本發(fā)明涉及稀土拋光液技術(shù)領(lǐng)域,具體是一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液及其制備方法。
背景技術(shù):
化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical polishing)是借助超微粒子的研磨作用和漿料的化學(xué)腐蝕作用在被研磨的工件表面形成光潔平坦表面,是機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)。該技術(shù)已逐漸被應(yīng)用于多種需要平整化的工件的化學(xué)機(jī)械拋光,尤其是在光電玻璃和半導(dǎo)體工業(yè)等電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展更為引人注目。常用的化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)系統(tǒng)構(gòu)造是由一個(gè)旋轉(zhuǎn)的工件夾持器、承載拋光墊片的工作臺(tái)和拋光漿料供給裝置三大部分組成。
作為一種新興的研磨拋光材料,稀土拋光粉以其顆粒硬度適中、拋光效率高、拋光質(zhì)量好、使用壽命長(zhǎng)以及操作環(huán)境清潔環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)被廣泛的應(yīng)用于平板玻璃、電子精密器件以及、硬盤(pán)玻璃基板等領(lǐng)域的拋光?;瘜W(xué)機(jī)械拋光時(shí),由亞微米或納米粒子和化學(xué)溶液組成的稀土拋光液在拋光墊與工件之間流動(dòng),并發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng),工件表面生成的化學(xué)反應(yīng)物質(zhì)由磨粒的機(jī)械作用去除,即在機(jī)械去膜和化學(xué)成膜的交替過(guò)程中實(shí)現(xiàn)表面的平坦化。
《一種稀土拋光粉及其制備方法》(公開(kāi)號(hào)CN102965026A)公開(kāi)了CeO2、La2O3、Pr6O11中的一種或幾種組成的晶型為立方相稀土氧化物組成的均一固溶體,該拋光粉通過(guò)將碳酸稀土在堿性溶液中球磨、干燥、焙燒而得。該發(fā)明專利沒(méi)有引入氟,當(dāng)拋光粉不引入氟元素時(shí),研磨材料中組成物鑭元素不能很好的固溶在鈰形成氧化物結(jié)構(gòu)中,鑭就會(huì)以活性氧化狀態(tài)形式存在,在水存在的情況下,會(huì)轉(zhuǎn)化成堿性的La(OH)3或La2(CO3)3,在拋光研磨物質(zhì)的同時(shí),進(jìn)行極細(xì)的研磨,成為研磨持久力下降的主要因素;同時(shí)堿性很強(qiáng)的La2O3存在會(huì)使磨具在磨削過(guò)程中氣孔被堵塞,不利于水性磨料的循環(huán)使用。
《一種稀土拋光液》(公開(kāi)號(hào)CN102337086A)公開(kāi)了氟氧化鑭鈰稀土拋光粉的制備方法和工藝條件,其所述的pH調(diào)節(jié)劑中為氨水或氫氧化四甲銨,在實(shí)際的拋光過(guò)程中會(huì)揮發(fā)出具有刺激性氣味的氨氣,不利于環(huán)保和操作人員的健康。
《一種稀土拋光粉的生產(chǎn)方法》(公開(kāi)號(hào)CN101899281A)公開(kāi)了用氯化稀土溶液(PH=4),與硫酸銨((NH4)2SO4)、硅氟酸(H2SiF6)在搪瓷攪拌槽內(nèi)加熱至90℃左右,以NH4HCO3作為沉淀劑,沉淀1.5~2.0h,再煮沸,得到的原料經(jīng)過(guò)濾,干燥,煅燒,調(diào)漿,分級(jí),烘干和再分級(jí),此方法合成粉末的工藝復(fù)雜,且最終顆粒的D50為5um~7um,拋光粉顆粒尺寸較大,在工作中極易劃傷被拋物的研磨表面,不適用于工件的精拋光。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液及其制備方法,該拋光液具有顆粒尺寸小、粒徑分布曲線窄的優(yōu)點(diǎn),且拋光時(shí)不會(huì)產(chǎn)生劃傷和刺激性氣味,制備工藝簡(jiǎn)單,同時(shí)降低成本。