一種高效研磨組合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高效研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì)：磷酸二氫鈣1-7份，磷酸氫鈣1-3份，過(guò)氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水楊酸鈉2-9份，高嶺土9-10份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺鹽2-3份，水性介質(zhì)50-55份，納米石墨粉1-2份，蒙脫土1-3份，氯化鈣2-5份。本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料，可以降低化學(xué)機(jī)械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力，使化學(xué)機(jī)械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合。
【專利說(shuō)明】一種高效研磨組合物

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種研磨組合物。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造中，化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)整個(gè)晶圓的平坦化，成為芯片制造工藝中重要的步驟之一。在化學(xué)機(jī)械研磨中，化學(xué)機(jī)械研磨劑(Slurry)是化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)的關(guān)鍵要素之一，其性能直接影響拋光后表面的質(zhì)量。設(shè)計(jì)化學(xué)機(jī)械研磨劑時(shí)，希望能達(dá)到去除速率高、平面度好、膜厚均勻、無(wú)殘留、缺陷少等效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種高效研磨組合物。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種高效研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):磷酸二氫鈣1-7份，磷酸氫鈣1-3份，過(guò)氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水楊酸鈉2-9份，高嶺土 9-10份，季戊四醇1-5份,氰尿酸三聚氰胺鹽2-3份，水性介質(zhì)50-55份，納米石墨粉1-2份，蒙脫土 1-3份,氯化韓2-5份。
[0005]本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料，可以降低化學(xué)機(jī)械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力，使化學(xué)機(jī)械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合，從而減少琉水性薄膜表面上的殘留物和顆粒等缺陷，改善化學(xué)機(jī)械研磨的效果。

【具體實(shí)施方式】
[0006]實(shí)施例1
一種高效研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):磷酸二氫鈣1-7份，磷酸氫鈣1-3份，過(guò)氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水楊酸鈉2-9份，高嶺土 9-10份，季戊四醇1-5份,氰尿酸三聚氰胺鹽2-3份，水性介質(zhì)50-55份，納米石墨粉1-2份，蒙脫土 1-3份,氯化韓2-5份。
【權(quán)利要求】
1.一種高效研磨組合物，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):磷酸二氫鈣1-7份，磷酸氫鈣1-3份，過(guò)氧化苯甲酰11-18份，乙酸正丁酯14-21份，水楊酸鈉2-9份，高嶺土9-10份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺鹽2-3份，水性介質(zhì)50-55份，納米石墨粉1-2份，蒙脫土 1-3 份，氯化韓2-5份。
【文檔編號(hào)】C09G1/02GK104046254SQ201410282468
【公開日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月23日
【發(fā)明者】張昊亮 申請(qǐng)人:青島祥海電子有限公司