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液晶取向劑、液晶取向膜的制造方法和液晶顯示元件的制作方法

文檔序號(hào):3812132閱讀:120來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:液晶取向劑、液晶取向膜的制造方法和液晶顯示元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶取向劑、液晶取向膜的制造方法和液晶顯示元件。
背景技術(shù)
在液晶顯示元件中,為了在相對(duì)于基板面的規(guī)定方向上對(duì)液晶分子進(jìn)行取向,在基板表面設(shè)置液晶取向膜。該液晶取向膜通常通過(guò)用人造絲等布料在基板表面上形成的有機(jī)膜表面上,以一個(gè)方向上摩擦的方法(打磨法)形成。這在橫電場(chǎng)方式的液晶顯示元件中也是同樣的。然而,如果通過(guò)打磨處理形成液晶取向膜,具有下述問(wèn)題在打磨工序中容易產(chǎn)生灰塵或靜電,因此會(huì)在取向膜表面附著灰塵,從而成為顯示不佳的原因,除此之外, 在具有TFT(薄膜晶體管)元件的基板的情況下,由于產(chǎn)生的靜電,還會(huì)有破壞TFT元件的電路而導(dǎo)致產(chǎn)品成品率降低這樣的問(wèn)題。因此,作為在液晶盒中使液晶取向的其他方法,提出了在基板表面上形成的放射線敏感性的有機(jī)薄膜中照射偏光或非偏光的放射線,從而賦予液晶取向能力的光取向法(參見(jiàn)專利文獻(xiàn)1 6)。通過(guò)該光取向法,可以在工序中不產(chǎn)生灰塵或靜電,形成均勻的液晶取向。此外,作為液晶顯示元件,已知以TN(扭曲向列)型、STN(超扭曲向列)型等為代表的使用具有正介電各向異性的向列型液晶的水平取向模式的液晶顯示元件,以及使用具有負(fù)介電各向異性的向列型液晶的垂直(Homeotropic)取向模式的VA(垂直取向)型液晶顯示元件。在該工作模式中,在基板間施加電壓,使液晶分子朝向與基板平行的方向傾斜時(shí),液晶分子必須從基板法線方向朝向一定的方向傾斜。作為此方法,可以采用例如在基板表面設(shè)置突起的方法;在透明電極上設(shè)置帶狀條紋的方法、通過(guò)使用打磨取向膜,從而使液晶分子傾斜,由基板法線方向朝向基板面內(nèi)的一個(gè)方向(預(yù)傾斜)的方法等。上述光取向方法能用作在垂直取向模式的液晶顯示元件中,控制液晶分子傾斜方向的方法。即,已知通過(guò)使用能通過(guò)光取向方法賦予取向控制能力和預(yù)傾角體現(xiàn)性的垂直取向性的液晶取向膜, 從而能均勻控制施加電壓時(shí)的液晶分子傾斜方向(專利文獻(xiàn)1、2和4 6)。由此,通過(guò)光取向法制備的液晶取向膜,能有效適用于各種液晶顯示元件。然而, 為了在有機(jī)薄膜中通過(guò)光取向法賦予液晶取向能力,必須照射10,000J/m2以上的強(qiáng)放射線,由于構(gòu)成有機(jī)薄膜的分子切斷會(huì)產(chǎn)生性能惡化的問(wèn)題,此外,還會(huì)引起放射線照射裝置的隨時(shí)間惡化(例如紫外線燈的光照射強(qiáng)度的隨時(shí)間惡化),從降低液晶顯示元件制造成本的觀點(diǎn)來(lái)看,存在問(wèn)題。此外,指出了通過(guò)光取向法形成的液晶取向膜即使在形成初始具有預(yù)傾角體現(xiàn)性,其有時(shí)也會(huì)隨時(shí)間改變,要求進(jìn)行改善。該點(diǎn)在使用光取向法時(shí),作為通過(guò)非常少的放射線照射量就體現(xiàn)良好的液晶取向性能的新液晶取向膜材料,報(bào)道了由在分子內(nèi)導(dǎo)入特定感光性部位的聚酰胺酸或聚酰亞胺構(gòu)成的材料(專利文獻(xiàn)7 9)。在這些文獻(xiàn)中記載的液晶取向劑通過(guò)500 3,000J/m2左右的放射線照射,就能形成顯示出良好液晶取向性的液晶取向膜,是優(yōu)異的材料。然而,對(duì)于近年來(lái)液晶顯示元件的高精細(xì)化和高速響應(yīng)性,人們的期望越來(lái)越大, 為此,需要繼續(xù)改善基板構(gòu)成等的硬面上進(jìn)行改善。因此,在基板面上不可避免地會(huì)產(chǎn)生復(fù)雜的高度差,且為了在該高度差部分上確保良好的目視確認(rèn)性,對(duì)于液晶取向劑的涂布性或印刷性的要求比目前增加很多。此外,在具有根據(jù)光取向法的液晶取向膜的液晶顯示元件中,存在殘影和燒屏的問(wèn)題,期望對(duì)其進(jìn)行改善。尤其是由于上述預(yù)傾角引起的在畫面上產(chǎn)生的亮度差,觀察者會(huì)認(rèn)為是燒屏,急需對(duì)其進(jìn)行改善。 如上所述,尚未知曉下述液晶取向劑,并且非常期望提供該液晶取向劑。該液晶取向劑能根據(jù)少量的放射線照射量有利地體現(xiàn)光取向法的優(yōu)點(diǎn),且能夠形成顯示出改善了的殘影特性和燒屏特性的液晶取向膜?