專利名稱：傳送系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
在此公開的實施方式涉及一種傳送系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)公知一種用于傳送諸如半導體晶片或液晶面板之類的薄工件的機器人，以及一種用于通過檢測工件的取向而調(diào)整薄工件的調(diào)整器裝置。在下面的描述中，將調(diào)整器裝置稱作“基板定位裝置”。有時有這樣的情況， 在局部清潔的傳送室內(nèi)安裝多個機器人以便提高吞吐量。經(jīng)常有這樣的情況，即便在傳送室內(nèi)安裝多個機器人，在傳送室內(nèi)也僅布置一個基板定位裝置。已經(jīng)提出一種技術(shù)，該技術(shù)通過使用用于管理傳送室并控制機器人的操作的機器人控制裝置而控制多個機器人(例如參見日本專利申請2011-249726號公報)。在上述傳統(tǒng)的傳送系統(tǒng)中，多個機器人由一個機器人控制裝置控制。這造成施加給機器人控制裝置沉重負擔的問題。在額外安裝機器人以及基板定位裝置的情況下，需要改變機器人控制裝置的控制方法。因此，需要定制每種系統(tǒng)配置。

發(fā)明內(nèi)容
在此公開的實施方式提供一種能夠輕松應(yīng)對系統(tǒng)配置變化的傳送系統(tǒng)。根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種傳送系統(tǒng)，該傳送系統(tǒng)包括:基板定位裝置，該基板定位裝置包括能繞旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的安裝臺，所述基板定位裝置構(gòu)造成對置于所述安裝臺上的基板執(zhí)行位置校準；多個機器人，這些機器人構(gòu)造成將所述基板傳送至所述基板定位裝置以及從所述基板定位裝置傳送所述基板，這些機器人包括第一機器人與第二機器人；以及多個機器人控制裝置，這些機器人控制裝置以與所述多個機器人對應(yīng)的關(guān)系設(shè)置，并構(gòu)造成控制所述機器人的操作，這些機器人控制裝置包括第一機器人控制裝置與第二機器人控制裝置，所述第一機器人與所述基板定位裝置連接至所述第一機器人控制裝置，所述第二機器人連接至所述第二機器人控制裝置，其中，所述第一機器人控制裝置包括獲取單元以及傳輸單元，所述獲取單元構(gòu)造成從所述基板定位裝置至少獲取所述安裝臺的旋轉(zhuǎn)中心與被定位的所述基板的中心位置之間的絕對偏差量，所述傳輸單元構(gòu)造成向所述第二機器人所連接的所述第二機器人控制裝置傳輸基于由所述獲取單元獲取的所述絕對偏差量的校正信息。根據(jù)一個實施方式能輕松應(yīng)付系統(tǒng)配置的改變。


圖1是示出根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)的示意平面圖。圖2是示出根據(jù)本實施方式的機器人的示意立體圖。
圖3是示出根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)的框圖。圖4是示出基板定位裝置的示意平面圖。圖5是示出示教位置的圖。圖6是示出中心位置偏差量的圖。圖7是示出校正處理的處理順序的流程圖。
具體實施例方式現(xiàn)將參照形成本發(fā)明的一部分的附圖詳細描述在此公開的傳送系統(tǒng)的一個實施方式。然而，本發(fā)明不限于以下描述的實施方式。以下將借助實施例描述用于通過使用機器人傳送諸如半導體晶片之類的薄工件的傳送系統(tǒng)。薄工件將被稱作“晶片”。用于保持晶片的機器人的機器人手將被稱作“手”。首先，將參照圖1描述根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)I。圖1是示出根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)I的示意平面圖。在根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)I中，如圖1所示，分別為第一機器人10與第二機器人20設(shè)置第一機器人控制裝置30與第二機器人控制裝置40。第一機器人10與第二機器人20的操作分別由第一機器人控制裝置30與第二機器人控制裝置40控制。第一機器人控制裝置30也控制基板定位裝置50的操作。