專利名稱：表面保護薄膜以及粘貼其的光學部件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及粘貼于偏光板、相位差板、用于顯示器的透鏡薄膜等光學部件(以下，稱為光學用薄膜)的表面上的表面保護薄膜。更詳細地，本發(fā)明涉及剝離表面保護薄膜時的剝離靜電壓低，且防靜電性能的經(jīng)時變化及對被粘著體的污染少的表面保護薄膜以及利用其的光學部件。本發(fā)明對2011年5月19日申請的日本專利申請第2011-112518號主張優(yōu)先權(quán)，在此援引該內(nèi)容。
背景技術(shù)：
當制造及搬送使用了偏光板、相位差板、用于顯示器的透鏡薄膜等光學用薄膜的顯示器等光學產(chǎn)品時，在該光學用薄膜的表面上粘貼表面保護薄膜，以防止在后續(xù)エ藝中， 光學用薄膜的表面附著污物或受損。而且，光學用薄膜的性能檢查以及外觀檢查有時是在粘貼表面保護薄膜的狀態(tài)下進行的。現(xiàn)有技術(shù)所提供的表面保護薄膜中，典型的是在基底薄膜的一面設(shè)置具有低粘接力的粘接劑層。粘接劑層為具有將表面保護薄膜粘貼在光學用薄膜上的作用的層。使用具有低粘接力的粘接劑層的理由在于，能夠從光學用薄膜的表面順利地剝離并去除使用完的表面保護薄膜，且能夠防止在光學用薄膜的表面留下粘接劑殘留物。近年來，在液晶顯示器面板等圖像顯示裝置的生產(chǎn)エ藝中，在從光學用薄膜剝離并去除粘貼于光學用薄膜表面上的表面保護薄膜時，會發(fā)生剝離靜電。由于該剝離靜電，發(fā)生液晶用驅(qū)動IC等電路部件被擊穿的現(xiàn)象或液晶分子的配向受損的問題。另外，為了減少液晶顯示器面板的電カ消耗，趨于降低液晶顯示器面板中使用的液晶材料的驅(qū)動電壓。隨之，驅(qū)動IC的擊穿電壓也變低，最近要求將剝離靜電抑制到+0. 7kV -0. 7kV 范圍內(nèi)。因此，為了防止從被粘著體剝離表面保護薄膜時產(chǎn)生的剝離靜電所引起的情況的發(fā)生，提出使用了具有防靜電性能的粘接劑層的表面保護薄膜。例如，專利文獻1(日本特開2005-131957號公報)中公開了使用由溴烷基三甲基胺鹽(alkyltrimethylammonium salt)、含輕基丙烯酸類聚合物、聚異氰酸酯(polyisocyanate)組成的粘接劑組合物的表面保護薄膜。而且，專利文獻2 (日本特開2005-330464號公報)中公開了由尚子液體和酸值I. 0以下的丙烯酸類聚合物組成的粘接劑組合物以及應(yīng)用該粘接劑組合物的粘接片類。并且，專利文獻3(日本特開2005-314476號公報)中公開了由丙烯酸類聚合物、聚醚多醇化合物、陰離子吸附性化合物進行處理的堿性金屬鹽組成的粘接劑組合物以及應(yīng)用其的表面保護薄膜。而且，專利文獻4(日本特開2006-152235號公報)中公開了由離子液體、堿性金屬鹽、玻璃轉(zhuǎn)移溫度為0°c以下的聚合物組成的粘接劑組合物以及應(yīng)用其的表面保護薄膜。如專利文獻I至4所示，當在具有粘接性的聚合物中添加抗靜電劑時，粘接劑層的厚度越厚，隨著時間的推移，抗靜電劑轉(zhuǎn)移到被粘著體的量變的越多。進行防眩光(AntiGlare)處理的偏光板或進行眩光(Glare)處理的偏光板等被粘著體中，通過目視較難確認污染被粘著體的表面的污染物，因此難以作為問題而進行識別。另外，反射防止層設(shè)置于偏光板表面的進行了 AR(Anti Reflective)處理的偏光板等中，非常容易看到表面的污染狀態(tài)。因此，對于被粘著體的表面的污染性(對于表面的污染程度)隨著時間的推移更加顯眼。由于隨著時間的推移，逐漸地發(fā)揮防剝離靜電性能，因此可以推斷出表面保護薄膜的粘接劑層所含有的抗靜電劑的含量將減少。但是，在這種情況下，將表面保護薄膜貼合到被粘著體的初期，剝離靜電壓趨于變高，難以兼顧剝離靜電的防靜電性能和經(jīng)時穩(wěn)定性。而且，為了兼顧剝離靜電的防靜電性能和經(jīng)時穩(wěn)定性，可以假設(shè)減薄粘接劑層的厚度。但是，在這種情況下，難以將粘接カ調(diào)整為預(yù)定值。并且，在進行了防眩光處理的偏光板等光學用薄膜的表面存在凹凸的被粘著體中，表面保護薄膜的粘接劑層的變形無法與·表面的凹凸相對應(yīng)，光學用薄膜的表面的凹凸部中混入氣泡。本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供ー種表面保護薄膜以及粘貼該表面保護薄膜的光學部件，該表面保護薄膜在被剝離時剝離靜電壓低，且防靜電性能的經(jīng)時變化以及對被粘著體的污染少。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述課題，本發(fā)明通過ー層ー層地層疊具有不同的表面電阻率的粘接劑層，使表面保護薄膜的粘接劑層形成兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層。