本實用新型主要涉及電暈裝置,尤其涉及應(yīng)用于印刷行業(yè)的一種電暈打磨裝置。
背景技術(shù):
通常在書籍的封面、紙盒的外表面覆膜是為了提高印刷品表面的光澤度及美觀性,同時又能在產(chǎn)品生產(chǎn)及使用過程中提高印刷品的 耐磨性及防水性。
在印刷中產(chǎn)品覆膜是在印刷后,折疊和裁切之前進行,又因覆膜材料一般為塑料薄膜,表面高澤度高,待半成品進行糊盒工藝時,紙張因表面薄膜的存在,粗糙度降低。此外,電暈機一般是對薄膜類卷狀產(chǎn)品進行處理,無對覆膜半成品及對覆膜半成品特定位置的批量處理。這將導(dǎo)致腹膜后紙盒后期膠水涂布困難,紙盒黏貼不牢固,使產(chǎn)品容易開膠,降低了生產(chǎn)效率及成品率,提高了生產(chǎn)成本。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型提供一種電暈打磨裝置,對覆膜后紙盒特定位置進行電暈處理,為了達到上述目的,本實用新型采用以下技術(shù)方案:本實用新型包括有:走紙裝置1、傳送裝置2和電暈部件3,其特征在于:所述傳送裝置2設(shè)置在走紙裝置1下方,所述傳送裝置2與走紙裝置1平行,所述電暈部件3設(shè)置在傳送裝置2長邊一側(cè)下方,所述電暈部件3設(shè)置在遠離傳送裝置2輸出端的一側(cè)。
優(yōu)選的,還包括擋板I4、擋板II5和滑動桿6;所述擋板I4和擋板II5通過滑動桿6平行連接,所述滑動桿6與傳送裝置2輸送方向垂直,所述滑動桿3上活動連接有走紙裝置1。
優(yōu)選的,所述走紙裝置1包括:走紙軸承11、連接桿12、支架13、滑動塊14;所述走紙軸承11活動連接在連接桿12的一端,所述連接桿12的另一端固定在支架13上,所述連接桿12與支架13水平面垂直,所述滑動塊14固定在支架13遠離傳送裝置2輸送端的一側(cè),所述滑動塊14設(shè)置有水平通孔141,所述水平通孔141內(nèi)設(shè)置有滑動桿6,所述滑動塊14設(shè)置有豎直螺紋孔142,所述豎直螺紋孔142活動連接有固定螺栓143。
優(yōu)選的,所述走紙軸承11和連接桿12設(shè)置有多組。
優(yōu)選的,所述走紙裝置1設(shè)置有多組。
本實用新型的有益效果:本實用新型對覆膜后印刷品特定位置進行批量電暈處理,提高紙盒表面附著力,顯著提高上膠效果,提高生產(chǎn)效率及成品率。
附圖說明
圖1為本實用新型的電暈打磨裝置示意圖;
圖2為本實用新型的電暈打磨裝置的局部示意圖;
圖3為本實用新型的電暈打磨裝置的滑動塊示意圖;
圖4為本實用新型的電暈打磨裝置紙盒電暈處理后示意圖;
圖中,
1、走紙裝置,11、走紙軸承,12、連接桿,13、支架,14、滑動塊,141、水平通孔,142、豎直螺紋孔,143、固定螺栓;
2、傳送裝置;
3、電暈部件;
4、擋板I;
5、擋板II;
6、滑動桿;
7、紙盒。
具體實施方式
以下是本實用新型的具體實施例并結(jié)合附圖,對本實用新型的技術(shù)方案作進一步的描述,但本實用新型并不限于這些實例。
如圖1-4所示,本實用新型包括有:走紙裝置1、傳送裝置2和電暈部件3,其特征在于:所述傳送裝置2設(shè)置在走紙裝置1下方,所述傳送裝置2與走紙裝置1平行,所述電暈部件3設(shè)置在傳送裝置2長邊一側(cè)下方,所述電暈部件3設(shè)置在遠離傳送裝置2輸出端的一側(cè)。
在本實施中優(yōu)選的,還包括擋板I4、擋板II5和滑動桿6;所述擋板I4和擋板II5通過滑動桿6平行連接,所述滑動桿6與傳送裝置2輸送方向垂直,所述滑動桿3上活動連接有走紙裝置1。
在本實施中優(yōu)選的,所述走紙裝置1包括:走紙軸承11、連接桿12、支架13、滑動塊14;所述走紙軸承11活動連接在連接桿12的一端,所述連接桿12的另一端固定在支架13上,所述連接桿12與支架13水平面垂直,所述滑動塊14固定在支架13遠離傳送裝置2輸送端的一側(cè),所述滑動塊14設(shè)置有水平通孔141,所述水平通孔141內(nèi)設(shè)置有滑動桿6,所述滑動塊14設(shè)置有豎直螺紋孔142,所述豎直螺紋孔142活動連接有固定螺栓143。
在本實施中優(yōu)選的,所述走紙軸承11和連接桿12設(shè)置有多組。
在本實施中優(yōu)選的,所述走紙裝置1設(shè)置有多組。
使用中,紙盒7放置在傳送裝置2與走紙裝置1之間,紙盒7覆膜面朝下,并將紙盒7需要電暈的位置調(diào)整至電暈部件3的上方,紙盒7隨著傳送裝置2的前進,紙盒7完成電暈處理。
上述實施例僅例示性說明本專利申請的原理及其功效,而非用于限制本專利申請。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本專利申請的精神及范疇下,對上述實施例進行修飾或改變。因此,舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本專利申請所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應(yīng)由本專利請的權(quán)利要求所涵蓋。