本發(fā)明涉及一種PP底涂劑, 具體涉及一種免處理PP片材和塑料膜粘接。
背景技術(shù):
目前我國PP膜行業(yè)在印刷和粘接時(shí)都需要電暈或火焰處理,性能不穩(wěn)定不能久置,為生產(chǎn)帶來極大不便;PP片材不能電暈或火焰處理,只能磨砂,在使用上受到限制;PP封邊條行業(yè)因不能形成有效粘接,使PP封邊條不能正常使用;本發(fā)明可使PP片材、膜、封邊條無需電暈、火焰和磨砂,只要涂上本發(fā)明產(chǎn)品就可以印刷、粘接,達(dá)到使用強(qiáng)度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種PP制品底涂劑,本發(fā)明的底涂劑具有高強(qiáng)度、用途廣、價(jià)格低的優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的底涂劑,由甲苯、二甲苯、四氯化碳、氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、聚乙烯醇縮丁醛、酚醛、聚酯、馬來酸酐、有機(jī)過氧化物、抗靜電劑組成:
所述甲苯10-30份;
所述二甲苯10-50份;
所述四氯化碳10-30份;
所述氯化聚丙烯30-60份;
所述氯化聚乙烯1-5份;
所述聚乙烯醇縮丁醛1-5份;
所述酚醛1-5份;
所述聚酯1-5份;
所述馬來酸酐1-3份;
所述有機(jī)過氧化物1-5份;
所述抗靜電劑0.5-3份;
所述的份數(shù)為重量份數(shù)。
較佳之一是:
所述甲苯13.2份;
所述二甲苯20份;
所述四氯化碳13.2份;
所述氯化聚丙烯40份;
所述氯化聚乙烯2份;
所述聚乙烯醇縮丁醛3.2份;
所述酚醛1.2份;
所述聚酯2份;
所述馬來酸酐1.2份;
所述有機(jī)過氧化物3.2份;
所述抗靜電劑0.8份;
所述的份數(shù)為重量份數(shù)。
較佳之二是:
所述甲苯13.2份;
所述二甲苯20份;
所述四氯化碳13.2份;
所述氯化聚丙烯40份;
所述氯化聚乙烯3.6份;
所述聚乙烯醇縮丁醛4份;
所述酚醛0份;
所述聚酯0.8份;
所述馬來酸酐1.2份;
所述有機(jī)過氧化物3.2份;
所述抗靜電劑0.8份;
所述的份數(shù)為重量份數(shù)。
上述水性底涂劑的制備方法,按照下述步驟進(jìn)行:
依次將甲苯、二甲苯、四氯化碳、氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、聚乙烯醇縮丁醛、酚醛、聚酯、馬來酸酐、有機(jī)過氧化物、抗靜電劑倒入反應(yīng)釜中,在40°恒溫下攪拌240分鐘,形成均勻溶液。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的水性底涂劑由多種原料合理配比而成,根據(jù)原料不同的份數(shù)經(jīng)反應(yīng)制得不同軟硬段的PP底涂劑,來達(dá)到不同PP制品的粘接強(qiáng)度要求。
上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段,并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施,以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例詳細(xì)說明如后。
實(shí)施例1:本發(fā)明的PP底涂劑,由甲苯、二甲苯、四氯化碳、氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、聚乙烯醇縮丁醛、酚醛、聚酯、馬來酸酐、有機(jī)過氧化物、抗靜電劑組成;
所述甲苯13.2份;
所述二甲苯20份;
所述四氯化碳13.2份;
所述氯化聚丙烯40份;
所述氯化聚乙烯2份;
所述聚乙烯醇縮丁醛3.2份;
所述酚醛1.2份;
所述聚酯2份;
所述馬來酸酐1.2份;
所述有機(jī)過氧化物3.2份;
所述抗靜電劑0.8份;
所述的份數(shù)為重量份數(shù)。
實(shí)施例2:本發(fā)明的PP底涂劑,由甲苯、二甲苯、四氯化碳、氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、聚乙烯醇縮丁醛、酚醛、聚酯、馬來酸酐、有機(jī)過氧化物、抗靜電劑組成;
所述甲苯13.2份;
所述二甲苯20份;
所述四氯化碳13.2份;
所述氯化聚丙烯40份;
所述氯化聚乙烯3.6份;
所述聚乙烯醇縮丁醛4份;
所述酚醛0份;
所述聚酯0.8份;
所述馬來酸酐1.2份;
所述有機(jī)過氧化物3.2份;
所述抗靜電劑0.8份;
所述的份數(shù)為重量份數(shù)。
實(shí)施例1和實(shí)施例2的PP底涂劑的制備方法,按照下述步驟進(jìn)行:
依次將甲苯、二甲苯、四氯化碳、氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、聚乙烯醇縮丁醛、酚醛、聚酯、馬來酸酐、有機(jī)過氧化物、抗靜電劑倒入反應(yīng)釜中,在40°恒溫下攪拌240分鐘,形成均勻溶液。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。