即，在表面保護薄膜的基底的一面上順序地層疊表面電阻率相對高的第一粘接劑層和相比該第一粘接劑層表面電阻率相對低的第二粘接劑層這兩層。據(jù)此，使抗靜電劑僅集中于兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層的表面層。據(jù)此，發(fā)揮預(yù)定的防靜電性能的同時，通過將粘接劑層的層高(兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層的總厚度)維持在一定的厚度以上，從而保持表面保護薄膜對應(yīng)于被粘著體的凹凸形狀的變形。為了解決上述課題，本發(fā)明采用以下的構(gòu)成。本發(fā)明提供的表面保護薄膜的第一形態(tài)為，在透明的基底薄膜的一面順序?qū)盈B而設(shè)置有表面電阻率為IXlO13 (Q/D)以上的第一粘接劑層和表面電阻率小于IXlO13〔Q/ ロ〕的第二粘接劑層。本發(fā)明提供的第二形態(tài)為，在所述第一形態(tài)的表面保護薄膜中，所述第二粘接劑層包含從由表面活性剤、離子液體、堿金屬鹽構(gòu)成的抗靜電劑組中選擇的一種或者多種作為抗靜電劑。本發(fā)明提供的第三形態(tài)為，在所述第一或第二形態(tài)的表面保護薄膜中，所述第二粘接劑層使用(甲基)丙烯酸類聚合物作為基礎(chǔ)聚合物。本發(fā)明提供的第四形態(tài)為，在所述第一至第三形態(tài)中的任意一種形態(tài)的表面保護薄膜中，第一粘接劑層的厚度(A)和第二粘接劑層的厚度(B)的比率(A/B)的范圍為10/1 1/2。本發(fā)明提供的光學部件的第一形態(tài)為粘貼所述第一至第四形態(tài)中的任意ー種形態(tài)的表面保護薄膜的光學部件。本發(fā)明的表面保護薄膜在直接與偏光板、相位差板、透鏡薄膜等光學用薄膜的表面相接的粘接劑層中，使用表面電阻率相對低(小于IXio13Q/□)的第二粘接劑層，將剝離時的剝離耐電壓抑制的低。而且，本發(fā)明的表面保護薄膜使用在基底與表面電阻率相對低的第二粘接劑層之間設(shè)置的、表面電阻率相對高(IXlO13Q/□以上)的第一粘接劑層。通過使用該第一粘接劑層，抑制抗靜電劑滲出的經(jīng)時變化的同時，確保粘接力的穩(wěn)定化和表面保護薄膜針對具有凹凸形狀的被粘接體的對應(yīng)性。其結(jié)果，本發(fā)明的表面保護薄膜抗靜電性能的經(jīng)時變化以及對被粘接體的污染少，剝離時的剝離耐電壓低，能夠切實地保護光學部件的表面。結(jié)果，能夠提高制造光學部件時的成品率。


圖I為示出本發(fā)明的表面保護薄膜的簡略組成例的剖面圖。圖2為示出本發(fā)明所提供的光學部件的一實施例的剖面圖。
具體實施例方式以下，基于本發(fā)明的實施方式，詳細說明本發(fā)明?！DI為示出本發(fā)明的表面保護薄膜的一例的剖面圖。該表面保護薄膜5在透明的基底薄膜I的一面順序?qū)盈B而設(shè)置表面電阻率相對高的第一粘接劑層2和表面電阻率相對低的第二粘接劑層3。并且，用于保護粘接劑面8的剝離薄膜4重疊于第二粘接劑層3的表面。作為本發(fā)明的表面保護薄膜中使用的基底薄膜1，應(yīng)用具有透明性的塑料薄膜。據(jù)此，能夠以粘貼本發(fā)明的表面保護薄膜的狀態(tài)，直接執(zhí)行光學部件的性能檢查以及外觀檢查。作為本發(fā)明的表面保護薄膜中使用的、用于基底薄膜I的塑料薄膜，優(yōu)選地，可使用如聚對苯ニ甲酸こニ醇酯、聚萘ニ甲酸こニ醇酷、聚間苯ニ甲酸こニ醇酯、或者聚對苯ニ甲酸丁ニ酯等聚酷薄膜。而且，若是具有必要的強度以及光學適應(yīng)性的塑料薄膜，還可以使用聚酷薄膜以外的塑料薄膜?；妆∧可以是沒有被延伸的薄膜，也可以是朝單軸或雙軸方向延伸的薄膜。而且，控制了延伸倍率或伴隨延伸的結(jié)晶化而形成的軸方向的角度的塑料薄膜也可以。對于基底薄膜I的厚度并沒有特別的限定。但是，從價格和使用性這一點考慮，基底薄膜I的厚度優(yōu)選為例如12 100 ii m左右，更為優(yōu)選的是20 50 ii m左右。根據(jù)需要，基底薄膜I中，表面電阻率相對高的第一粘接劑層2被層疊的面的相反側(cè)表面6上，設(shè)置用于防止該表面6上附著污潰的防污層、防靜電層、或者用于防止劃傷的硬質(zhì)涂層等?；蛘?，除了設(shè)置這種層，作為替代，也可以對表面6實施電暈處理、大氣壓等離子處理、或者中介涂層處理等簡易的表面處理。由兩層構(gòu)成的粘接劑層7中，表面電阻率相對高的第一粘接劑層2設(shè)置在基底薄膜I ー側(cè)，是表面電阻率為IXlO13Q / □以上的具有透明性的粘接劑層。對于表面電阻率相對高的第一粘接劑層2所使用的粘接劑組成物來說，只要能滿足與基底薄膜I的緊貼カ大、粘接カ的穩(wěn)定性高、對表面電阻率相對低的第二粘接劑層3沒有不良影響等特性，則可以使用公知的粘接劑組合物。