第一機器人控制裝置30可接收來自基板定位裝置50的信息，并且可將所述信息傳輸至第二機器人控制裝置40。如圖1所示，根據(jù)本實·施方式的傳送系統(tǒng)I包括主機設(shè)備60、第一機器人控制裝置30、第二機器人控制裝置40、第一機器人10、第二機器人20以及基板定位裝置50。第一機器人控制裝置30與第二機器人控制裝置40連接至主機設(shè)備60，并且可與主機設(shè)備60通信。第一機器人10與基板定位裝置50連接至第一機器人控制裝置30，并且可與第一機器人控制裝置30通信。第二機器人20連接至第二機器人控制裝置40，并且可與第一機器人控制裝置40通信。第二機器人控制裝置40連接至第一機器人控制裝置30，并且可與第一機器人控制裝置30通信。主機設(shè)備60是用于對傳送系統(tǒng)I執(zhí)行全面控制與管理的裝置。例如，主機設(shè)備60通過第一機器人控制裝置30指示第一機器人10卸載置于基板定位裝置50上的晶片3，并且將晶片3傳送至與傳送室2并排安裝的處理室6。第一機器人控制裝置30是用于控制第一機器人10的操作的控制器。第二機器人控制裝置40是用于控制第二機器人20的操作的控制器。第一機器人控制裝置30也控制用于定位晶片3的基板定位裝置50的操作。用于傳送晶片3的第一機器人10與第二機器人20以及基板定位裝置50被布置在傳送室2中。傳送室2是被稱做EFEM (設(shè)備前端模塊)的清潔室。用于凈化氣體的過濾器(未示出)設(shè)置在傳送室2上方。由所述過濾器凈化過的向下流動的潔凈氣流對傳送室2的內(nèi)部進行局部清潔。第一機器人控制裝置30與第二機器人控制裝置40可被布置在傳送室2內(nèi)。依照從連接至各自的機器人10與20的機器人控制裝置30與40發(fā)出的傳送指令，每個機器人10與20從與傳送室2并排布置的儲存容器5取出晶片3。然后,每個機器人10與20將晶片3帶至基板定位裝置50上，或者將晶片3傳送至目標位置。
儲存容器5是一種箱形容器，其能夠儲存沿高度方向呈多級式的多個晶片3。更具體地說，儲存容器5是由SEMI (半導體設(shè)備與材料國際)標準規(guī)定的所謂的FOUP (前端開啟式標準盒)。布置在傳送室2中的基板定位裝置50包括可繞旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的安裝臺51 (參見圖4)。當將晶片3置于安裝臺51上時，基板定位裝置50執(zhí)行定位晶片3的任務(wù)?；宥ㄎ谎b置50檢測由此定位的晶片3的中心位置并且將所檢測出的中心位置傳輸至第一機器人控制裝置30。隨后將參照圖4描述基板定位裝置50的細節(jié)。同時，第一機器人控制裝置30根據(jù)安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心與從基板定位裝置50接收的被定位的晶片3的中心位置之間的絕對偏差量計算校正信息。第一機器人控制裝置30根據(jù)由此計算的校正信息校正晶片3的卸載位置。當?shù)谝粰C器人10卸載置于基板定位裝置50上的晶片3時，第一機器人控制裝置30使第一機器人10移動至的晶片3的校正后的卸載位置。另一方面，當?shù)诙C器人20卸載置于基板定位裝置50上的晶片3時，傳送系統(tǒng)I以下面的方式使第二機器人20移動至晶片3的校正后的卸載位置。就這一點而言，基板定位裝置50僅連接至第一機器人控制裝置30。為此，第二機器人20關(guān)于第一機器人10的相對位置預存在第一機器人控制裝置30中。然后，第一機器人控制裝置30根據(jù)從基板定位裝置50接收的被定位的晶片3的中心位置與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心之間的絕對偏差量計算校正信息。隨后，第一機器人控制裝置30根據(jù)上述相對位置與所計算的校正信息校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置。第一機器人控制裝置30將校正后的卸載位置傳輸至第二機器人控制裝置40。同時，第二機器人控制裝置40使第二機器人20移動至晶片3的校正后的卸載位置。因此，即便第二機器人控制裝置40未連接至基板定位裝置50，第二機器人控制裝置40也可使第二機器人20移動至通過反應(yīng)被定位的晶片3的中心位置與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心之間的偏差量而限定的準確位置。