本發(fā)明屬于頻率片制備技術(shù)，具體涉及一種頻率片的研磨清洗方法。

背景技術(shù)：

如今電子產(chǎn)品的功能越來越多，這就要求水晶振動(dòng)子的精度不斷提高，客戶對(duì)于頻率片的頻率偏差范圍也越來越嚴(yán)格，產(chǎn)品若研磨后頻率偏差范圍越大，產(chǎn)生的不良就越多?，F(xiàn)有工藝的片研磨后，直接使用自來水沖淋來去除頻率片表面的研磨液殘留?，F(xiàn)有加工工藝用沖淋的方法去除研磨液，但由于沖淋不能做到全方位，或多或少的有部分研磨液的殘留，研磨液中的砂粒子流動(dòng)到下工序后經(jīng)精磨時(shí)，會(huì)形成頻率片表面劃痕不良，并且水量和時(shí)間的控制不當(dāng)，經(jīng)常造成切片的破損報(bào)廢，或去除不了表面的研磨液情況；現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題有2點(diǎn)：①不能完全去除研磨液②沖淋水量和時(shí)間不當(dāng)造成的頻率片破損。切片研磨是依靠研磨砂完成的，一般切片完成需要經(jīng)2-3道不同型號(hào)的研磨砂打磨完成。如果前道的砂混入后道加工中，即使是微量的混砂，就會(huì)造成切片表面出現(xiàn)劃痕不良，影響到客戶產(chǎn)品的精度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是公開一種頻率片的研磨清洗方法，使用加熱的堿性溶液將大部分的頻率片表面研磨液去除，再利用流水超聲波使每片切片表面的殘留研磨液完全震落，有效的清洗切片表面，降低頻率片表面劃痕的發(fā)生率；劃痕不良率大幅下降了，降到了0.5%以下，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于現(xiàn)有的5%。

為達(dá)到上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種頻率片的研磨清洗方法，包括以下步驟：

（1）將頻率片放入第一研磨體系中，進(jìn)行第一次研磨；將第一次研磨的頻率片置入第一清洗液中，超聲清洗10～15分鐘，得到第一次清洗后的頻率片；損傷第一研磨體系由石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水組成；所述第一清洗液由異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水組成；

（2）將頻率片放入第二研磨體系中，進(jìn)行第二次研磨；將第二次研磨的頻率片置入第二清洗液中，超聲清洗20～25分鐘，得到第二次清洗后的頻率片；所述第二研磨體系由粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水組成；所述第二清洗液由2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水組成；所述粉體由貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦燒結(jié)、粉碎、過篩得到；

（3）將第二次清洗后的頻率片加入堿液中，浸泡3～3.5分鐘后取出放入水中，超聲清洗10～15分鐘；最后置入酒精中浸泡1～2分鐘，紅外烘干，即完成頻率片的研磨清洗。

上述技術(shù)方案中，步驟（1）中，第一次研磨的時(shí)間為5～8分鐘，第一次研磨為粗研磨，主要對(duì)頻率片的表面輪廓細(xì)化，根據(jù)本發(fā)明的研磨體系，結(jié)合研磨時(shí)間即可，時(shí)間長(zhǎng)不但沒有研磨效果而且可能損傷頻率片表面。

上述技術(shù)方案中，步驟（1）中，石英砂的平均粒徑為500目；第一次研磨利用稍硬并且粒徑稍大的石英砂，一方面節(jié)約成本，另一方面可以符合粗研磨的要求；石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水的質(zhì)量比為8﹕2﹕1﹕1﹕20﹕100；異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水的質(zhì)量比為2﹕2﹕1﹕4﹕100。通過設(shè)計(jì)合適的輔助有機(jī)體系，有效避免了粗石英砂對(duì)頻率片表面的損傷，起到潤(rùn)滑作用，而且利于第一次清洗達(dá)到較好的效果，因?yàn)榈谝磺逑匆旱脑O(shè)計(jì)與第一研磨體系的組成相容性很好，有機(jī)物之間容易形成纏結(jié)，從而更有效去除石英砂。特別的，清洗過程采用超聲波輔助，這是本發(fā)明的首創(chuàng)，超聲的頻率優(yōu)選為40Hz，可以有效顫動(dòng)頻率片，加速了石英砂與頻率片的分離，避免石英砂慢慢滑落帶來的頻率片表面損傷。