表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的具體的粘接劑組合物可使用橡膠類粘接劑、丙烯酸類粘接劑、或者氨酯類粘接劑等。橡膠類粘接劑是在天然橡膠、或者合成橡膠等彈性材料中組合增粘劑、軟化劑、防老化劑、或者填充劑等的粘接劑。根據(jù)需要，也可以在該橡膠類粘接劑中添加交聯(lián)劑。丙烯酸類粘接劑為根據(jù)需要在(甲基)丙烯酸類聚合物中添加了硬化劑和增粘劑的粘接劑。表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的粘接劑組合物中使用的(甲基)丙烯酸類聚合物通?？衫e將由n-丙烯酸丁酷、丙烯酸-2-こ基こ酷、丙烯酸異辛酯(iso-octylacrylate)、丙烯酸異壬酯(isononyl acrylate)等(甲基)丙烯酸燒基酯(alkyl (meta)acrylate)(優(yōu)選為烷基的碳原子數(shù)為4以上的(甲基)丙烯酸烷基酷)構(gòu)成的主単體與丙烯腈、醋酸こ烯酯、甲基丙烯酸甲酷、丙烯酸こ酯等共聚用單體、或者具有丙烯酸、甲基丙烯酸、輕こ基丙烯酸酯(Hydroxyethyl acrylate)、輕基丁基丙烯酸酯(Hydroxybutylacrylate)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(Glycidyl methacrylate)、N-輕甲基甲基丙烯酰胺(N-Methylol methacrylamide)等官能團的(甲基)丙烯酸類單體共聚合的聚合體。作為硬化劑可以例舉異氰酸鹽化合物、環(huán)氧化合物、三聚氰胺化合物、或者金屬螯 合化合物等。增粘劑可以例舉松香類、古馬隆-茚類、萜烯類、石油類、或者苯酚類。作為氨酯類粘接劑，可以例舉改變了硬段和軟段的種類、組合比的物質(zhì)。作為表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的粘接劑組合物，由于要具有出色的透明性、耐熱性、以及耐久性，且對于第二粘接劑層3的影響程度低，因此優(yōu)選丙烯酸類粘接齊U。由兩層構(gòu)成的粘接劑層7中，表面電阻率相對低的第二粘接劑層3設(shè)置在被粘著體ー側(cè)，同時用于粘貼被粘著體，是表面電阻率小于IXlO13Q/□的具有透明性的粘接劑層。該第二粘接劑層3是在(甲基)丙烯酸類聚合物等的基礎(chǔ)聚合物中混合抗靜電劑的粘接劑層。優(yōu)選地，根據(jù)需要，由在第二粘接劑層3中添加硬化劑和增粘劑的粘接劑組合物組成第二粘接劑層3。表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的粘接劑組合物中使用的(甲基)丙烯酸類聚合物優(yōu)選使用將由n-丙烯酸丁酷、丙烯酸-2-こ基こ酷、丙烯酸異辛酯(iso-octylacrylate)、丙烯酸異壬酷(isononyl acrylate)等(甲基)丙烯酸燒基酯(alkyl (meta)acrylate)(優(yōu)選為烷基的碳原子數(shù)為4以上的(甲基)丙烯酸烷基酷)構(gòu)成的主単體與丙烯腈、醋酸こ烯酯、甲基丙烯酸甲酷、丙烯酸こ酯等共聚用單體、或者具有丙烯酸、甲基丙烯酸、輕こ基丙烯酸酯(Hydroxyethyl acrylate)、輕基丁基丙烯酸酯(Hydroxybutylacrylate)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(Glycidyl methacrylate)、N-輕甲基甲基丙烯酰胺(N-Methylol methacrylamide)等官能團的(甲基)丙烯酸類單體共聚合的聚合體。根據(jù)第二粘接劑層3所需的特性，可以選擇更恰當?shù)恼辰觿┙M合物。作為抗靜電劑，優(yōu)選針對(甲基)丙烯酸類聚合物的分散性或相溶性良好的抗靜電劑，可以例舉表面活性剤、離子液體、堿性金屬鹽、金屬氧化物、金屬微粒子、導(dǎo)電性聚合物、碳或者碳納米管。但是，考慮到表面電阻率相對低的第二粘接劑3的透明性和對于(甲基)丙烯酸類聚合物的親和性等，作為抗靜電劑，第二粘接劑層3優(yōu)選包含由表面活性剤、離子液體、或者堿性金屬鹽等組成的抗靜電劑組中選擇的ー種或多種。作為表面活性剤，可例舉非離子類、陽離子類、陰離子類、或者兩性類等。作為非離子類表面活性劑,可例舉燒基聚氧こ烯醚類(polyoxyethylene alkylether)、聚氧こ烯烷基苯基醚類、山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧こ烯山梨醇酐脂肪酸酷、聚氧化こ烯脂肪酸酷、脂肪酸甘油酷、丙ニ醇酯脂肪酸、或者聚氧化烯改性硅樹脂類等。作為陽離子類表面活性剤，可以例舉溴烷基三甲基胺鹽類、ニ烷基ニ甲基銨鹽類、或者烷基ニ甲基芐基銨鹽類等。