一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其包含設(shè)置在卷點(diǎn)膜機(jī)平臺(tái)上的凹槽；卡槽凸出部件，其連接設(shè)置在所述的凹槽的其中一側(cè)側(cè)壁上；所述的卡槽凸出部件與凹槽的底部之間設(shè)置有間隙。當(dāng)卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜時(shí)，本實(shí)用新型能夠使得膜始終保持平直狀態(tài)，不會(huì)形成波浪形，保證膜與噴嘴之間的距離始終一致，使得點(diǎn)出的抗體線寬度均一；同時(shí)保證膜在運(yùn)行過(guò)程中不會(huì)被劃傷損壞；并且能夠及時(shí)觀察所點(diǎn)出的抗體線的位置距離是否正確。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種卡槽裝置，尤其是涉及一種適用于平臺(tái)式卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的平臺(tái)式卷點(diǎn)膜機(jī)是快速診斷試紙的專(zhuān)業(yè)制作儀器之一，其作用是將C/T線抗體噴點(diǎn)到膜介質(zhì)上。不同產(chǎn)品的c/τ線種類(lèi)是不一樣的，特別是T線，也稱(chēng)為檢測(cè)線，它的特異性要非常好。
[0003]在現(xiàn)有技術(shù)的點(diǎn)膜過(guò)程中，卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜，使得膜在平臺(tái)上勻速運(yùn)行，而噴頭就設(shè)置在膜的上端對(duì)其進(jìn)行c/τ線抗體的點(diǎn)膜。在這個(gè)過(guò)程中，由于卷膜的速度較快，導(dǎo)致膜在平臺(tái)上運(yùn)行時(shí)會(huì)形成波浪形，使得其和噴嘴之間的距離無(wú)法保持一致，而一旦當(dāng)膜和噴嘴之間的距離發(fā)生變化時(shí)，就無(wú)法保證點(diǎn)出寬度均一的c/τ線抗體。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，當(dāng)卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜時(shí)，使得膜能夠始終保持平直狀態(tài)，不會(huì)形成波浪形，保證膜與噴嘴之間的距離始終一致，使得點(diǎn)出的抗體線寬度均一。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是提供一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其包含設(shè)置在卷點(diǎn)膜機(jī)平臺(tái)上的凹槽；卡槽凸出部件，其連接設(shè)置在所述的凹槽的其中一側(cè)側(cè)壁上；所述的卡槽凸出部件與凹槽的底部之間設(shè)置有間隙。
[0006]所述的卡槽凸出部件與所述的凹槽的側(cè)壁相互垂直。
[0007]所述的卡槽凸出部件與凹槽的底部之間的間隙為0.3_。
[0008]所述的卡槽凸出部件的水平截面呈梯形。
[0009]所述的卡槽凸出部件的兩側(cè)頂角設(shè)置為圓弧頂角。
[0010]所述的卡槽凸出部件的寬度小于凹槽的寬度的一半。
[0011]本實(shí)用新型所提供的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，當(dāng)卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜時(shí)，使得膜能夠始終保持平直狀態(tài)，不會(huì)形成波浪形，保證膜與噴嘴之間的距離始終一致，使得點(diǎn)出的抗體線寬度均一；同時(shí)保證膜在運(yùn)行過(guò)程中不會(huì)被劃傷損壞；并且能夠及時(shí)觀察所點(diǎn)出的抗體線的位置距離是否正確。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置的俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0014]以下結(jié)合圖1和圖2，詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例。
[0015]如圖1所示，本實(shí)用新型所提供的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其包含設(shè)置在卷點(diǎn)膜機(jī)平臺(tái)上的凹槽I ;卡槽凸出部件2，其連接設(shè)置在所述的凹槽I的其中一側(cè)側(cè)壁上；所述的卡槽凸出部件2與凹槽I的底部之間設(shè)置有間隙。
[0016]所述的卡槽凸出部件2與所述的凹槽I的側(cè)壁相互垂直。