在上述本實施方式的傳送系統(tǒng)中，機器人控制裝置設(shè)置至相應(yīng)的機器人從而控制所連接的機器人的操作。第一機器人與基板定位裝置所連接至的第一機器人控制裝置獲取所述旋轉(zhuǎn)中心與來自基板定位裝置的被定位的基板的中心位置之間的絕對偏差量。然后，第一機器人控制裝置根據(jù)基于上述相對位置與所獲取的絕對偏差量的校正信息而相對于第二機器人校正晶片3的卸載位置。第一機器人控制裝置將校正后的卸載位置傳輸至第二機器人所連接至的第二機器人控制裝置。第二機器人控制裝置使第二機器人移動至晶片3的校正后的卸載位置。因此，根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)可通過分散施加至各個機器人控制裝置的負擔而減少施加至各個機器人控制裝置的負擔。在根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)中，即便額外又安裝機器人和基板定位裝置，也不需要定制每個系統(tǒng)配置。因此可輕松應(yīng)對系統(tǒng)配置的改變。盡管在本實施方式中兩個機器人彼此共用一個基板定位裝置，但本發(fā)明并不限于此。例如，可采用三 個或更多個機器人彼此共用一個基板定位裝置的構(gòu)造。接著，將參照圖2詳細描述根據(jù)本實施方式的第一機器人10。圖2是示出根據(jù)本實施方式的第一機器人10的示意立體圖。在圖2中，為了容易描述，以局部簡化的形式示出機器人10。第二機器人20具有與第一機器人10相同的構(gòu)造。因此，將不予描述第二機器人20。如圖2中所示，第一機器人10是水平多關(guān)節(jié)機器人，其包括兩個關(guān)于各自的垂直軸線水平擺動的臂。更具體地說，第一機器人10包括主體單元12與臂單元13。臂單元13包括第一臂14、第二臂15以及手16，該手能夠保持作為待傳送的目標物的晶片3。臂單元13可水平旋轉(zhuǎn)地支撐在設(shè)置有升降機構(gòu)的主體單元12的上部。更具體地說，第一臂14的基端部可旋轉(zhuǎn)地連接至主體單元12的上部。第二臂15的基端部可旋轉(zhuǎn)地連接至第一臂14的末端部的上部。手16可旋轉(zhuǎn)地連接至第二臂15的末端部。第一臂14、第二臂15以及手16可相對于彼此旋轉(zhuǎn)，并且借助包括馬達與減速器的機構(gòu)旋轉(zhuǎn)。包括馬達與減速器的機構(gòu)可設(shè)置在主體單元12中，或者可布置在臂單元13內(nèi)。第一機器人10通過旋轉(zhuǎn)第一臂14、第二臂15以及手16而使手16移動至目標位置。第一機器人10可通過同步操作第一臂14與第二臂15而使手16線性運動。設(shè)置在主體單元12中的所述升降機構(gòu)包括直線運動引導裝置、滾珠絲杠以及馬達。升降機構(gòu)通過將馬達的旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)換為直線運動而使臂單元13沿垂直方向上下移動。所述升降機構(gòu)可利用沿垂直方向延伸的帶使臂單元13上下移動。通過這種構(gòu)造，第一機器人10可一邊垂直移動、旋轉(zhuǎn)臂單元13，一邊從基板定位裝置50卸載晶片3，傳送晶片3。第一機器人10可將晶片3搬運至處理室6，或可將晶片3傳送至目標位置。

處理室6是與傳送室2并排安裝的室。用于使晶片3經(jīng)受諸如CVD (化學氣相沉淀)、曝光、蝕刻、或灰化之類的預定處理的裝置布置在處理室6內(nèi)。盡管以上描述了具有一個臂單元13的第一機器人10，但是可采用包括兩個臂單元13的雙臂機器人，或包括三個臂或更多個臂單元13的機器人。在雙臂機器人的情況下，可同時執(zhí)行兩項任務(wù)，例如，一邊用一個臂單元13從預定傳送位置取出晶片3，一邊用另一個臂單元13裝載新晶片3至傳送位置。第一機器人10可具有兩個或更多個手16布置在第二臂15中的構(gòu)造。在此情況下，手16安裝在一個軸上以相對于彼此旋轉(zhuǎn)。接著，將參照圖3描述根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)I的構(gòu)造。圖3是示出根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)I的框圖。如圖3中所示，傳送系統(tǒng)I包括主機設(shè)備60、第一控制裝置30、第二控制裝置40、第一機器人10、第二機器人20以及基板定位裝置50。