作為陰離子表面活性剤，可以例舉單烷基硫酸鹽類、烷基聚環(huán)氧こ烯硫酸類、烷基苯磺酸鹽類、或者單烷基磷酸鹽類等。作為兩性表面活性剤，可以例舉烷基ニ甲基胺氧化物、或者烷基羧基甜萊堿等。作為離子液體，可以例舉由陰離子和陽離子構(gòu)成的、在常溫(例如，25°C )下為液體的非高分子物質(zhì)。作為陽離子部分，咪唑類離子等環(huán)狀脒離子、吡啶鎗離子、銨離子、锍離子、或者鱗離子等。作為陰離子部分，可以例舉CnH2n+1C00_、CnF2n+1C00_、N03_、CnF2n+1S03_、(CnF2n+1S02) 2N\ (CnF2n+1S02) 3C\ PO42' AlCl4' Al2Cl7' ClO4' BF4' PF6' AsF6'或者 SbFfT 等。
·
作為堿性金屬鹽，可以例舉由鋰、鈉、或者鉀構(gòu)成的金屬鹽。為了離子性物質(zhì)的穩(wěn)定化，也可以在該堿性金屬鹽中添加含有聚こニ醇構(gòu)成的化合物。表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的粘接劑組合物中，相對于(甲基)丙烯酸類聚合物等基礎(chǔ)聚合物的抗靜電劑的添加量，依據(jù)抗靜電劑的種類和與基礎(chǔ)聚合物相溶性的程度而有所不同。該抗靜電劑的添加量只要考慮表面電阻率、對于被粘著體的污染性、或者粘接力等設(shè)定即可。兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7中，表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的厚度(A)與表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的厚度(B)的比率(A/B)，優(yōu)選在10/1 1/2的范圍。本發(fā)明的表面保護薄膜5的基底薄膜I的一面層疊具有粘接カ以及剝離表面保護薄膜時的剝離靜電壓低、對被粘著體的污染的經(jīng)時變化少等性能的粘接劑層。在表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的厚度(A)超過表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的厚度⑶的10倍(即，A/B > 10/1)的情況下，當兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度(T)較薄時，剝離時的剝離靜電壓變高。另外，當兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度(T)較厚時，剝離時的剝離靜電壓可以被抑制。但是，當粘接劑層7的總厚度(T)較厚吋，由于高速剝離時的粘接力變的過高，或粘接劑層的成本變高，因此價格競爭カ降低。在表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的厚度(B)超過表面電阻率相對高的第一粘接劑層2的厚度(A)的2倍(即，A/B < 1/2)的情況下，當兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度(T)較薄時，難以將粘接カ調(diào)整至預(yù)定值。并且，進行了防眩光處理的偏光板等在表面具有凹凸形狀的被粘著體中，表面保護薄膜5的兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的變形無法與表面的凹凸形狀相對應(yīng)，該表面的凹凸形狀部分有可能混入氣泡。另外，當兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度(T)較厚時，對于作為被粘著體的光學用薄膜的表面的污染性隨著時間的推移有可能變得嚴重。對于兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度(T)，并沒有特別的限定。但是，兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層7的總厚度⑴例如為5 40iim左右，優(yōu)選為10 30iim左右。優(yōu)選地，本發(fā)明的表面保護薄膜5中，作為用于被粘著體的粘接劑層而配置對于被粘著體的表面的剝離強度為0. 03 0. 3N/25mm左右的、具有輕微粘貼性的低粘貼劑層構(gòu)成的第二粘接劑層3。在基底薄膜I的一面順序?qū)盈B表面電阻率相對高的第一粘接劑層2和表面電阻率相對低的第二粘接劑層3的方法，可采用公知的方法，并無特別的限制。具體來說，可以采用以下方法⑴ ⑶中的任何方法。(I)在基底薄膜I的一面涂布表面電阻率相對高的第一粘接劑層2并進行干燥，由此完成相對基底薄膜I的第一粘接劑層2的層疊。