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2003-307736號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2004-163646號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3 日本特開(kāi)2002-2509 號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4 日本特開(kāi)2004-83810號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)5 日本特開(kāi)平9-211468號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)6 日本特開(kāi)2003-114437號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)7 :W02009/25385A1
專利文獻(xiàn)8 :W02009/25386A1
專利文獻(xiàn)9 :W02009/25388A1
專利文獻(xiàn)10日本特開(kāi)昭63-291922號(hào)公報(bào)
非專利文獻(xiàn)
非專利文獻(xiàn) 1 :T. J. Scheffer et. al. J. App 1. Phys. vol. 19,p2013 (1980)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述事情做出的,其目的在于提供一種在具有精細(xì)凹凸的面板上的涂布性或印刷性優(yōu)異,同時(shí)通過(guò)少量的放射線照射量的光取向法就能賦予良好的液晶取向性(預(yù)傾角體現(xiàn)性),且能賦予燒屏特性優(yōu)異的液晶取向膜的液晶取向劑。本發(fā)明的另一目的是提供一種具有由上述液晶取向劑形成的燒屏特性優(yōu)異的液晶取向膜,長(zhǎng)期可靠性優(yōu)異的液晶顯示元件。
本發(fā)明的另一目的和優(yōu)點(diǎn)可以由以下說(shuō)明體現(xiàn)。
本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)其一是通過(guò)一種液晶取向劑實(shí)現(xiàn),其含有
(A)具有下式(Al)表示的結(jié)構(gòu)的聚有機(jī)硅氧烷,
權(quán)利要求
1. 一種液晶取向劑,其含有(A)具有下式(Al)表示的結(jié)構(gòu)的聚有機(jī)硅氧烷,
2.如權(quán)利要求1所述的液晶取向劑,其中,上述二胺還包括(bl)二胺,其具有碳原子數(shù)為4 20的烷基、碳原子數(shù)為4 20的烷氧基、具有連接兩個(gè)以上6元環(huán)結(jié)構(gòu)的基團(tuán)或具有類固醇結(jié)構(gòu)的基團(tuán)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的液晶取向劑,其中,上述(A)聚有機(jī)硅氧烷是具有環(huán)氧基的聚有機(jī)硅氧烷與具有上式(Al)表示的結(jié)構(gòu)的羧酸的反應(yīng)產(chǎn)物。
4.如權(quán)利要求3所述的液晶取向劑,其中,上述( )二胺是下式(b2-l)表示的化合物,
5.如權(quán)利要求3所述的液晶取向劑,其中,上述(bl)二胺是包含具有類固醇結(jié)構(gòu)的基團(tuán)的二胺。
6.一種液晶取向膜的形成方法,其特征在于,涂布權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所述的液晶取向劑形成涂膜,向該涂膜照射放射線。
7.一種液晶顯示元件,其特征在于具有由權(quán)利要求1 5任一項(xiàng)所述的液晶取向劑形成的液晶取向膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種液晶取向劑、液晶取向膜的制造方法和液晶顯示元件。本發(fā)明提供了一種在具有精細(xì)凹凸的面板上的涂布性乃至印刷性優(yōu)異,同時(shí)通過(guò)少量的放射線照射量的光取向法就能賦予良好的液晶取向性(預(yù)傾角體現(xiàn)性),且能賦予燒屏特性優(yōu)異的液晶取向膜的液晶取向劑。上述液晶取向劑包含具有特定感光性結(jié)構(gòu)的聚有機(jī)硅氧烷以及聚合物,該聚合物為從聚酰胺酸和將該聚酰胺酸脫水閉環(huán)得到的聚酰亞胺組成的群中選出的至少一種,該聚酰胺酸為將四羧酸二酐與二胺反應(yīng)得到,該二胺包括具有碳原子數(shù)為4~20的烷基、碳原子數(shù)為4~20的烷氧基、連接兩個(gè)以上6元環(huán)結(jié)構(gòu)的基團(tuán)、或具有類固醇結(jié)構(gòu)的基團(tuán)的二胺;以及具有羧基的二胺。
文檔編號(hào)C09K19/56GK102241991SQ20111012860
公開(kāi)日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2011年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月14日
發(fā)明者大場(chǎng)佑樹(shù), 宮本佳和, 熊谷勉, 秋池利之 申請(qǐng)人:Jsr株式會(huì)社
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