專利名稱：減壓干燥室結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種減壓干燥室結(jié)構(gòu)，屬于干燥處理技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
減壓干燥室是用于為涂敷有光刻膠、涂料等混合化學(xué)品的基板提供均勻減壓干燥 處理的設(shè)備。如圖1所示，現(xiàn)有減壓干燥室結(jié)構(gòu)主要包括上蓋11和下蓋12，彼此扣合形成 室內(nèi)空間，在該室內(nèi)空間中設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)13，用于放置涂敷有化學(xué)品的待干燥基板14， 在所述下蓋12下部開設(shè)有排氣口 15，以實(shí)現(xiàn)向真空中排氣。圖中的箭頭方向表示氣體流 向。如圖1所示，現(xiàn)有減壓干燥室結(jié)構(gòu)雖然可以利用待干燥基板14本身的整流效果使 室內(nèi)空間中的氣流得到一定的控制，但這種設(shè)計(jì)極易造成待干燥基板14邊緣處的氣流較 為集中，使待干燥基板14邊緣和中心部的化學(xué)品(如光刻膠中的溶劑成分)的蒸發(fā)程度不 均勻。在光刻工藝中，光刻膠中溶劑成分蒸發(fā)程度的不均勻一方面會(huì)造成待干燥基板14的 關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension，簡(jiǎn)稱⑶)的不均勻，另一方面也會(huì)由于待干燥基板14的 局部表面干燥速度過快而造成光刻膠表面產(chǎn)生微小缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種減壓干燥室結(jié)構(gòu)，用以改善干燥過程的均勻性。本實(shí)用新型提供一種減壓干燥室結(jié)構(gòu)，其中包括上蓋和下蓋，彼此扣合形成室內(nèi) 空間，在該室內(nèi)空間中設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)，用于放置涂敷有化學(xué)品的待干燥基板，在所述下蓋 的下部開設(shè)有排氣口，其中所述支撐機(jī)構(gòu)的下方設(shè)置有凹形整流部件，該凹形整流部件包 括與所述支撐機(jī)構(gòu)平行的主體部及與所述支撐機(jī)構(gòu)垂直的側(cè)壁部，所述側(cè)壁部位于所述支 撐機(jī)構(gòu)的邊緣處并朝向所述支撐機(jī)構(gòu)突出設(shè)置?？蛇x地，所述側(cè)壁部從所述主體部朝所述支撐機(jī)構(gòu)延伸至高于所述待干燥基板的表面?？蛇x地，所述主體部中心處形成有開口?？蛇x地，所述待干燥基板的上方還設(shè)置與該支撐機(jī)構(gòu)平行的板形整流部件，該板 形整流部件上形成有多個(gè)整流孔。本實(shí)用新型所述結(jié)構(gòu)減小了待干燥基板邊緣處的氣流集中，從而改善了干燥過程 的均勻性。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是 本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下， 還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。[0011]圖1為現(xiàn)有減壓干燥室結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例三的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例四的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新 型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描 述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施 例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于 本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。圖2為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，該減 壓干燥室結(jié)構(gòu)包括上蓋11和下蓋12，該上蓋11和下蓋12彼此扣合形成室內(nèi)空間，在該室 內(nèi)空間中設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)13，用于放置涂敷有化學(xué)品的待干燥基板14，在所述下蓋12的下 部開設(shè)有排氣口 15，圖中雖然只顯示了兩個(gè)排氣口 15，但在實(shí)際應(yīng)用中，可以根據(jù)需要適 當(dāng)調(diào)整排氣口 15的數(shù)量，本實(shí)用新型對(duì)此不做限定。其中，在所述支撐機(jī)構(gòu)13的下方還設(shè)置有凹形整流部件20，該凹形整流部件20包 括與所述支撐機(jī)構(gòu)13平行的主體部21及與所述支撐機(jī)構(gòu)13垂直的側(cè)壁部22，該側(cè)壁部 22位于所述支撐機(jī)構(gòu)13的邊緣處并朝向所述支撐機(jī)構(gòu)13突出設(shè)置。圖中的箭頭方向表示 本實(shí)施例所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)內(nèi)部的氣體流向。本實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)通過設(shè)置凹形整流部件20使得來自待干燥基板14表面的氣流 通過側(cè)壁部22與室內(nèi)空間側(cè)壁之間的縫隙流向排氣口 15，減小了待干燥基板14邊緣處的 氣流集中，從而改善了干燥過程的均勻性。尤其是在光刻工藝中，本實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)有利于保證待干燥基板14的關(guān)鍵尺寸 的均勻性，也避免了由于待干燥基板14邊緣處的光刻膠干燥速度過快而造成光刻膠表面 產(chǎn)生的微小缺陷。圖3為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)施例所述結(jié) 構(gòu)在上述實(shí)施例一的基礎(chǔ)上對(duì)側(cè)壁部22的高度做了進(jìn)一步改進(jìn)。