隨后，在與基底薄膜I相接的面相反的第一粘接劑層2的表面上涂布表面電阻率相對低的第二粘接劑層3并進行干燥，由此完成相對第一粘接劑層2的第二粘接劑層3的層疊。(2)在基底薄膜I的一面，涂布表面電阻率相對高的第一粘接劑層2。在第一粘接劑層2干燥之前，在與基底薄膜I相接的面相反的第一粘接劑層2的表面上涂布表面電阻率相對低的第二粘接劑層3。隨后，對于第一粘接劑層2以及第二粘接劑層3同時進行干燥。(3)分別制作在基底薄膜I的一面涂布表面電阻率相對高的第一粘接劑層2并進行干燥的物件和在剝離薄膜4的一面涂布表面電阻率相對低的第二粘接劑層3并進行干燥的物件。將兩者上的第一粘接劑層2和第二粘接劑層3貼合?！ぴ诨妆∧的一面形成兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層的方法能夠采用公知的方法。具體來說，能夠采用逆轉(zhuǎn)涂布、逗號涂布、凹版涂布、狹縫涂布、麥勒棒涂布、氣刀涂布等涂布方法。在基底薄膜I上順序?qū)盈B第一粘接劑層2和第二粘接劑層3而形成的粘貼片中，通常使用剝離薄膜4保護第二粘接劑層3的表面。但是，根據(jù)需要，可以不使用剝離薄膜4，而是通過將在基底薄膜I上順序?qū)盈B第一粘接劑層2和第二粘接劑層3的粘貼片卷成膠帶狀而實現(xiàn)卷取形態(tài)的產(chǎn)品。對于剝離薄膜4的構(gòu)成并無特別的限定。也可以是使用硅類剝離劑等剝離劑在聚酷薄膜等的樹脂薄膜的表面實施剝離處理的剝離薄膜。通過在具有上述構(gòu)成的表面保護薄膜5的基底薄膜I的一面層疊含有抗靜電劑的第二粘接劑層3，能夠?qū)⒈砻姹Ｗo薄膜剝離時的剝離靜電壓抑制的較低。最為優(yōu)選的是，能夠?qū)崿F(xiàn)如下的防靜電性能，即，從作為被粘著體的光學用薄膜剝離時的剝離靜電壓能夠被抑制為+0. 7kV -0. 7kV、期望被抑制為+0. 5kV -0. 5kV、更期望被抑制為+0.IkV -0. lkV。該剝離靜電壓能夠根據(jù)第二粘接劑層3所包含的抗靜電劑的種類和含有量等進行調(diào)整。圖2為示出本發(fā)明的光學部件10的一例的概略組成圖。該光學部件10中，通過層疊在第一粘接劑層2之上的第二粘接劑層3，將上述表面保護薄膜5粘貼在光學用薄膜11的表面。作為光學用薄膜11，可以例舉偏光板、相位差板、透鏡薄膜、相位差板兼偏光板、透鏡薄膜兼偏光板等。這種光學用薄膜11可以設(shè)置在液晶顯示面板等液晶顯示裝置、各種計量器類光學裝置等。在此，光學用薄膜11不限定于其厚度，包含板或片、薄膜等。而且，本發(fā)明的表面保護薄膜也可以應(yīng)用于防反射薄膜、硬膜(hard court film)、觸摸面板用透明導(dǎo)電薄膜等的制造エ藝中。根據(jù)本發(fā)明的光學部件10，在使用完表面保護薄膜5而剝離去除吋，能夠?qū)⒐鈱W用薄膜11的剝離靜電壓抑制為足夠低。其結(jié)果，不存在使驅(qū)動IC、TFT原件、柵極線驅(qū)動電路等電路部件短路而使其受損的可能性，能夠保證液晶顯示面板等顯示裝置的可靠度。實施例
以下，以實施例進ー步對本發(fā)明進行說明。(實施例I的表面保護薄膜的制作)為了形成表面電阻率為IXlO13 (Q/ ロ〕以上的第一粘接劑層，在100重量份的由丙烯酸-2-こ基こ酯和含羥基丙烯酸單體構(gòu)成的丙烯酸類基礎(chǔ)聚合物中混合3重量份的作為硬化劑的異氰酸鹽類硬化劑而制作了粘接劑組合物(a)。另外，為了形成表面電阻率小于IXlO13〔 Q/ ロ〕的第二粘接劑層，在粘接劑組合物(a)中混合了作為抗靜電劑的、屬于溴烷基三甲基胺鹽的氯化溴烷基三甲基胺(花王株式會社產(chǎn)，商品名ュレクトロストリッパー QN)而制作了粘接劑組合物(b)。其中，以相對于100重量份的粘接劑組合物(a)混入I重量份的氯化溴烷基三甲基胺的比率進行混合。在此，在厚度為38 iim的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上涂布粘接劑組合物(a)，且涂布為使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到20 ym，并進行干燥之后，所測量的粘接劑組合物(a)的表面電阻率為I. 5X IO14〔Q/ロ〕。另外，在厚度為38 iim的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上涂布粘接劑組合物(b)，且涂 布為使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到20 ym，并進行干燥之后，所測量的粘接劑組合物(b)的表面電阻率為7. 5 X IO12〔 Q / ロ〕。接著，為了制作實施例I的表面保護薄膜，首先，在作為基底薄膜來使用的厚度為38 iim的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上，涂布粘接劑組合物(a)，且涂布成使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到15 ym，由此層疊了粘接劑組合物(a)。