專利名稱：一種電阻區(qū)熔爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬金屬冶煉技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電阻區(qū)熔爐。
背景技術(shù)：
常規(guī)區(qū)熔爐一般由剛性爐室、爐室支架、底座、傳動機構(gòu)、真空系統(tǒng)等構(gòu)成，均體積 比較龐大，造價很高，結(jié)構(gòu)、價格不適合實驗室用，目前在我們國內(nèi)，專門用于實驗室還沒有 結(jié)構(gòu)小巧方便實用的區(qū)熔爐。

發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種電阻區(qū)熔爐，其可以克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，非常適 合于科研院所、高校、實驗室用。 為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取以下設(shè)計方案 —種電阻區(qū)熔爐，其包括有區(qū)熔爐工作臺架、由工作臺架支承的玻璃管爐體和一 加熱裝置，至少與玻璃管爐體的一端口連接一真空系統(tǒng)裝置；所述的加熱裝置采用電阻爐， 該電阻爐中的耐高溫陶瓷縫管內(nèi)均勻分布高溫電阻絲；所述的區(qū)熔爐工作臺架由支承玻璃 管爐體的前、后支架及底座組成；在玻璃管爐體的一側(cè)，電阻爐通過一移動支座沿固定在地 面或底座上的導(dǎo)軌滑行；該移動支座的移動受控于一電機帶動絲杠轉(zhuǎn)動的傳動裝置。 所述夾置玻璃管爐體的前、后支架均采用高度可調(diào)的支架；在底架四周設(shè)可進(jìn)行 底架調(diào)平的調(diào)整角。 本實用新型電阻區(qū)熔爐結(jié)構(gòu)小巧簡單，實用可靠，重量輕，造價低，可廣泛應(yīng)用于
各科研院所、實驗室。 本實用新型的優(yōu)點是 1、采用耐高溫陶瓷縫管內(nèi)均勻分布高溫電阻絲的電阻爐作為電阻區(qū)熔爐的加熱 裝置，具有合理的熱場分布，結(jié)構(gòu)緊湊，發(fā)熱均勻，熱效率高，且被加工工件的高度可調(diào)，可 以達(dá)到理想的加工位置，使得加熱效果更佳。 2、采用FJ-110型分子泵機組，且設(shè)計通過快卸法蘭用波紋管與爐尾直接相連，使 得結(jié)構(gòu)緊湊，抽速快且真空度高。 3、爐門采用端蓋與螺母的組合，結(jié)構(gòu)簡單，制造周期短、機械加工量小，拆裝便捷、 易于操作、重量輕、裝配與運輸方便。

圖1為本實用新型電阻區(qū)熔爐結(jié)構(gòu)示意圖(主視) 圖2為加熱裝置電阻爐的耐高溫陶瓷管結(jié)構(gòu)示意圖(橫截面)
具體實施方式如圖l所示，本實用新型電阻區(qū)熔爐其包括有區(qū)熔爐工作臺架、由工作臺架支承的玻璃管爐體10和一加熱裝置2，至少與玻璃管爐體的一端口連接一真空系統(tǒng)裝置。 所述的區(qū)熔爐工作臺架由支承玻璃管爐體的前、后支架1、4及底座6聯(lián)置組成。 所述的前、后支架均可采用高度可調(diào)的支架；在底座四角周圍設(shè)可進(jìn)行底架調(diào)平的調(diào)整角 11。 本實用新型電阻區(qū)熔爐采用的加熱裝置為一電阻爐2，該電阻爐中的耐高溫陶瓷 縫管內(nèi)(如圖2所示)均勻分布高溫電阻絲21，電阻爐內(nèi)置隔熱套可以有效的防止熱損失， 對于低熔點金屬的提純有很好的效果，圖中的22為開設(shè)的進(jìn)出口 。 在玻璃管爐體10的一側(cè)，電阻爐通過一移動支座3可沿固定在地面或底座上的導(dǎo) 軌9滑行；該移動支座的移動受控于一電機，該電機采用步進(jìn)電機7來帶動絲杠8傳動，本 實施例中可使電阻爐的移動速度達(dá)到O. lmm-10mm/min，隨著移動支座3沿導(dǎo)軌9的滑行，電 阻爐可以均勻的對玻璃管爐體10中的被加工金屬進(jìn)行加熱。 本實施例中，真空系統(tǒng)可采用FJ-110型分子泵機組12，其前級是RVP-4型機械泵， 再連接渦輪分子泵，經(jīng)波紋管與玻璃管爐體一端口部接通，設(shè)置隔斷放氣閥。