上述技術(shù)方案中，步驟（2）中，粉體由貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦燒結(jié)、粉碎、過篩得到；將質(zhì)量比為100﹕3﹕28的貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦650℃燒結(jié)3小時(shí)、球磨粉碎、過5000目篩得到粉體；粉體偏軟，但是由于硝酸釔的加入又具有良好的研磨性，第二次研磨的時(shí)間為18～22分鐘，第二次研磨為細(xì)研磨，主要對(duì)頻率片的表面平滑度均勻化，根據(jù)本發(fā)明的研磨體系，結(jié)合研磨時(shí)間可以得到表面均一度很高的頻率片，而且不會(huì)損失頻率片。

上述技術(shù)方案中，步驟（2）中，粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水的質(zhì)量比為5﹕4﹕2﹕1﹕25﹕100；2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為6﹕2﹕5﹕2﹕100。頻率片研磨最忌諱對(duì)其表面損傷，特別是細(xì)研磨工藝中，一旦有輕微損傷也無法修復(fù)，極大影響頻率片的良率，本發(fā)明以丙烯酸-環(huán)氧體系為輔助研磨劑，極大的分散了粒徑極小的粉體，有效避免粉體聚集效應(yīng)，保證粉體分散均勻性，利于頻率片研磨效果；通過第二清洗液有機(jī)物的設(shè)計(jì)，可以與第一研磨體系的有機(jī)物形成類似拉網(wǎng)結(jié)構(gòu)，起到去除粉體的效果。特別的，清洗過程采用超聲波輔助，超聲的頻率優(yōu)選為40Hz，可以有效顫動(dòng)頻率片，加速了粉體與頻率片的分離，避免石英砂慢慢滑落帶來的頻率片表面損傷；同時(shí)40Hz不會(huì)對(duì)頻率片振動(dòng)多大，從而不會(huì)損傷頻率片。

上述技術(shù)方案中，步驟（3）中，堿液優(yōu)選由氫氧化鉀、溴化鋰、十二烷基磺酸鈉、乙二胺以及水組成；質(zhì)量比為12﹕7﹕6﹕4﹕100。經(jīng)過第二次清洗后，粉體無機(jī)物基本從頻率片表面脫離，但是頻率片表面還是殘留少量但是影響很大的有機(jī)體系，通過配置堿液能夠有效去除有機(jī)物，常溫即可，無需現(xiàn)有技術(shù)的加熱操作，特別在堿液中添加溴化鋰、乙二胺等成分，除了加速堿液的活性外，還可以與有機(jī)物形成良好的相容性，可以加速有機(jī)物的脫離；再結(jié)合酒精后處理，紅外烘干，避免烘箱加熱干燥對(duì)頻率片的損傷，從而可以得到潔凈平滑的頻率片。

本發(fā)明首先在有機(jī)物的配合下，采用較粗的石英砂對(duì)頻率片粗加工處理，再利用軟質(zhì)粉體進(jìn)行細(xì)磨，可以得到表面平滑的頻率片；采用添加有機(jī)物的清洗液，結(jié)合研磨體系的有機(jī)成分可以有效去除研磨體系的無機(jī)成分，最后經(jīng)過堿液、酒精后處理得到表面平滑、無損傷的頻率片；劃痕不良率大幅下降了，降到了0.5%以下，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于現(xiàn)有的5%。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例一 一種頻率片的研磨清洗方法，包括以下步驟：

（1）將頻率片放入第一研磨體系中，進(jìn)行第一次研磨，時(shí)間為5分鐘；將第一次研磨的頻率片置入第一清洗液中，40Hz超聲清洗10分鐘，得到第一次清洗后的頻率片；損傷第一研磨體系由平均粒徑為500目的石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水組成；所述第一清洗液由異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水組成；石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水的質(zhì)量比為8﹕2﹕1﹕1﹕20﹕100；異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水的質(zhì)量比為2﹕2﹕1﹕4﹕100。

（2）將頻率片放入第二研磨體系中，進(jìn)行第二次研磨，時(shí)間為22分鐘；將第二次研磨的頻率片置入第二清洗液中，40Hz超聲清洗20～25分鐘，得到第二次清洗后的頻率片；所述第二研磨體系由粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水組成；所述第二清洗液由2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水組成；將質(zhì)量比為100﹕3﹕28的貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦650℃燒結(jié)3小時(shí)、球磨粉碎、過5000目篩得到粉體；粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水的質(zhì)量比為5﹕4﹕2﹕1﹕25﹕100；2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為6﹕2﹕5﹕2﹕100。

