1.一種頻率片的研磨清洗方法，包括以下步驟：
（1）將頻率片放入第一研磨體系中，進(jìn)行第一次研磨；將第一次研磨的頻率片置入第一清洗液中，超聲清洗10～15分鐘，得到第一次清洗后的頻率片；損傷第一研磨體系由石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水組成；所述第一清洗液由異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水組成；
（2）將頻率片放入第二研磨體系中，進(jìn)行第二次研磨；將第二次研磨的頻率片置入第二清洗液中，超聲清洗20～25分鐘，得到第二次清洗后的頻率片；所述第二研磨體系由粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水組成；所述第二清洗液由2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水組成；所述粉體由貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦燒結(jié)、粉碎、過(guò)篩得到；
（3）將第二次清洗后的頻率片加入堿液中，浸泡3～3.5分鐘后取出放入水中，超聲清洗10～15分鐘；最后置入酒精中浸泡1～2分鐘，紅外烘干，即完成頻率片的研磨清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（1）中，第一次研磨的時(shí)間為5～8分鐘。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（1）中，石英砂的平均粒徑為500目。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（1）中，石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水的質(zhì)量比為8﹕2﹕1﹕1﹕20﹕100；異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水的質(zhì)量比為2﹕2﹕1﹕4﹕100。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（1）中，超聲的頻率為40Hz。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（2）中，將質(zhì)量比為100﹕3﹕28的貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦650℃燒結(jié)3小時(shí)、球磨粉碎、過(guò)5000目篩得到粉體；第二次研磨的時(shí)間為18～22分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（2）中，粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水的質(zhì)量比為5﹕4﹕2﹕1﹕25﹕100；2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為6﹕2﹕5﹕2﹕100；超聲的頻率優(yōu)選為40Hz。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述頻率片的研磨清洗方法，其特征在于：步驟（3）中，堿液由質(zhì)量比為12﹕7﹕6﹕4﹕100的氫氧化鉀、溴化鋰、十二烷基磺酸鈉、乙二胺以及水組成。