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液,包含球形氟氧化鑭鈰拋光粉、分散劑、拋光助劑與pH調(diào)節(jié)劑,所述拋光液的固含量為10~20wt%,分散劑占拋光液總量的0.3%~1.5%wt%,拋光助劑占拋光液總量的0.2%~0.8%wt%;pH調(diào)節(jié)劑的用量以拋光液pH值達(dá)到8~11為準(zhǔn), 所述球形氟氧化鑭鈰拋光粉中氟的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為球形氟氧化鑭鈰拋光粉總質(zhì)量的2~8wt%,鈰的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為球形氟氧化鑭鈰拋光粉總質(zhì)量的63~67wt%。
本發(fā)明還提供一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液的制備方法,包括以下步驟:
S1、沉淀:將鑭鹽和鈰鹽的混合溶液,加入堿沉淀劑后攪拌均勻,于50-80℃下沉化2~5h,得到碳酸鑭鈰混合漿料,所述碳酸鑭鈰混合漿料濃度為80~500g/L,碳酸鑭鈰混合漿料中CeO2的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為63~67%;La2O3的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為為33~37%;
S2、氟化:將步驟S1的碳酸鑭鈰混合漿料加熱到40~80℃,然后添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%的氫氟酸進(jìn)行氟化反應(yīng),氫氟酸的加入量為碳酸鑭鈰總質(zhì)量的3~10%,然后在內(nèi)襯聚四氟乙烯的球磨罐中球磨0.5~1.5h;再加入15~25%的碳酸氫銨水溶液,將球磨后的漿液pH值調(diào)至6.5~7.0,得到氟化的碳酸鑭鈰漿料;
S3、脫水與干燥:將氟化的碳酸鑭鈰漿料進(jìn)行脫水,得到濾餅,在85~125℃下干燥15~28h;
S4、焙燒:將步驟S3干燥后的濾餅在氧化氣氛中于425~480℃溫度下焙燒1~3小時(shí),然后在850~1030℃下保溫2~6小時(shí),再在1~3小時(shí)內(nèi)降溫至300℃,之后自然冷卻得到氟氧化鑭鈰拋光粉;
多段焙燒,步驟如下:
第一段,在1~1.5小時(shí)內(nèi)升溫至425~480℃;
第二段,在425~480℃下保溫焙燒1~3小時(shí);
第三段:在2~3小時(shí)內(nèi)從恒溫溫度增溫至850~1030℃;
第四段:在850~1030℃下保溫2~6小時(shí);
第五段:在1~3小時(shí)降溫至300℃。
S5、粉碎:將得到的氟氧化鑭鈰拋光粉粉碎分級(jí),使顆粒中位粒徑分布于0.7~0.9μm,D90分布于1.6~1.8μm,最大粒度不超過(guò)5.5μm;
S6、拋光液配制:向步驟S5得到的氟氧化鑭鈰拋光粉中加入去離子水、分散劑、黏土、拋光助劑和pH調(diào)節(jié)劑,配制得到權(quán)利要求1所述的固含量為10~20wt%的球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液。
進(jìn)一步的,所述步驟S6中的分散劑為聚丙烯酸、聚丙烯酸鈉、六偏磷酸鈉、聚乙二醇4000或羧甲基纖維素中的一種或兩種以上,分散劑的含量為拋光液總質(zhì)量的0.5%~2%。
進(jìn)一步的,所述步驟S6中的黏土為高嶺土和/或膨潤(rùn)土,黏土含量為拋光液總質(zhì)量的0.5~3%。
進(jìn)一步的,所述步驟S6中的拋光助劑為硝酸鋅、硝酸鎂、硫酸鋅、硫酸銅、氯化鋅或硝酸鈰銨中的一種或兩種以上,拋光助劑的含量為拋光液總質(zhì)量的0.3%~0.8%。
進(jìn)一步的,所述步驟S6中的pH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀或三乙醇胺中的一種或兩種以上,pH調(diào)節(jié)劑的加入量以拋光液pH值達(dá)到8~11為準(zhǔn)。
進(jìn)一步的,所述步驟S4的焙燒為五段焙燒方式,
第一段:在1~1.5小時(shí)內(nèi)升溫至425~480℃;
第二段:在425~480℃下保溫焙燒1~3小時(shí);
第三段:在2~3小時(shí)內(nèi)升溫至850~1030℃;
第四段:在850~1030℃下保溫2~6小時(shí);
第五段:在1~3小時(shí)降溫至300℃。