之后，在粘接劑組合物(a)的涂布面上涂布粘接劑組合物(b)，且涂布成使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到5 (兩層的粘接劑層的總厚度為20 ym)，由此層疊了粘接劑組合物(b)。隨后，使用熱風循環(huán)式烤箱對兩層的粘接劑層進行干燥而使其固化。之后，為了保護兩層的粘接劑層表面，貼合使用硅類剝離劑實施剝離處理的聚對苯ニ甲酸こニ醇酷(PET)薄膜(剝離薄膜)，制作了粘貼片。將獲得的粘貼片在40°C的溫度下老化3天，從而得到了實施例I的表面保護薄膜。(實施例2的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到17 ym，并層疊了粘接劑組合物(b)，使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到3 Pm。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了實施例2的表面保護薄膜。(實施例3的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)和粘接劑組合物(b)，使干燥后的粘接劑組合物(a)和粘接劑組合物(b)的涂布厚度總共達到10 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了實施例3的表面保護薄膜。(比較例I的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面，沒有使用粘接劑組合物(b)，而僅層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到20 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了比較例I的表面保護薄膜。(比較例2的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面，沒有使用粘接劑組合物(a)，而僅層疊了粘接劑組合物(b)，使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到20 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了比較例2的表面保護薄膜。(比較例3的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到19 ym，并層疊了粘接劑組合物(b)，使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到Iu m。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了比較例3的表面保護薄膜。(比較例4的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到5 ym，并層疊了粘接劑組合物(b)，使干燥后的粘接劑組合物(b)的涂布厚度達到15 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了比較例4的表面保護薄膜。(實施例4的表面保護薄膜的制作)
·
在100重量份的粘接劑組合物(a)中添加I. 0重量份的作為抗靜電劑的屬于鋰金屬鹽的過氯酸鋰，制作了粘接劑組合物(C)。在此，在厚度為38 iim的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上，涂布粘接劑組合物(C)，使干燥后的粘接劑組合物(c)的涂布厚度達到20 ym，并進行干燥之后，所測量的粘接劑組合物(c)的表面電阻率為2. 8X1011〔 Q/ ロ〕。接著，為了制作實施例4的表面保護薄膜，在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到15 ym，并層疊了粘接劑組合物(C)，使干燥后的粘接劑組合物(c)的涂布厚度達到5 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了實施例4的表面保護薄膜。(實施例5的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到18 ym，并層疊了粘接劑組合物(C)，使干燥后的粘接劑組合物(c)的涂布厚度達到2 Pm。除此之外，與實施例4相同的方法，獲得了實施例5的表面保護薄膜。(比較例5的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到19 ym，并層疊了粘接劑組合物(C)，使干燥后的粘接劑組合物(c)的涂布厚度達到I U m。