（3）將第二次清洗后的頻率片加入堿液中，浸泡3.5分鐘后取出放入水中，超聲清洗15分鐘；最后置入酒精中浸泡1分鐘，紅外烘干，即完成頻率片的研磨清洗；堿液由質(zhì)量比為12﹕7﹕6﹕4﹕100的氫氧化鉀、溴化鋰、十二烷基磺酸鈉、乙二胺以及水組成。

實(shí)施例二 一種頻率片的研磨清洗方法，包括以下步驟：

（1）將頻率片放入第一研磨體系中，進(jìn)行第一次研磨，時(shí)間為5分鐘；將第一次研磨的頻率片置入第一清洗液中，40Hz超聲清洗10分鐘，得到第一次清洗后的頻率片；損傷第一研磨體系由平均粒徑為500目的石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水組成；所述第一清洗液由異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水組成；石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水的質(zhì)量比為8﹕2﹕1﹕1﹕20﹕100；異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水的質(zhì)量比為2﹕2﹕1﹕4﹕100。

（2）將頻率片放入第二研磨體系中，進(jìn)行第二次研磨，時(shí)間為22分鐘；將第二次研磨的頻率片置入第二清洗液中，40Hz超聲清洗20分鐘，得到第二次清洗后的頻率片；所述第二研磨體系由粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水組成；所述第二清洗液由2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水組成；將質(zhì)量比為100﹕3﹕28的貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦650℃燒結(jié)3小時(shí)、球磨粉碎、過5000目篩得到粉體；粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水的質(zhì)量比為5﹕4﹕2﹕1﹕25﹕100；2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為6﹕2﹕5﹕2﹕100。

（3）將第二次清洗后的頻率片加入堿液中，浸泡3分鐘后取出放入水中，超聲清洗10分鐘；最后置入酒精中浸泡1分鐘，紅外烘干，即完成頻率片的研磨清洗；堿液由質(zhì)量比為12﹕7﹕6﹕4﹕100的氫氧化鉀、溴化鋰、十二烷基磺酸鈉、乙二胺以及水組成。

實(shí)施例三 一種頻率片的研磨清洗方法，包括以下步驟：

（1）將頻率片放入第一研磨體系中，進(jìn)行第一次研磨，時(shí)間為6分鐘；將第一次研磨的頻率片置入第一清洗液中，40Hz超聲清洗12分鐘，得到第一次清洗后的頻率片；損傷第一研磨體系由平均粒徑為500目的石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水組成；所述第一清洗液由異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水組成；石英砂、乙烯基環(huán)己烯二環(huán)氧化物、溴代丁異酸炔丙酯、N,N-二甲基乙二胺、乙醇、水的質(zhì)量比為8﹕2﹕1﹕1﹕20﹕100；異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、十二水磷酸氫二鈉、亞磷酸二乙酯、水的質(zhì)量比為2﹕2﹕1﹕4﹕100。

（2）將頻率片放入第二研磨體系中，進(jìn)行第二次研磨，時(shí)間為20分鐘；將第二次研磨的頻率片置入第二清洗液中，40Hz超聲清洗24分鐘，得到第二次清洗后的頻率片；所述第二研磨體系由粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水組成；所述第二清洗液由2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水組成；將質(zhì)量比為100﹕3﹕28的貝殼粉、硝酸釔、二氧化鈦650℃燒結(jié)3小時(shí)、球磨粉碎、過5000目篩得到粉體；粉體、丙烯酸、雙(2,3-環(huán)氧基環(huán)戊基)醚、溴代丁異酸炔丙酯、乙醇、水的質(zhì)量比為5﹕4﹕2﹕1﹕25﹕100；2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化銨、異構(gòu)十三醇聚氧乙烯醚、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為6﹕2﹕5﹕2﹕100。

（3）將第二次清洗后的頻率片加入堿液中，浸泡3分鐘后取出放入水中，超聲清洗15分鐘；最后置入酒精中浸泡1分鐘，紅外烘干，即完成頻率片的研磨清洗；堿液由質(zhì)量比為12﹕7﹕6﹕4﹕100的氫氧化鉀、溴化鋰、十二烷基磺酸鈉、乙二胺以及水組成。

本發(fā)明使用加熱的堿性溶液將大部分的頻率片表面研磨液去除，再利用流水超聲波使每片切片表面的殘留研磨液完全震落，有效的清洗切片表面，降低頻率片表面劃痕的發(fā)生率；劃痕不良率大幅下降了，降到了0.5%以下，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于現(xiàn)有的5%。