具體地，如圖3所示，所 述側(cè)壁部22從所述主體部21朝所述支撐機(jī)構(gòu)13延伸至高于所述待干燥基板14的表面。本實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)通過增加側(cè)壁部22的高度至待干燥基板14的表面之上，使得 待干燥基板14邊緣的氣流進(jìn)一步減弱，減小了此處化學(xué)品的蒸發(fā)速度，增加了待干燥基板 14面內(nèi)排氣效率，從而進(jìn)一步改善了干燥過程的均勻性。圖4為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例三的結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)施例所述結(jié) 構(gòu)在上述實(shí)施例一或?qū)嵤├幕A(chǔ)上對(duì)主體部21做了進(jìn)一步改進(jìn)。具體地，如圖4所示， 所述主體部21中心處形成有開口 23。圖中的箭頭方向表示本實(shí)施例所述減壓干燥室結(jié)構(gòu) 內(nèi)部的氣體流向。本實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)通過在主體部21中心處形成開口 23，增加了待干燥基板14中 心區(qū)域的排氣效率，減少了待干燥基板14中心區(qū)域與邊緣區(qū)域的氣流強(qiáng)度差異，從而進(jìn)一步改善了干燥過程的均勻性。圖5為本實(shí)用新型所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)實(shí)施例四的結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)施例所述結(jié) 構(gòu)在上述實(shí)施例一、實(shí)施例二或?qū)嵤├幕A(chǔ)上進(jìn)一步改進(jìn)。具體地，如圖5所示，所述 待干燥基板14的上方還設(shè)置與該待干燥基板14平行的板形整流部件30，該板形整流部件 30上形成有多個(gè)整流孔31。圖中的箭頭方向表示本實(shí)施例所述減壓干燥室結(jié)構(gòu)內(nèi)部的氣 體流向。本實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)通過增設(shè)板形整流部件30，進(jìn)一步優(yōu)化了待干燥基板14上方 的氣流分布，進(jìn)一步增加了待干燥基板14中心區(qū)域的排氣效率，減少了待干燥基板14中心 區(qū)域與邊緣區(qū)域的氣流強(qiáng)度差異，從而進(jìn)一步改善了干燥過程的均勻性。最后應(yīng)說明的是以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制； 盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解: 其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等 同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù) 方案的精神和范圍。
權(quán)利要求1.一種減壓干燥室結(jié)構(gòu)，包括上蓋和下蓋，彼此扣合形成室內(nèi)空間，在該室內(nèi)空間中 設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)，用于放置涂敷有化學(xué)品的待干燥基板，在所述下蓋的下部開設(shè)有排氣口， 其特征在于所述支撐機(jī)構(gòu)的下方設(shè)置有凹形整流部件，該凹形整流部件包括與所述支撐 機(jī)構(gòu)平行的主體部及與所述支撐機(jī)構(gòu)垂直的側(cè)壁部，所述側(cè)壁部位于所述支撐機(jī)構(gòu)的邊緣 處并朝向所述支撐機(jī)構(gòu)突出設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減壓干燥室結(jié)構(gòu)，其特征在于所述側(cè)壁部從所述主體部朝 所述支撐機(jī)構(gòu)延伸至高于所述待干燥基板的表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的減壓干燥室結(jié)構(gòu)，其特征在于所述主體部中心處形成 有開口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的減壓干燥室結(jié)構(gòu)，其特征在于所述待干燥基板的上方 還設(shè)置與該支撐機(jī)構(gòu)平行的板形整流部件，該板形整流部件上形成有多個(gè)整流孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的減壓干燥室結(jié)構(gòu)，其特征在于所述待干燥基板的上方還設(shè) 置與該待干燥基板平行的板形整流部件，該板形整流部件上形成有多個(gè)整流孔。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種減壓干燥室結(jié)構(gòu)，包括上蓋和下蓋，彼此扣合形成室內(nèi)空間，在該室內(nèi)空間中設(shè)置有支撐機(jī)構(gòu)，用于放置涂敷有化學(xué)品的待干燥基板，在所述下蓋的下部開設(shè)有排氣口，其中所述支撐機(jī)構(gòu)的下方設(shè)置有凹形整流部件，該凹形整流部件包括與所述支撐機(jī)構(gòu)平行的主體部及與所述支撐機(jī)構(gòu)垂直的側(cè)壁部，所述側(cè)壁部位于所述支撐機(jī)構(gòu)的邊緣處并朝向所述支撐機(jī)構(gòu)突出設(shè)置。本實(shí)用新型所述結(jié)構(gòu)減小了待干燥基板邊緣處的氣流集中，從而改善了干燥過程的均勻性。
文檔編號(hào)B05D3/00GK201815456SQ20102055881
公開日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年10月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月9日
發(fā)明者占偉, 孫亮, 孟春霞, 林承武, 秦穎 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司