除此之外，與實施例4相同的方法，獲得了比較例5的表面保護薄膜。(比較例6的表面保護薄膜的制作)在100重量份的粘接劑組合物(a)中添加2重量份的作為抗靜電劑的屬于鋰金屬鹽的過氯酸鋰，制作了粘接劑組合物(d)。在此，在厚度為38 iim的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上涂布粘接劑組合物(d)，使干燥后的粘接劑組合物(d)的涂布厚度達到20 ym，并進行干燥之后，所測量的粘接劑組合物(d)的表面電阻率為6. SXlO1VQ/接著，為了制作比較例6的表面保護薄膜，在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到19 ym，并層疊了粘接劑組合物(d)，使干燥后的粘接劑組合物(d)的涂布厚度達到I Pm。除此之外，與實施例4相同的方法，獲得了比較例6的表面保護薄膜。(比較例7的表面保護薄膜的制作)在基底薄膜的一面，沒有使用粘接劑組合物(a)，而僅層疊了粘接劑組合物(C)，使干燥后的粘接劑組合物(C)的涂布厚度達到5 ym。除此之外，與實施例4相同的方法，獲得了比較例7的表面保護薄膜。(實施例6的表面保護薄膜的制作)在100重量份的粘接劑組合物(a)中添加5重量份的作為抗靜電劑的離子液體(3M公司制造，產(chǎn)品型號FC-4400)，制作了粘接劑組合物(e)。在此，在厚度為38 y m的雙軸延伸聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)薄膜的一面上涂布粘接劑組合物(e)，使干燥后的粘接劑組合物(e)的涂布厚度達到20 ym，并進行干燥之后，所測量的粘接劑組合物(e)的表面電阻率為6. 3X1012 ( Q/ □) 接著，為了制作實施例6的表面保護薄膜，在基底薄膜的一面層疊了粘接劑組合物(a)，使干燥后的粘接劑組合物(a)的涂布厚度達到15 ym，并層疊了粘接劑組合物(e)，使干燥后的粘接劑組合物(e)的涂布厚度達到5 ym。除此之外，與實施例I相同的方法，獲得了實施例6的表面保護薄膜。
·
以下，示出評價試驗的方法及結(jié)果。(表面保護薄膜的粘接カ測量方法)在玻璃板的一面，使用貼合機通過粘接劑層貼合眩光偏光板。之后，在偏光板的表面粘貼被切割為25mm寬的表面保護薄膜之后，將其在23°C、50% RH的環(huán)境下保存I天。之后，使用牽引試驗機測量以300mm/分的剝離速度沿180°方向剝離表面保護薄膜時的剝離強度，并將該剝離強度作為表面保護薄膜的粘接力。<表面保護薄膜的剝離靜電壓的測量方法>在玻璃板的一面，使用貼合機通過粘接劑層貼合眩光偏光板。之后，在偏光板的表面粘貼被切割為25mm寬的表面保護薄膜。之后,使用高速剝離試驗機(tester產(chǎn)業(yè)制造)，以每分鐘40m的速度剝離表面保護薄膜的同時，使用表面電位計(Keyence公司制造)每隔IOms測量了偏光板表面的表面電位。將此時的表面電位的絕對值的最大值作為了剝離靜電壓。<表面保護薄膜對被粘著體的表面的污染性的評價方法>在玻璃板的一面，使用貼合機通過粘接劑層貼合實施了低反射表面處理的偏光板。之后，使用貼合機在偏光板的表面貼合表面保護薄膜之后，在23°C、50% RH的環(huán)境下將其保存了 3天以及30天。然后，剝離表面保護薄膜，以目視的方法觀察偏光板的表面污染狀態(tài)。對于被粘著體的表面的污染性的評價方式為，當偏光板的表面沒有污染時評價為“〇”，存在微量污染時評價為“A”，存在污染時評價為“ X ”。(表面保護薄膜的貼合外觀的評價方法)作為被粘著體，使用眩光偏光板以及實施低反射防眩光處理的偏光板，通過貼合機將表面保護薄膜貼合在了被粘著體的表面。以目視的方式觀察此時的貼合外觀。貼合外觀的評價方式為，當相對被粘著體的表面保護薄膜的貼合外觀良好時評價為“〇”，貼合外觀不良時評價為“ X ”。將對于實施例I 6以及比較例I 7的樣品的測量結(jié)果表不在表I。在此,表I中，第一粘接劑層的厚度標記為(A)，第二粘接劑層的厚度標記為(B)。表I
J膜W (Pm)杭■電劑粘貼カ剎離靜mlii衣_汚染性貼合
_I A _ B___(N/25mm) _Ck￥)_ 3 天 30 天 _ 外觀
