的門板22開啟，真空壓力烘烤設(shè)備100還包含兩個設(shè)置于框架12的架本體120上且位于相反側(cè)的頂推氣缸7，各頂推氣缸7包括一氣缸體70，及一頂推件71，氣缸體70用以驅(qū)使頂推件71沿著一與頂推方向II (如圖11所示)相反的頂離方向III移動。頂推件71具有多根穿設(shè)于架本體120的頂推柱711，各頂推柱711用以頂推門板22的對應(yīng)凸伸部224。當氣缸體70驅(qū)使頂推件71沿頂離方向III移動時，頂推柱711會將凸伸部224頂離溝槽129及對應(yīng)的穿槽130，使得第二氣密墊圈23與環(huán)形端面122分離，以解除第二氣密墊圈23迫緊接觸于環(huán)形端面122的狀態(tài)，接著，使用者便能輕易地將箱門2的門板22旋轉(zhuǎn)至開啟位置。
[0043]綜上所述，本實施例的真空壓力烘烤設(shè)備100，通過各通氣管15透過對應(yīng)的出氣孔134沿著出氣方向I輸送氣體至第一環(huán)形凹槽123內(nèi)，以頂推第一氣密墊圈14使其移動至迫緊于封閉面221的迫緊位置，這樣一來，箱門2的門板22與框架12之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止充氣過程中腔室111內(nèi)的氣體泄漏至外部。此外，真空幫浦42透過抽氣管41對腔室111抽真空時，通過腔室111內(nèi)的吸力帶動箱門2的門板22往環(huán)形端面122的方向靠近，第二氣密墊圈23會迫緊于環(huán)形端面122上，使得箱門2的門板22與框架12之間能保持良好的氣密狀態(tài)，以防止腔室111抽真空時外部氣體流入腔室111內(nèi)，故確實能達成本新型的目的。
[0044]以上結(jié)合最佳實施例對本實用新型進行了描述，但本實用新型并不局限于以上揭示的實施例，而應(yīng)當涵蓋各種根據(jù)本實用新型的本質(zhì)進行的修改、等效組合。
【權(quán)利要求】
1.一種真空壓力烘烤設(shè)備，包括: 一烤箱，形成一腔室，及一使所述腔室與外部相連通的開口，所述烤箱包括一界定出所述開口的框架，及一第一氣密墊圈，所述框架包含一呈圓環(huán)狀的環(huán)形端面，所述環(huán)形端面凹陷形成一用以供所述第一氣密墊圈容置的第一環(huán)形凹槽；及 一箱門，設(shè)置于所述框架并且可開啟地封閉所述開口，所述箱門包括一面向所述環(huán)形端面并可封閉所述開口的封閉面，及一第二氣密墊圈，所述封閉面凹陷形成一用以供所述第二氣密墊圈容置的第二環(huán)形凹槽，所述第一氣密墊圈用以抵接于所述封閉面以防止所述腔室內(nèi)充氣時氣體泄漏至外部，所述第二氣密墊圈用以抵接于所述環(huán)形端面以防止所述腔室抽真空時外部氣體流入所述腔室內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述烤箱還包括多個連接于所述框架的通氣管，各所述通氣管可沿著一朝向所述封閉面的出氣方向輸送氣體至所述第一環(huán)形凹槽內(nèi)，以頂推所述第一氣密墊圈使其迫緊所述封閉面。
3.如權(quán)利要求2所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述第一氣密墊圈可由一與所述封閉面相間隔的初始位置移動至一迫緊位置，在所述的迫緊位置時，所述第一氣密墊圈部分凸伸出所述環(huán)形端面并迫緊于所述封閉面。
4.如權(quán)利要求3所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述第二氣密墊圈的外徑小于所述第一氣密墊圈的外徑，所述第二氣密墊圈間隔位于所述第一氣密墊圈內(nèi)側(cè)，所述第二氣密墊圈部分凸伸出所述封閉面。
5.如權(quán)利要求4所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述框架還包含一與所述環(huán)形端面相間隔的環(huán)形槽面、一連接于所述環(huán)形槽面與所述環(huán)形端面之間的內(nèi)周面，及一連接于所述環(huán)形槽面與所述環(huán)形端面之間且間隔位于所述內(nèi)周面外側(cè)的外周面，所述環(huán)形槽面、所述內(nèi)周面以及所述外周面共同界定出所述第一環(huán)形凹槽，所述環(huán)形槽面形成有多個出氣孔，各所述通氣管與對應(yīng)的出氣孔相連通并可透過對應(yīng)的出氣孔輸送氣體至所述第一環(huán)形凹槽內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述框架還包含一凸設(shè)于所述環(huán)形端面的圍繞壁，所述真空壓力烘烤設(shè)備還包含多個環(huán)設(shè)于所述圍繞壁的頂推裝置，各所述頂推裝置包括一頂推件，所述頂推件可沿著一相反于所述出氣方向的頂推方向頂推所述箱門，以使所述第二氣密墊圈迫緊于所述框架的環(huán)形端面。
7.如權(quán)利要求6所述的真空壓力烘烤設(shè)備，其特征在于:所述圍繞壁包含一與所述環(huán)形端面相連接的圍壁部，及多個擋止壁部，所述圍壁部具有一內(nèi)壁面，所述的多個擋止壁部凸設(shè)于所述內(nèi)壁面并與所述環(huán)形端面之間形成一溝槽，每兩個相鄰的擋止壁部之間形成有一與所述溝槽相連通的穿槽，所述箱門還包括一具有所述封閉面的門板，所述門板具有多個位于周緣且彼此相間隔的凸伸部，各所述凸伸部可通過對應(yīng)的所述穿槽穿伸至所述溝槽內(nèi)，所述門板可相對于所述圍繞壁轉(zhuǎn)動以使各所述凸伸部移動至對應(yīng)的擋止壁部與環(huán)形端面之間，各所述頂推裝置為一設(shè)置于對應(yīng)的擋止壁部上的氣壓缸，各所述頂推裝置的頂推件用以頂推對應(yīng)的凸伸部。
【文檔編號】F26B25/12GK203550506SQ201320433514
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年7月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月19日
【發(fā)明者】賴志勇, 賴智忠, 邱敬軒 申請人:志圣工業(yè)股份有限公司