主機設(shè)備60是用于對傳送系統(tǒng)I執(zhí)行全面控制與管理的裝置。當晶片3被置于基板定位裝置50上時，基板定位裝置50執(zhí)行晶片3的定位。現(xiàn)在將參照圖4描述基板定位裝置50對晶片3的定位。圖4是示出基板定位裝置50的示意平面圖。在圖4中，為了容易描述，以局部簡化的形式示出了基板定位裝置50。將適當使用圖4的右上部區(qū)域中所示的坐標系做出以下描述。如圖4中所示，基板定位裝置50包括安裝臺51與傳感器單元52。安裝臺51可與置于安裝臺51上的晶片3 —起繞旋轉(zhuǎn)中心C旋轉(zhuǎn)(參見圖4中所示的箭頭)。安裝臺51借助包括馬達、減速器等的機構(gòu)旋轉(zhuǎn)。盡管圖4中未示出，但是基板定位裝置50可包括吸引單元，該吸引單元用于朝安裝臺51吸引晶片3。所述吸引單元以預定的保持力(即吸引力)保持晶片3，并且防止由離心力引起晶片3的不對準，由此提高定位精度?；宥ㄎ谎b置50可以是所謂的邊緣夾持型裝置，其通過夾持晶片3的外周邊緣而旋轉(zhuǎn)晶片3。傳感器單元52是用于檢測例如在晶片3的外周邊緣中形成的例如切口(在下文中稱作“凹口 4”)的檢測器單元。在本實施方式中，將通過實施例的方式描述由光學傳感器形成的傳感器單兀52。傳感器單元52包括光發(fā)射器(未示出)與光接收器(未示出)。所述發(fā)射器與所述光接收器以一間隙沿Z軸方向?qū)χ?，所述間隙用于使晶片3的外周邊緣在所述發(fā)射器與所述光接收器之間通過。所述光接收器接收從所述發(fā)射器發(fā)射的光。傳感器單元52根據(jù)在晶片3旋轉(zhuǎn)時阻斷從光發(fā)射器所發(fā)射的光而引起的光接收器接收到的光的變化，檢測凹口 4。盡管在這里描述了光學傳感器的使用，但是可攝取晶片3的圖像，并使用由此攝取的圖像檢測凹口 4。當從基板定位裝置50卸載、傳送晶片3，并將晶片搬運到預定處理室6時，需要對準晶片3的各自的晶軸方向。為此，基板定位裝置50需要使晶片3的凹口 4相對于卸載晶片3的機器人10或20沿預定方向取向。如果傳感器單元52檢測凹 口 4，那么基板定位裝置50將置于安裝臺51上的晶片3移動至相對于卸載晶片3的機器人10或20來說最佳的位置。在下文中此操作被稱作“凹口位置校準”。基板定位裝置50檢測經(jīng)過凹口位置校準的晶片3的中心位置，并且向第一機器人控制裝置30傳輸所檢測出的晶片3的中心位置。在本技術(shù)領(lǐng)域中公知檢測晶片3的中心位置的方法(例如參見日本專利4400341號公報)，將在此省略其描述。在上述的方式中，基板定位裝置50執(zhí)行對晶片3的定位。返回來參照圖3，第一機器人控制裝置30包括位置獲取單元31、校正單元32、卸載位置傳輸單元33以及存儲單元34。第一機器人控制裝置30控制第一機器人10與用于定位晶片3的基板定位裝置50的操作。存儲單元34由諸如RAM (隨機存取存儲器)或非易失存儲器之類的存儲裝置形成。存儲單元34存儲位置信息34a。位置信息34a是表不第二機器人20相對于第一機器人10的相對位置的信息。例如，將第一機器人10與第二機器人20之間的距離與角度作為位置信息34a。位置獲取單元31執(zhí)行如下處理，接收來自基板定位裝置50的經(jīng)過凹口位置校準的晶片3的中心位置，并向校正單元32傳送晶片3的中心位置。校正單元32根據(jù)安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C與從位置獲取單元31接收的晶片3的中心位置之間的絕對偏差量計算校正信息。當由第一機器人10卸載置于基板定位裝置50上的晶片3時，校正單元32基于計算出的校正信息相對于第一機器人10校正晶片3的卸載位置。此后，第一機器人控制裝置30根據(jù)晶片3的校正后的卸載位置操作第一機器人10以卸載置于基板定位裝置50上的晶片3?，F(xiàn)在將參照圖5與圖6描述晶片3的中心位置的偏差量。圖5是示出示教位置的圖。圖6是不出中心位置偏差量的圖。在傳送系統(tǒng)I中，在用于控制機器人10和20的各個機器人控制裝置30與40中存儲預先教示的示教數(shù)據(jù)。表示晶片3的目標傳送位置的信息包含在作為示教位置的示教數(shù)據(jù)中。例如，示教數(shù)據(jù)包含從第一機器人10指向儲存容器5的示教位置，以及從第二機器人20指向處理室6的示教位置。存儲在第一機器人控制裝置30中的示教數(shù)據(jù)包含從第一機器人10指向基板定位裝置50的示教位置。