I-It W I I 15 5 4 級銨鹽 0.10 0.2 OO O劣施_2 !J7 3 4 級銨鹽 0.12 0.4 OO O實施_3 !JO 10 4 級銨鹽 0.09 0.1 OOO實施例 4 I 15 5 _0鹽 0.09 0.1 OOO文施例 5 [18 2 Li 鹽 0.10 0.2 OOO實施例6 I 15 5 離f■液體 OJl 0.4 OOO比較例 I [20 0 無 0.12 1.8 OOO比較簡2 J 0 20 4級銨鹽 0掘 0.2 OXO比較例3 I 19 I 4級銨鹽 OJ 3 1.7 O 〇 〇比較例4丨:5 15 4級銨鹽 d08 0.2 OXO·比較例 5 I 19 I Li 鹽 CUl 1.4 OO O比較例 6 I 19 I LUfc(IfnA) 0.06 0.3 AXO比較例 7 [0 5_ Li 鹽 _ 0.02 _ 0.4_ 0—0 一 X —從表I所示的測量結(jié)果中，可以確認以下的情況?；趯嵤├齀 6的測量結(jié)果可知，本發(fā)明的表面保護薄膜構(gòu)成為具備適當?shù)恼辰恿?，?jīng)過了 30天后被粘著體的表面也沒有污染，剝離表面保護薄膜時的剝離靜電壓低。相對于此，僅使用表面電阻率相對高的第一粘接劑層的比較例I中，由于剝離表面保護薄膜時的剝離靜電壓高，因此在剝離表面保護薄膜時有可能產(chǎn)生驅(qū)動IC的破損或液晶分子配向的損失等。而且，僅使用表面電阻率相對低的第二粘接劑層的比較例2中，在經(jīng)過30天之后被粘著體的表面產(chǎn)生污染，因此存在隨著時間的推移，被粘著體的表面上污染加重的可能性。而且，在由表面電阻率相對高的第一粘接劑層和表面電阻率相對低的第二粘接劑層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層中，若兩層結(jié)構(gòu)的粘接劑層的厚度的平衡被破壞時，剝離表面保護薄膜時的剝離靜電壓變高，或者存在隨著時間的推移，對被粘著體的表面的污染加重的可能性(比較例3 6)。并且，比較例7中忽略了粘接劑層的總厚度層疊為20um的條件，在對于被粘著體的表面的污染不會成為問題的范圍內(nèi)，僅將表面電阻率相對低的第二粘接劑層層疊在基底薄膜的表面，并使粘接劑層的厚度達到5 ym，由此制作了表面保護薄膜。但是，該表面保護薄膜的粘接力低，無法漂亮地粘貼到被粘著體的表面。S卩，本發(fā)明的表面保護薄膜在例如偏光板、相位差板、透鏡薄膜等光學用薄膜以及使用此光學用薄膜的顯示器等光學部件的制造エ藝中，通過貼合到光學用薄膜以及光學部件等表面，能夠切實地保護表面。而且，本發(fā)明的表面保護薄膜能夠應(yīng)用于防反射薄膜、硬膜、觸摸面板用透明導(dǎo)電性薄膜等制造エ藝。以上，說明了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但是本發(fā)明并不局限于這些實施例。在不脫離本發(fā)明的主g的范圍之內(nèi)，可以進行配件的増加、省略、置換以及其他變更。即，本發(fā)明并不局限于前述的說明，顯然可以在本申請說明書中記載的范圍之內(nèi)，得到各種變更例或者修 改例，但顯然這些也屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種表面保護薄膜，其特征在于，在透明的基底薄膜的一面順序?qū)盈B而設(shè)置表面電阻率為IXlO13〔 Q/口〕以上的第一粘接劑層和表面電阻率小于IXlO13〔 Q/口〕的第二粘接劑層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的表面保護薄膜，其特征在于，所述第二粘接劑層包含從由表面活性劑、離子液體、堿金屬鹽構(gòu)成的抗靜電劑組中選擇的一種或者多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的表面保護薄膜，其特征在于，所述第二粘接劑層使用(甲基)丙烯酸類聚合物作為基礎(chǔ)聚合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面保護薄膜，其特征在于，所述第二粘接劑層使用(甲基)丙烯酸類聚合物作為基礎(chǔ)聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中的任意一項所述的表面保護薄膜，其特征在于，第一粘接劑層的厚度(A)和第二粘接劑層的厚度(B)的比率(A/B)的范圍為10/1 1/2。
6.一種粘貼權(quán)利要求I所述的表面保護薄膜的光學部件。
7.一種粘貼權(quán)利要求2所述的表面保護薄膜的光學部件。
8.一種粘貼權(quán)利要求3所述的表面保護薄膜的光學部件。
9.一種粘貼權(quán)利要求4所述的表面保護薄膜的光學部件。
10.一種粘貼權(quán)利要求5所述的表面保護薄膜的光學部件。
全文摘要
本發(fā)明的表面保護薄膜在透明的基底薄膜的一面順序?qū)盈B而設(shè)置表面電阻率為1×1013〔Ω/□〕以上的第一粘接劑層和表面電阻率小于1×1013〔Ω/□〕的第二粘接劑層。
文檔編號C09J133/00GK102786884SQ201210151639
公開日2012年11月21日 申請日期2012年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月19日
發(fā)明者小林弘幸, 春日充, 林益史, 飯沼佳子 申請人:藤森工業(yè)株式會社