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陰極射線管石墨涂覆方法和設(shè)備的制作方法

文檔序號:3761153閱讀:230來源:國知局
專利名稱:陰極射線管石墨涂覆方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于在陰極射線管上涂覆石墨的方法和設(shè)備,更準確地說,涉及用于在陰極射線管外表面涂覆石墨并能提高涂覆效率的方法和設(shè)備。
一般,陰極射線管配置有一電容器用于消去回掃變壓器產(chǎn)生的高壓波紋。該電容器由導電層構(gòu)成,具體地說由陰極射線管玻錐的內(nèi)、外部表面涂覆的石墨層構(gòu)成。
構(gòu)成陰極射線管電容器的玻錐內(nèi)部表面的石墨層是在玻錐與其上形成熒光屏的面板結(jié)合之前形成的,而玻錐外部表面的石墨層是在陰極射線管生產(chǎn)的最后步驟期間涂覆的。
表面涂覆方法通常是用噴槍在玻錐的內(nèi)部和外部表面噴涂石墨。如

圖1所示,通過用噴槍3噴射石墨漿,只是通過蓋子2的孔徑2a將石墨粘附于暴露部分而陰極射線管1的玻錐1a被蓋住。
上述用常規(guī)方法的石墨噴射由于依賴于手工作業(yè)效率很低。按該常規(guī)方法,由于用噴槍噴射的石墨部分散布到空氣中而使工廠的工作環(huán)境惡化。
因此,本發(fā)明的目的是提供用于在陰極射線管上涂覆石墨并能通過陰極射線管石墨層涂覆的自動化而提高涂覆效率的方法和設(shè)備。
本發(fā)明的另一目的是提供用于在陰極射線管上涂覆石墨以有效防止石墨引起工作環(huán)境的污染的方法和設(shè)備。
為達到上述第一目的,本發(fā)明的在陰極射線管上涂覆石墨的方法包含以下步驟在封閉空間內(nèi),通過其形狀對應(yīng)于陰極射線管的蓋子的孔徑噴射石墨,傳輸陰極射線管以使之各個定時進入噴嘴石墨的區(qū)域,中斷石墨塵粒的散射,并通過封閉空間內(nèi)壁附近形成的水簾將之部分汲取。
將散射到封閉空間的石墨塵粒排放到封閉空間外部并加以收集。
為實現(xiàn)第二目的,本發(fā)明用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備包含其底蓋帶孔而形狀對應(yīng)于陰極射線管的外殼,裝在外殼內(nèi)部并指向蓋子的帶有一個以上石墨噴射器的石墨噴射裝置;
帶有用于將陰極射線管定位于裝在外殼底的蓋子并將之放下的提升器,和將陰極射線管傳送到提升器的傳送線的傳送裝置;
用于汲收從石墨涂覆裝置產(chǎn)生的石墨塵粒的集塵裝置,用于控制石墨噴射器和傳送裝置的控制器。
本發(fā)明的上述目的和其它優(yōu)點通過參考附圖的對本發(fā)明最佳實施例的詳細說明將變得更加清楚,附圖中圖1示出在陰極射線管上涂覆石墨的常規(guī)方法;
圖2是本發(fā)明的在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備的剖面立視圖。
參考圖2,本發(fā)明的在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備包含用于在陰極射線管T上噴射石墨的石墨噴射裝置10,用于汲收從石墨噴射裝置10產(chǎn)生的石墨塵粒的集塵裝置30,具有用來將陰極射線管定位到石墨噴射裝置的提升器22的傳送裝置20。石墨噴射裝置10具有如下構(gòu)造。在外殼11的內(nèi)部形成一封密艙,將一對噴嘴13a通過垂直懸掛桿13b固定到由裝在頂部11a的電動機12驅(qū)動的轉(zhuǎn)子13上。而在外殼11底部的中央,噴嘴13a指向帶孔14a并且形狀對應(yīng)于所裝的陰極射線管T的蓋子14。在外殼11內(nèi)壁11c上部的邊緣,裝有汲塵的水容器31用于將汲塵水供到側(cè)壁11C并將提供吸塵水的裝置(未出示)連到容器31。此外,在外殼10側(cè)壁11c的下部置有一孔11d用預(yù)定高度限定壁壘11e使得流過壁11c的汲塵水適當?shù)卮尜A在外殼11的底部11b。
外殼11下部的孔徑11d和帶有多層濾板33a的汲取管33的集塵裝置30、用于形成與孔徑11d相鄰水簾的汲塵的噴水嘴33b和位于集塵裝置30下部的汲塵水的排水桶32相通。
將預(yù)定高度的壁壘32a裝在排水桶32的底部以使汲塵水中所含固態(tài)材料或石墨沉淀在排水桶32中,分級溢出。
傳送裝置20具有用于傳送載有陰極射線管的傳送板21的傳送線23和用于將陰極射線管T提升到蓋14中的提升器22。用于支撐其上載有陰極射線管T的傳送板21的支撐板22a與提升器22上部相耦合。由控制器(未示出)控制提升器22以便當陰極射線管T直接通過傳送板21到達蓋14之下時進行操作。
該控制器的功能是檢測陰極射線管T是否裝載在傳送板21之上以及傳送板21是否到達正常位置,該控制器在傳送板21已到達正常位置時通過操作特殊停止裝置(未示出)阻止傳送板21的前進。