更具體地說，如圖5中所示，示教位置是方向為從第一機器人10的預定參照點P朝安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C延伸，并且由距離L1與角Q1限定的矢量PC。就此而言，安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C是XY坐標的原點。角Q1WY軸的正向測量所得的角度。存儲在第二機器人控制裝置40中的示教數(shù)據(jù)包含從第二機器人20至基板定位裝置50的示教位置。如圖5中所示，示教位置是方向為從第二機器人20的預定參照點Q朝安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C延伸，并且由距離L2與角θ2限定的矢量QC。如果置于基板定位裝置50上的晶片3的中心與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C對準，那么各個機器人控制裝置30與40根據(jù)存儲在各個機器人控制裝置30與40的示教位置操作機器人10與20。如果如圖6中所示，晶片3的中心Ctl偏離安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C，那么即便基板定位裝置50完成凹口位置校準，晶片3的中心Ctl與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C之間也會形成偏差。由虛線表示的晶片3a是置于示教位置中的晶片。取決于安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C與實際放置的晶片3的中心Ctl之間的偏差量的校正信息是由距離 Ltl與角Qtl限定的矢量CQ。根據(jù)此校正信息Ltl與Qtl，校正單元32校正相對于第一機器人10的示教位置(矢量PC)，并且計算卸載位置(矢量PC。)。此后，第一機器人控制裝置30使第一機器人10移動至由校正單元32校正后的卸載位置(矢量PCtl),由此卸載并傳送置于基板定位裝置50上的晶片3。如果晶片3的中心Ctl偏離示教位置的中心C，那么晶片3的最終中心位置根據(jù)已經(jīng)經(jīng)過凹口位置校準的凹口 4的方向而改變。更具體地說，假如置于示教位置的晶片3a定位在與凹口 4a具有偏差Q1的位置，那么晶片3的中心位置位于以距離Ltl和角Qtl偏離旋轉(zhuǎn)中心C的位置Ctl中。因此，校正單元32通過反應(yīng)角度差91校正示教位置。返回來參照圖3，當由第二機器人20卸載置于基板定位裝置50上的晶片3時，校正單元32以下面的方式校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置。與在第一機器人10的情況相同，校正單元32首先根據(jù)從基板定位裝置50接收的被定位的晶片3的中心位置與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C之間的絕對偏差量來計算校正信息L0 與 Θ 0。然后，校正單元32根據(jù)所計算的校正信息Ltl和Θ ^與位置信息34a校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QC)，并計算卸載位置(矢量QCtlX位置信息34a表示第二機器人20相對于第一機器人10的相對位置。校正單兀32還執(zhí)行向卸載位置傳輸單元33轉(zhuǎn)發(fā)所計算出的卸載位置(矢量QCtl)的處理。卸載位置傳輸單元33將從校正單元32接收的相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QCtl)傳輸至第二機器人控制裝置40的卸載位置接收單元41。
第二機器人控制裝置40包括卸載位置接收單元41與操作指示單元42，并且控制第二機器人20的操作。卸載位置接收單元41接收來自卸載位置傳輸單元33的相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QC0)。操作指示單元42根據(jù)由卸載位置接收單元41接收的相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QCtl)操作第二機器人20，并卸載置于基板定位裝置50上的晶片3。在本實施方式中，已經(jīng)利用XY平面上的位置描述了通過機器人控制裝置30與40操作機器人10與20中的傳送位置與示教位置。