聚酰亞胺薄膜熱處理爐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種聚酰亞胺薄膜熱處理爐。其技術(shù)方案是：爐體安裝在底座的上部，爐體內(nèi)部為加熱腔，加熱腔內(nèi)安裝兩排加熱管；所述底座的前后兩端分別設(shè)有放卷支架和收卷支架，爐體的前后兩端分別設(shè)有放卷入口和收卷出口；在放卷支架上安設(shè)放卷輥，在收卷支架上安設(shè)用于對膜面平整的磨砂包膠輥，聚酰亞胺薄膜經(jīng)過放卷輥、放卷入口進(jìn)入爐體內(nèi)部，穿過上加熱管和下加熱管之間進(jìn)行熱處理，并沿著收卷出口、磨砂包膠輥排出爐體。有益效果是：在通過加熱爐之后解決了原來不連續(xù)性壓痕和褶皺，不穩(wěn)定性、復(fù)合性差、剝離強(qiáng)度差、薄膜的卷曲等不穩(wěn)定問題，從而大大地加強(qiáng)了PI聚酰亞胺薄膜的親水性，使膠黏劑、金屬粘合性都有了很大程度的提高。
【專利說明】聚酰亞胺薄膜熱處理爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種聚酰亞胺薄膜生產(chǎn)裝置，特別涉及一種聚酰亞胺薄膜熱處理爐。
【背景技術(shù)】
[0002]聚酰亞胺薄膜以其優(yōu)異的機(jī)械性能、耐高溫性能、耐輻射性能、低介電常數(shù)和高電阻率等優(yōu)異性能，廣泛應(yīng)用于微電子行業(yè)作為介電空間層、金屬薄膜的保護(hù)覆蓋層和基材，尤其用于撓性覆銅板領(lǐng)域，然而PI聚酰亞胺薄膜因表面親水性，導(dǎo)致其與膠黏劑、金屬粘合性差，為了改善粘合性，有必要對PI聚酰亞胺薄膜表面進(jìn)行改善處理。在未出現(xiàn)熱處理爐之前，PI聚酰亞胺薄膜的通性，表面能低:主要體現(xiàn)在膜面平整度差、出現(xiàn)嚴(yán)重不均且不連續(xù)的壓痕和褶皺、復(fù)合性差、濕潤張力偏小，隨著亞胺化程度加深，表面接觸角逐漸增大，PI聚酰亞胺薄膜表面的極性會變?nèi)?；尺安偏大且不穩(wěn)定、靜電偏大、表面達(dá)因不均、結(jié)合力差、剝離強(qiáng)度低，會使PI聚酰亞胺薄膜親水性差，從而導(dǎo)致膠黏劑、金屬粘合性差。導(dǎo)致下游客戶的生產(chǎn)在壓合時(shí)變形、壓皺，造成不良品或直接報(bào)廢。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的就是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種聚酰亞胺薄膜熱處理爐，有效地改善了 PI聚酰亞胺薄膜表面的粘接性能，從而加強(qiáng)了下游客戶的使用率，并且減免了生產(chǎn)過程中造成不良品和報(bào)廢品的可能性。
[0004]其技術(shù)方案是:包括爐體、上加熱管、下加熱管、底座、放卷支架、放卷輥、放卷入口、磨砂包膠輥、收卷支架，所述的爐體安裝在底座的上部，底座采用槽鋼或方管組成，所述的爐體內(nèi)部為加熱腔，加熱腔內(nèi)安裝由多組上加熱管和多組下加熱管組成的兩排加熱裝置；所述底座的前后兩端分別設(shè)有放卷支架和收卷支架，爐體的前后兩端分別設(shè)有放卷入口和收卷出口 ；所述的放卷支架與底座連接，在放卷支架上安設(shè)放卷輥，在收卷支架上安設(shè)用于對膜面平整的磨砂包膠輥，聚酰亞胺薄膜經(jīng)過放卷輥、放卷入口進(jìn)入爐體內(nèi)部，穿過上加熱管和下加熱管之間進(jìn)行熱處理，并沿著收卷出口、磨砂包膠輥排出爐體。
[0005]在爐體的上部安裝用于抽取加熱爐中兩側(cè)上方的廢氣的抽風(fēng)罩。
[0006]上述的磨砂包膠輥的一側(cè)設(shè)有主動輥，主動輥的外側(cè)設(shè)有用于清除靜電的電磁噴氣輥。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果是:原來不連續(xù)性壓痕和褶皺，不穩(wěn)定性、復(fù)合性差、剝離強(qiáng)度差、薄膜的卷曲等不穩(wěn)定問題，在通過加熱爐之后都得到了解決，從而大大地加強(qiáng)了 PI聚酰亞胺薄膜的親水性，使膠黏劑、金屬粘合性都有了很大程度的提高；從而加強(qiáng)了下游客戶的使用率，并且減免了生產(chǎn)過程中造成不良品和報(bào)廢品的可能性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；[0009]附圖2是本實(shí)用新型的立體圖；
[0010]上圖中:爐體1、上加熱管2、下加熱管3、底座4、放卷支架5、放卷輥6、放卷入口 7、磨砂包膠輥8、收卷支架9、電磁噴氣輥10、主動輥11、聚酰亞胺薄膜12、加熱腔13、收卷出口 14。
【具體實(shí)施方式】
[0011]結(jié)合附圖1-2，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述:
[0012]本實(shí)用新型包括爐體1、上加熱管2、下加熱管3、底座4、放卷支架5、放卷輥6、放卷入口 7、磨砂包膠輥8、收卷支架9，所述的爐體I安裝在底座4的上部，底座采用槽鋼或方管組成，所述的爐體I內(nèi)部為加熱腔13，加熱腔13內(nèi)安裝由多組上加熱管2和多組下加熱管3組成的兩排加熱裝置；所述底座4的前后兩端分別設(shè)有放卷支架5和收卷支架9，爐體I的前后兩端分別設(shè)有放卷入口 7和收卷出口 14 ;所述的放卷支架5與底座連接，在放卷支架5上安設(shè)放卷輥6，在收卷支架9上安設(shè)用于對膜面平整的磨砂包膠輥8，聚酰亞胺薄膜12經(jīng)過放卷輥6、放卷入口 7進(jìn)入爐體I內(nèi)部，穿過上加熱管2和下加熱管3之間進(jìn)行熱處理，并沿著收卷出口 14、磨砂包膠輥8排出爐體I。
[0013]在爐體I的上部安裝用于抽取加熱爐中兩側(cè)上方的廢氣的抽風(fēng)罩。
[0014]上述的磨砂包膠輥8的一側(cè)設(shè)有主動輥11，主動輥11的外側(cè)設(shè)有用于清除靜電的電磁噴氣棍10,起到了低頻放電功能。
[0015]安裝并使用熱處理爐之后:
[0016](I)加熱爐的放卷入口與收卷出口 14分別安裝一根使用管長范圍為0—1200mm的導(dǎo)輥，也就是放卷輥6和磨砂包膠輥8，從而使PI聚酰亞胺薄膜平穩(wěn)的在加熱爐中均勻受熱且與加熱爐內(nèi)無任何接觸，減免了 PI聚酰亞胺薄膜在加熱爐中燙傷的可能性。
[0017]在加熱爐上部有一個(gè)抽風(fēng)罩不斷抽取加熱爐中兩側(cè)上方的廢氣，在內(nèi)部上下各有一排加熱管，可以增設(shè)防護(hù)罩，加強(qiáng)了此設(shè)備的安全性，通過溫度自動控制系統(tǒng)和內(nèi)部氣流外排把加熱爐內(nèi)部溫度均勻控制在200°C左右。原來嚴(yán)重影響客戶的不連續(xù)性壓痕和褶皺，不穩(wěn)定性、復(fù)合性差、剝離強(qiáng)度差、薄膜的卷曲等不穩(wěn)定問題，在通過加熱爐之后都得到了解決，從而大大地加強(qiáng)了 PI聚酰亞胺薄膜的親水性，使膠黏劑、金屬粘合性都有了很大程度的提聞。
[0018](2)等離子體處理電暈放電又稱低頻放電，是在大氣壓條件下產(chǎn)生的弱電流放電，是一種高電場強(qiáng)度、低離子密度的低溫等離子體。它是對距離很近的2個(gè)電極施加較高電壓，使電極間的氣體擊穿而產(chǎn)生的放電現(xiàn)象，放電時(shí)會生成臭氧自由基電子紫外線等，先對處理過程中產(chǎn)生的功能團(tuán)(羧基、羥基和氨基)進(jìn)行化學(xué)修飾，然后再利用X射線能譜儀(XPS)測定這些功能團(tuán)的總數(shù)，避免了其他類似功能團(tuán)的干擾。研究發(fā)現(xiàn)功能團(tuán)隨著電暈?zāi)芰吭龃蠖龆?，并在特定的能量處保持穩(wěn)定。同時(shí)考察了銅箔/膠粘劑/PI聚酰亞胺薄膜的粘接強(qiáng)度，其值從0.25N/mm增大到1.2N/mm。通過電暈處理后，使得PI聚酰亞胺薄膜表面能增大、接觸角變小、潤濕性提高，從而使粘合劑能均勻地浸潤到薄膜表面，提高薄膜粘接性能。
【權(quán)利要求】
1.一種聚酰亞胺薄膜熱處理爐，其特征是:包括爐體(I)、上加熱管(2)、下加熱管(3)、底座(4)、放卷支架(5)、放卷棍(6)、放卷入口(7)、磨砂包膠棍(8)、收卷支架(9),所述的爐體(I)安裝在底座(4)的上部，底座采用槽鋼或方管組成，所述的爐體(I)內(nèi)部為加熱腔(13)，加熱腔(13)內(nèi)安裝由多組上加熱管(2)和多組下加熱管(3)組成的兩排加熱裝置；所述底座(4)的前后兩端分別設(shè)有放卷支架(5)和收卷支架(9)，爐體(I)的前后兩端分別設(shè)有放卷入口(7)和收卷出口(14);所述的放卷支架(5)與底座連接，在放卷支架(5)上安設(shè)放卷輥(6)，在收卷支架(9)上安設(shè)用于對膜面平整的磨砂包膠輥(8)，聚酰亞胺薄膜(12)經(jīng)過放卷輥(6 )、放卷入口( 7 )進(jìn)入爐體(I)內(nèi)部，穿過上加熱管(2 )和下加熱管(3 )之間進(jìn)行熱處理,并沿著收卷出口( 14)、磨砂包膠輥(8 )排出爐體(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜熱處理爐，其特征是:在爐體(I)的上部安裝用于抽取加熱爐中兩側(cè)上方的廢氣的抽風(fēng)罩。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜熱處理爐，其特征是:所述的磨砂包膠輥(8)的一側(cè)設(shè)有主動輥(11)，主動輥(11)的外側(cè)設(shè)有用于清除靜電的電磁噴氣輥(10)。
【文檔編號】B29C71/02GK203805332SQ201420218297
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】宋茂泉, 孫蕾 申請人:山東眾鑫電子材料有限公司