本發(fā)明的在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備操作如下。首先,當裝在傳送板21上的陰極射線管T通過傳送線23直接到達裝在外殼11的底部11b的蓋14之下時,傳送板21上存在的陰極射線管T被控制器檢測。此時,在陰極射線管未裝在傳送板21上時,用于提升和放下陰極射線管的提升器22不工作,傳送板21由傳送線23送到下一工序。
當載于傳送板21的陰極射線管T被控制器檢出時,由裝在傳送線23周圍的停止裝置(未示出)將傳送板21停止在提升板22a的上部。這時,由控制器操作的提升器22將裝在傳送板21上的陰極射線管T提升以裝入外殼11底部形成的蓋14。陰極射線管T一旦進入蓋14內(nèi)部,安裝在外殼11頂部11a的電動機12便運轉(zhuǎn),并由電動機12的轉(zhuǎn)子13使安裝在外殼11內(nèi)的噴嘴13a旋轉(zhuǎn)。然后從噴嘴13a噴射出石墨漿,從而通過蓋14的孔徑14a按預(yù)定圖形涂覆陰極射線管T。在涂覆石墨時,運轉(zhuǎn)集塵裝置30,在噴射時粘附在外殼內(nèi)壁11c的散布在外殼11內(nèi)的部分石墨塵粒由裝在外殼11內(nèi)壁11C上部的容器31提供的汲塵水洗入外殼11的底11b并抽入排水桶(見圖2)。在散布在外殼11內(nèi)的石墨塵粒中,通過外殼11下部孔徑11d的大多數(shù)的石墨被汲塵水噴射裝置33b形成的水簾中斷和汲收并抽入排水桶32、通過該過程尚未吸入的剩余石墨通過孔中裝有多層過濾板33a的汲取管道33排放出去。
由于上述本發(fā)明能自動地順序執(zhí)行對陰極射線管的石墨涂覆,可顯著提高生產(chǎn)率。除以所有噴射在陰極射線管上的,大多數(shù)散布在空氣中的石墨塵粒,可在封閉空間內(nèi)汲收和去除,從而可防止石墨塵粒引起工作環(huán)境的污染。
權(quán)利要求
1.一種在陰極射線管(T)上涂覆石墨的方法,包含以下步驟在封閉空間內(nèi)通過其形狀對應(yīng)于陰極射線管(T)的蓋子(14)的孔徑(14a)噴射石墨,傳輸陰極射線管(T)以使之各個定時進入噴嘴石墨的區(qū)域,中斷石墨塵粒的散射,并通過封閉空間內(nèi)壁附近形成的水簾將之部分汲取,將散射到封閉空間的石墨塵粒排放到封閉空間外部并收集所述石墨塵粒。
2.一種用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備,包含有;其底蓋帶孔而形狀對應(yīng)于所述陰極射線管的外殼,裝在所述外殼內(nèi)部并指內(nèi)所述蓋子的帶有一個以上石墨噴射器的石墨噴射裝置,帶有用于將陰極射線管定位于裝在外殼底的蓋內(nèi)并將之放下的提升器,和用于傳送所述陰極射線管的傳送線的傳送裝置;用于汲收從所述石墨涂覆裝置產(chǎn)生的石墨塵粒的集塵裝置,用于控制所述石墨噴射器和所述傳送裝置的控制器。
3.如權(quán)利要求2所述的用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備,其特征在于所述石墨噴射裝置包含由電動機使之轉(zhuǎn)動并與所述外殼內(nèi)上部相連的轉(zhuǎn)子以及裝在所述轉(zhuǎn)子上的噴嘴。
4.如權(quán)利要求2所述的用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備,其特征在于所述集塵裝置包含用于提供汲塵水使所述汲塵水從所述外殼壁上部流下的裝置以及用于強迫汲取或除去所述外殼內(nèi)部空間剩余的石墨塵粒的吸取管道。
5.如權(quán)利要求3所述的用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備,其特征在于所述集塵裝置包含用于提供汲塵水使所述汲塵水從所述外殼壁上部流下的裝置以及用于強迫汲取或除去所述外殼內(nèi)部空間所剩余的石墨塵粒的吸取管道。
6.如權(quán)利要求4所述的用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備,其特征在于所述設(shè)備還裝備汲塵水裝置,該裝置用于在所述外殼和汲取管道之間形成水簾。
全文摘要
公開了在陰極射線管上涂覆石墨的方法,它包含噴射石墨,傳送陰極射線管,中斷石墨塵粒散布并將之汲取以及排放石墨塵粒的步驟。用于在陰極射線管上涂覆石墨的設(shè)備包含外殼,石墨噴射裝置,帶提升器和傳送線的傳送裝置和集塵裝置及控制器。由于該設(shè)備自動地順序執(zhí)行石墨層涂覆,可顯著提高生產(chǎn)率并防止工作環(huán)境的污染。
文檔編號B05B13/02GK1055444SQ9110120
公開日1991年10月16日 申請日期1991年2月23日 優(yōu)先權(quán)日1990年3月24日
發(fā)明者白明基 申請人:三星電管株式會社
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