[0017]所述的卡槽凸出部件2與凹槽I的底部之間的間隙為0.3mm。
[0018]如圖2所示，所述的卡槽凸出部件2的水平截面呈梯形。
[0019]所述的卡槽凸出部件2的兩側(cè)頂角設(shè)置為圓弧頂角。
[0020]所述的卡槽凸出部件2的寬度小于凹槽I的寬度的一半。
[0021]在點(diǎn)膜過(guò)程中，由于設(shè)置了本實(shí)用新型所提供的卡槽裝置，膜在平臺(tái)上運(yùn)行時(shí)是從凹槽I和卡槽凸出部件2之間的間隙中通過(guò)的。由于膜受到卡槽凸出部件2的壓迫作用，當(dāng)卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜時(shí)，膜能夠始終保持平直狀態(tài)，而不會(huì)形成波浪形，從而能夠保證膜與噴嘴之間的距離始終一致，因此使得點(diǎn)出的抗體線寬度均一。
[0022]另外，由于本實(shí)用新型中，膜的厚度一般在0.25_左右，因而設(shè)置卡槽凸出部件2與凹槽I的底部之間的間隙為0.3mm，并且將卡槽凸出部件2的兩側(cè)頂角設(shè)置為圓弧頂角，這樣不僅能夠保證膜在運(yùn)行過(guò)程中不會(huì)被劃傷損壞，同時(shí)能更好的保證卷膜時(shí)的平整。
[0023]進(jìn)一步，本實(shí)用新型中在凹槽的一側(cè)側(cè)壁上設(shè)置卡槽凸出部件2，即該卡槽凸出部件2為單邊壓片，同時(shí)設(shè)置該卡槽凸出部件2的寬度小于凹槽I的寬度的一半，這樣能夠使得工作人員在點(diǎn)膜過(guò)程中，視線不被卡槽凸出部件2所遮擋，僅通過(guò)目視，就能看到所點(diǎn)出的抗體線的位置距離是否正確，如有錯(cuò)誤，能及時(shí)終止點(diǎn)膜，調(diào)整后再重新開(kāi)始，減少?gòu)U品。
[0024]綜上所述，本實(shí)用新型所提供的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，當(dāng)卷膜裝置在平臺(tái)一側(cè)以一定速度進(jìn)行卷膜時(shí)，使得膜能夠始終保持平直狀態(tài)，不會(huì)形成波浪形，保證膜與噴嘴之間的距離始終一致，使得點(diǎn)出的抗體線寬度均一；同時(shí)保證膜在運(yùn)行過(guò)程中不會(huì)被劃傷損壞；并且能夠及時(shí)觀察所點(diǎn)出的抗體線的位置距離是否正確。
[0025]盡管本實(shí)用新型的內(nèi)容已經(jīng)通過(guò)上述優(yōu)選實(shí)施例作了詳細(xì)介紹，但應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到上述的描述不應(yīng)被認(rèn)為是對(duì)本實(shí)用新型的限制。在本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀了上述內(nèi)容后，對(duì)于本實(shí)用新型的多種修改和替代都將是顯而易見(jiàn)的。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求來(lái)限定。
【權(quán)利要求】
1.一種適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，包含: 設(shè)置在卷點(diǎn)膜機(jī)平臺(tái)上的凹槽(I); 卡槽凸出部件(2)，其連接設(shè)置在所述的凹槽(I)的其中一側(cè)側(cè)壁上； 所述的卡槽凸出部件(2)與所述的凹槽(I)的底部之間設(shè)置有間隙。
2.如權(quán)利要求1所述的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，所述的卡槽凸出部件(2)與所述的凹槽(I)的側(cè)壁相互垂直。
3.如權(quán)利要求1所述的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，所述的卡槽凸出部件(2)與所述的凹槽(I)的底部之間的間隙為0.3mm。
4.如權(quán)利要求1所述的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，所述的卡槽凸出部件(2)的水平截面呈梯形。
5.如權(quán)利要求4所述的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，所述的卡槽凸出部件(2)的兩側(cè)頂角設(shè)置為圓弧頂角。
6.如權(quán)利要求1所述的適用于卷點(diǎn)膜機(jī)的卡槽裝置，其特征在于，所述的卡槽凸出部件(2)的寬度小于所述的凹槽(I)的寬度的一半。
【文檔編號(hào)】B65H23/34GK203991196SQ201420426954
【公開(kāi)日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月31日
【發(fā)明者】神谷敏昭 申請(qǐng)人:上海艾瑞德生物科技有限公司