然而，事實上，機器人10與20被致使沿高度方向(Z軸方向)移動。在本領(lǐng)域中公知機器人10與20的高度方向移動，在此將省略其描述。接著，將參照圖7描述由第一機器人控制裝置30執(zhí)行的校正處理的細節(jié)。圖7是示出校正處理的處理順序的流程圖。如圖7中所示，第一機器人控制裝置30命令基板定位裝置50檢測凹口 4 (步驟SlOD0第一機器人控制裝置30確定第二機器人20是否卸載置于基板定位裝置50上的晶片3 (步驟S102)。如果第二機器人20卸載晶片3(如果在步驟S102中為“是”)，那么第一機器人控制裝置30命令基板定位裝置50執(zhí)行相對于第二機器人20的凹口位置校準(參見步驟S103)。位置獲取單元31從基板定位裝置50獲取經(jīng)過凹口位置校準的晶片3的中心位置C0 (步驟S104)。校正單元32根據(jù)由位置獲取單元31獲取的晶片3的中心位置Ctl與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C之間的絕對偏差量計算校正信息Ltl與％ (步驟S105)。此后，校正單元32根據(jù)所計算的校正信息Ltl與Θ ^與位置信息34a校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QC)(步驟S106)，并且計算卸載位置(矢量QC0)ο

然后，卸載位置傳輸單元33向第二機器人控制裝置40的卸載位置接收單元41傳輸晶片3相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QCtl)(步驟S107)，由此一系列處理終止。另一方面，如果第二機器人20不卸載晶片3(如果在步驟S102中為“否”)，那么第一機器人控制裝置30命令基板定位裝置50執(zhí)行相對于第一機器人10的凹口位置校準(步驟 S108)。位置獲取單元31從基板定位裝置50獲取經(jīng)過凹口位置校準的晶片3的中心位置C0 (步驟S109)。校正單元32根據(jù)由位置獲取單元31獲取的晶片3的中心位置Ctl與安裝臺51的旋轉(zhuǎn)中心C之間的絕對偏差量計算校正信息Ltl與％ (步驟S110)。此后，校正單元32根據(jù)所計算的校正信息Ltl與Θ ^校正晶片3相對于第一機器人10的卸載位置(矢量PC)(步驟S111)，并且計算卸載位置(矢量PC。)。然后，第一機器人控制裝置30基于由校正單元32校正后的卸載位置(矢量PCtl)命令第一機器人10卸載晶片3。由此,第一機器人10卸載置于基板定位裝置50上的晶片3(步驟S112)。此后，第一機器人控制裝置30終止一系列處理。盡管在本實施方式中，由凹口 4的檢測、凹口位置校準以及晶片3的卸載由第一機器人控制裝置30發(fā)出命令，但是這些命令也可由主機設(shè)備60發(fā)出。在本實施方式的傳送系統(tǒng)I中，第一機器人控制裝置30構(gòu)造成校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QC)。然而，本發(fā)明并不限于此。例如，第一機器人控制裝置30可向第二機器人控制裝置40傳輸校正信息Ltl與Θ。。
第二機器人控制裝置40可根據(jù)所接收的來自第一機器人控制裝置30的校正信息L(!與Θ ^校正晶片3相對于第二機器人20的卸載位置(矢量QCtlX此外,第一機器人控制裝置30不需要存儲表示第二機器人20相對于第一機器人10的相對位置的位置信息34a。在上述本實施方式的傳送系統(tǒng)I中，為各個機器人設(shè)置機器人控制裝置，并且由各自的機器人控制裝置控制機器人的操作。其中一個機器人控制裝置還控制基板定位裝置的操作。通過上述構(gòu)造，根據(jù)本實施方式的傳送系統(tǒng)可通過分散施加至各個機器人控制裝置上的負擔而減少施加至各個機器人控制裝置的負擔。在根據(jù)本所述方式的傳送系統(tǒng)中，即便又額外安裝機器人與基板控制裝置，也不需要定制每個系統(tǒng)的配置。因此可輕松應(yīng)付系統(tǒng)配置的改變。本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可容易地得到其它效果以及其他變型例。為此，本公開的廣義方面不限于以上所示與所描述的具體公開內(nèi)容及代表性實施方式。此外，在不脫離由所附權(quán)利要求及其等同物限定的宗旨與范圍的情況下，可以多種不同的形式對本公開作出
變型 。
權(quán)利要求