由分子泵電 源、控制電源直接控制該分子泵機組。可以是通過快卸法蘭14用波紋管15與爐尾5直接 相連，這樣的設(shè)計使得結(jié)構(gòu)緊湊，布局合理，抽速快，用時短，真空度高，提純過程中產(chǎn)生的 廢氣、雜質(zhì)氣體通過分子泵可順利得抽走。 所述玻璃管爐體的爐門采用端蓋結(jié)構(gòu)，通過螺母封在爐體的尾部。在爐門與爐尾 間疊置有螺母狀壓帽、壓套、四氟壓環(huán)和0型密封圈，以實現(xiàn)爐門和玻璃管爐體的連接與密 封。爐門采用端蓋與螺母的組合，非常簡單易行。與傳統(tǒng)的區(qū)熔爐爐尾相比具有結(jié)構(gòu)簡單， 制造周期短、機械加工量小、以及拆裝便捷、易于操作、重量輕、裝配與運輸方便等優(yōu)點。 在爐尾(熱電偶插孔13處)設(shè)有進(jìn)行溫度顯示和控溫的熱電偶，該熱電偶采用鴇 錸熱電偶為佳。 本實用新型電阻區(qū)熔爐采用前、后兩個高度可調(diào)的支架支承玻璃管爐體，使得被 加熱的工件能夠位于最佳加熱位置，結(jié)構(gòu)簡單實用。 本實用新型電阻區(qū)熔爐通過調(diào)整前、后支架的高度而改變加工件的高度，使其更 均勻的受熱，提升了加工件的產(chǎn)品質(zhì)量。 上述各實施例可在不脫離本實用新型的范圍下加以若干變化，故以上的說明所包 含及附圖中所示的結(jié)構(gòu)應(yīng)視為例示性，而非用以限制本實用新型的申請專利范圍。
權(quán)利要求一種電阻區(qū)熔爐，其包括有區(qū)熔爐工作臺架、由工作臺架支承的玻璃管爐體和一加熱裝置，至少與玻璃管爐體的一端口連接一真空系統(tǒng)裝置；其特征在于所述的加熱裝置采用電阻爐，該電阻爐中的耐高溫陶瓷縫管內(nèi)均勻分布高溫電阻絲；所述的區(qū)熔爐工作臺架由支承玻璃管爐體的前、后支架及底座組成；在玻璃管的一側(cè)，電阻爐通過一移動支座沿固定在地面或底座上的導(dǎo)軌滑行；該移動支座的移動受控于一電機帶動絲杠轉(zhuǎn)動的傳動裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電阻區(qū)熔爐，其特征在于所述夾置玻璃管爐體的前、后支架 均采用高度可調(diào)的支架。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻區(qū)熔爐，其特征在于在底架四周設(shè)可進(jìn)行底架調(diào)平的 調(diào)整角。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻區(qū)熔爐，其特征在于所述的真空系統(tǒng)裝置采用分子泵 機組，其前級是機械泵，再連接渦輪分子泵，經(jīng)波紋管與爐尾接通。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻區(qū)熔爐，其特征在于所述玻璃管爐體的爐門采用端蓋 結(jié)構(gòu)，通過螺母封在爐體的尾部。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的電阻區(qū)熔爐，其特征在于所述玻璃管爐體的爐門與爐尾間 疊置有螺母狀壓帽、壓套、四氟壓環(huán)和0型密封圈。
專利摘要本實用新型公開了一種電阻區(qū)熔爐，其包括有區(qū)熔爐工作臺架、由工作臺架支承的玻璃管爐體和一加熱裝置，至少與玻璃管爐體的一端口連接一真空系統(tǒng)裝置；所述的加熱裝置采用電阻爐，該電阻爐中的耐高溫陶瓷縫管內(nèi)均勻分布高溫電阻絲；所述的區(qū)熔爐工作臺架由支承玻璃管爐體的前、后支架及底座組成；在玻璃管爐體的一側(cè)，電阻爐通過一移動支座沿固定在地面或底座上的導(dǎo)軌滑行；該移動支座的移動受控于一電機帶動絲杠轉(zhuǎn)動的傳動裝置。其具有合理的熱場分布，結(jié)構(gòu)緊湊，發(fā)熱均勻，熱效率高。
文檔編號F27B17/02GK201517889SQ200920246269
公開日2010年6月30日 申請日期2009年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月16日
發(fā)明者周新明, 王軒, 高亞杰 申請人:北京有色金屬研究總院