本發(fā)明的有益效果是,采用急冷的降溫方式,從而使晶體內(nèi)部產(chǎn)生較多的點(diǎn)陣錯(cuò)亂,提高氟氧化鑭鈰拋光粉的化學(xué)活性;得到的氟氧化鑭鈰拋光粉尺寸小、粒徑分布曲線窄,中位粒度在0.7um~0.9um之間,配置成拋光液拋光時(shí)不會(huì)產(chǎn)生劃傷和刺激性氣味,且粉末中無(wú)需加入氧化鐠,降低成本。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明:
圖1是本發(fā)明所制備的氟氧化鑭鈰顆粒XRD譜圖;
圖2是本發(fā)明所制備拋光液中氟氧化鑭鈰顆粒的SEM譜圖;
圖3是本發(fā)明所制備的氟氧化鑭鈰顆粒粒度分布曲線。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液,包含球形氟氧化鑭鈰拋光粉、分散劑、拋光助劑與pH調(diào)節(jié)劑,所述拋光液的固含量為10~20wt%,分散劑占拋光液總量的0.3%~1.5%wt%,拋光助劑占拋光液總量的0.2%~0.8%wt%;pH調(diào)節(jié)劑的用量以拋光液pH值達(dá)到8~11為準(zhǔn), 所述球形氟氧化鑭鈰拋光粉中氟的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為球形氟氧化鑭鈰拋光粉總質(zhì)量的2~8wt%,鈰的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為球形氟氧化鑭鈰拋光粉總質(zhì)量的63~67wt%。
實(shí)施例一
本發(fā)明還提供一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液的制備方法,包括以下步驟:
S1、沉淀:取200g/L的氯化鑭鈰溶液加熱至50℃,加入0.8mol/L的碳酸氫鈉溶液,充分?jǐn)嚢柚羛H值6.5時(shí)停止,沉化2h,得到碳酸鑭鈰混合漿料,所述碳酸鑭鈰混合漿料濃度為80g/L,碳酸鑭鈰混合漿料中CeO2的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為63%;La2O3的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為為37%;
S2、氟化:將步驟S1的碳酸鑭鈰混合漿料加熱到40~80℃,然后添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%的氫氟酸進(jìn)行氟化反應(yīng),氫氟酸的加入量為碳酸鑭鈰總質(zhì)量的5%,然后在內(nèi)襯聚四氟乙烯的球磨罐中球磨0.5h;再加入15~25%的碳酸氫銨水溶液,將球磨后的漿液pH值調(diào)至6.5,得到氟化的碳酸鑭鈰漿料;
S3、脫水與干燥:將氟化的碳酸鑭鈰漿料進(jìn)行脫水,得到濾餅,在90℃下干燥20h;
S4、焙燒:將步驟S3干燥后的濾餅在氧化氣氛中于425℃溫度下焙燒3小時(shí),然后在850℃下保溫5小時(shí),再在1.5小時(shí)內(nèi)降溫至300℃,之后自然冷卻得到氟氧化鑭鈰拋光粉;
S5、粉碎:將得到的氟氧化鑭鈰拋光粉粉碎分級(jí),經(jīng)激光粒度儀測(cè)試,粒徑D50=0.7μm;如圖1所示,為氟氧化鑭鈰顆粒XRD譜圖;
S6、拋光液配制:向步驟S5得到的氟氧化鑭鈰拋光粉中加入去離子水、分散劑、黏土、拋光助劑和pH調(diào)節(jié)劑,配制得到權(quán)利要求1所述的固含量為10%的球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液,分散劑為占拋光液總質(zhì)量1wt%的羧甲基纖維素;黏土為拋光液總質(zhì)量的0.6%膨潤(rùn)土;拋光助劑為拋光液總質(zhì)量0.3%的硫酸鋅;pH調(diào)節(jié)劑為碳酸氫鈉,pH調(diào)節(jié)劑的加入量以拋光液pH值達(dá)到10為準(zhǔn)。結(jié)合圖2所示,所制備拋光液中氟氧化鑭鈰顆粒的SEM譜圖。
實(shí)施例二
一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液的制備方法,包括以下步驟:
S1、沉淀:取350g/L的硝酸鑭鈰溶液加熱至50℃,加入0.8mol/L的碳酸氫鈉溶液,充分?jǐn)嚢柚羛H值6.5時(shí)停止,沉化2h,得到碳酸鑭鈰混合漿料,所述碳酸鑭鈰混合漿料濃度為80g/L,碳酸鑭鈰混合漿料中CeO2的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為65%;La2O3的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為為35%;
S2、氟化:將步驟S1的碳酸鑭鈰混合漿料加熱到50℃,然后添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%的氫氟酸進(jìn)行氟化反應(yīng),氫氟酸的加入量為碳酸鑭鈰總質(zhì)量的7%,然后在內(nèi)襯聚四氟乙烯的球磨罐中球磨1h;再加入15~25%的碳酸氫銨水溶液,將球磨后的漿液pH值調(diào)至6.7,得到氟化的碳酸鑭鈰漿料;
S3、脫水與干燥:將氟化的碳酸鑭鈰漿料進(jìn)行脫水,得到濾餅,在110℃下干燥20h;
S4、焙燒:將步驟S3干燥后的濾餅在氧化氣氛中于450℃溫度下焙燒2小時(shí),然后在900℃下保溫4小時(shí),再在1小時(shí)內(nèi)降溫至300℃,之后自然冷卻得到氟氧化鑭鈰拋光粉;
S5、粉碎:將得到的氟氧化鑭鈰拋光粉粉碎分級(jí),經(jīng)激光粒度儀測(cè)試,粒徑D50=0.8μm;
S6、拋光液配制:向步驟S5得到的氟氧化鑭鈰拋光粉中加入去離子水、分散劑、黏土、拋光助劑和pH調(diào)節(jié)劑,配制得到權(quán)利要求1所述的固含量為15%的球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液,分散劑為占拋光液總質(zhì)量1.5wt%的聚丙烯酸;黏土為拋光液總質(zhì)量1%的膨潤(rùn)土;拋光助劑為拋光液總質(zhì)量0.5%的硝酸鈰銨;pH調(diào)節(jié)劑為碳酸氫鈉,pH調(diào)節(jié)劑的加入量以拋光液pH值達(dá)到11為準(zhǔn)。
實(shí)施例三
一種球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液的制備方法,包括以下步驟:
S1、沉淀:取200g/L的氯化鑭鈰溶液加熱至60℃,加入0.8mol/L的碳酸氫鉀溶液,充分?jǐn)嚢柚羛H值6.5時(shí)停止,沉化2h,得到碳酸鑭鈰混合漿料,所述碳酸鑭鈰混合漿料濃度為80g/L,碳酸鑭鈰混合漿料中CeO2的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為67%;La2O3的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)含量為為33%;
S2、氟化:將步驟S1的碳酸鑭鈰混合漿料加熱到50℃,然后添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%的硅氟酸進(jìn)行氟化反應(yīng),氫氟酸的加入量為碳酸鑭鈰總質(zhì)量的10%,然后在內(nèi)襯聚四氟乙烯的球磨罐中球磨1.5h;再加入15~25%的碳酸氫銨水溶液,將球磨后的漿液pH值調(diào)至6.5,得到氟化的碳酸鑭鈰漿料;
S3、脫水與干燥:將氟化的碳酸鑭鈰漿料進(jìn)行脫水,得到濾餅,在120℃下干燥14h;
S4、焙燒:將步驟S3干燥后的濾餅在氧化氣氛中于480℃溫度下焙燒2小時(shí),然后在1000℃下保溫3小時(shí),再在1.5小時(shí)內(nèi)降溫至300℃,之后自然冷卻得到氟氧化鑭鈰拋光粉;
S5、粉碎:將得到的氟氧化鑭鈰拋光粉粉碎分級(jí),經(jīng)激光粒度儀測(cè)試,粒徑D50=0.9μm;
S6、拋光液配制:向步驟S5得到的氟氧化鑭鈰拋光粉中加入去離子水、分散劑、黏土、拋光助劑和pH調(diào)節(jié)劑,配制得到權(quán)利要求1所述的固含量為10%的球形氟氧化鑭鈰稀土拋光液,分散劑為分別占拋光液總量0.6wt%的聚丙烯酸以及1wt%的六偏磷酸鈉;黏土為拋光液總質(zhì)量1%的高嶺土;拋光助劑為拋光液總質(zhì)量0.7%的硝酸鈰銨;pH調(diào)節(jié)劑為三乙醇胺,pH調(diào)節(jié)劑的加入量以拋光液pH值達(dá)到9為準(zhǔn)。圖3所示為所制備球形氟氧化鑭鈰拋光液中研磨顆粒的粒度分布曲線。
以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制;任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。