1.一種傳送系統(tǒng),該傳送系統(tǒng)包括 基板定位裝置，該基板定位裝置包括能繞旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的安裝臺，所述基板定位裝置構(gòu)造成對置于所述安裝臺上的基板執(zhí)行位置校準； 多個機器人，這些機器人構(gòu)造成將所述基板傳送至所述基板定位裝置以及從所述基板定位裝置傳送所述基板，這些機器人包括第一機器人與第二機器人；以及 多個機器人控制裝置，這些機器人控制裝置以與所述多個機器人對應(yīng)的關(guān)系設(shè)置，并構(gòu)造成控制所述機器人的操作，這些機器人控制裝置包括第一機器人控制裝置與第二機器人控制裝置，所述第一機器人與所述基板定位裝置連接至所述第一機器人控制裝置，所述第二機器人連接至所述第二機器人控制裝置， 其中，所述第一機器人控制裝置包括獲取單元以及傳輸單元，所述獲取單元構(gòu)造成從所述基板定位裝置至少獲取所述安裝臺的旋轉(zhuǎn)中心與被定位的所述基板的中心位置之間的絕對偏差量，所述傳輸單元構(gòu)造成向所述第二機器人所連接的所述第二機器人控制裝置傳輸基于由所述獲取單元獲取的所述絕對偏差量的校正信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的傳送系統(tǒng)，其中，所述第一機器人控制裝置還包括校正單元，所述校正單元構(gòu)造成將由所述獲取單元所獲取的所述絕對偏差量校正為相對于連接至所述第二機器人控制裝置的所述第二機器人的相對偏差量，所述傳輸單元構(gòu)造成向所述第二機器人控制裝置傳輸由所述校正單元校正的作為所述校正信息的所述相對偏差量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送系統(tǒng)，其中，所述第一機器人控制裝置還包括存儲單元，所述存儲單元構(gòu)造成存儲關(guān)于所述第二機器人相對于所述第一機器人的相對位置的位置信息，所述校正單元構(gòu)造成根據(jù)所述位置信息將所述絕對偏差量校正為所述相對偏差量。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項所述的傳送系統(tǒng)，其中，所述第二機器人控制裝置包括操作命令單元，所述操作命令單元構(gòu)造成根據(jù)從所述第一機器人控制裝置接收的所述校正信息，校正在所述第二機器人朝所述基板定位裝置移動的情況下的示教數(shù)據(jù)，并根據(jù)校正后的所述示教數(shù)據(jù)操作所述第二機器人。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項所述的傳送系統(tǒng)，其中，所述獲取單元構(gòu)造成獲取所述旋轉(zhuǎn)中心與所述中心位置之間的距離、以及所述旋轉(zhuǎn)中心和所述中心位置之間的互連直線與預定的參考軸線之間的角度作為所述絕對偏差量。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳送系統(tǒng)，其中，所述示教數(shù)據(jù)包括所述第二機器人的預定的參照點與所述旋轉(zhuǎn)中心之間的距離；以及所述參照點和所述旋轉(zhuǎn)中心的互連直線與預定的參考軸線之間的角度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種傳送系統(tǒng)，所述傳送系統(tǒng)包括基板定位裝置；具有第一機器人與第二機器人的機器人；以及機器人控制裝置，所述機器人控制裝置包括第一機器人控制裝置與第二機器人控制裝置，所述第一機器人與所述基板定位裝置連接至所述第一機器人控制裝置，所述第二機器人連接至所述第二機器人控制裝置。所述第一機器人控制裝置包括獲取單元以及傳輸單元，所述獲取單元構(gòu)造成從所述基板定位裝置至少獲取所述安裝臺的旋轉(zhuǎn)中心與被定位的基板的中心位置之間的絕對偏差量，所述傳輸單元構(gòu)造成根據(jù)由所述獲取單元獲取的絕對偏差量向所述第二機器人所連接的所述第二機器人控制裝置傳輸校正信息。
文檔編號B65G49/05GK103253512SQ201310051209
公開日2013年8月21日 申請日期2013年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月16日
發(fā)明者南孝, 勝田信一 申請人:株式會社安川電機