專利名稱：基于細薄基底的珠光顏料的制作方法
基于細薄基底的珠光顏料本發(fā)明涉及珠光顏料，涉及它們的用途和制備，并涉及包含本發(fā)明珠光顏料的涂 料組合物。WO 2007/054379 Al描述了基于非常薄的片形玻璃基底的珠光顏料。根據WO 2007/054379 Al的實施例的薄片形玻璃基底具有大于20微米和小于100微米的更大直徑。WO 02/090448 A2描述了一種效果顏料，其基于具有< 1. 0微米的厚度、更特別具 有20至400納米的厚度的薄片形玻璃基底。根據W002/090448 A2實施例的薄片形玻璃基 底具有10至40微米的直徑。在EP 1072651 Al中描述了基于平均粒度為0. 5_10微米的薄片的顏料，其首先被 球形S^2粒子涂布，此后被超細二氧化鈦粒子涂布。所有主要制造商都供應細珠光顏料。其實例是I^restige Soft Pigmente (Eckart GmbH) ^Mearlin Micro (BASF C atalysts)。SunChemical 公司以產品名〃 SpectraFlex Focus"出售基于涂有TiO2 的 Al2O3 的珠光顏料。該顏料具有3-18微米的粒度。上述效果顏料的用途之一是將化妝品著色。不利地，這些已知效果顏料沒有表 現出充足的柔焦性——即在化妝品中，它們沒有能力令人滿意地隱匿皮膚中的皺紋或不平 離
iF. ο因此需要改進的效果顏料。特別希望提供在皮膚上具有改進的柔焦性和合意感覺 的效果顏料。這些效果顏料應兼具傳統(tǒng)珠光顏料的性質(例如干涉、深光澤和適當時的著 色)與額外的柔焦效應。最后，該效果顏料應具有良好的不透明性和強的霧化效果，同時具有強干涉色。通過提供珠光顏料實現了作為本發(fā)明基礎的目的，所述珠光顏料包含具有密度 δ s的基本透明的薄片形基底和至少一個具有密度δ Μ的光學活性涂層，所述基底具有3至 8微米的平均粒度d5(1和40至110納米的平均高度Iis。在從屬權利要求2至16中規(guī)定了本發(fā)明珠光顏料的優(yōu)選擴展。還通過制造本發(fā)明珠光顏料的方法實現了作為本發(fā)明基礎的目的，所述方法包括 下述步驟a)將所述基本透明的基底分級，以產生平均高度Iis為40至110納米、優(yōu)選40至 低于100納米的基底，b)用光學活性的、優(yōu)選高指數的層涂布所述分級的基底，以產生平均粒度d5(l為3 至8微米的珠光顏料。此外，還通過本發(fā)明的珠光顏料在油漆、印刷油墨、化妝品、塑料、玻璃、搪瓷、釉料 或陶瓷中的用途實現了本發(fā)明的目的。通過本發(fā)明珠光顏料作為柔焦顏料的用途進一步實現了本發(fā)明的目的。還通過提供包含本發(fā)明珠光顏料的涂料組合物、更特別是化妝品來實現作為本發(fā) 明基礎的目的。最后，通過提供根據下述公式測定效果顏料的薄片形基底的平均層厚度Iis的方法，實現了本發(fā)明的目的，所述效果顏料包含具有密度S s的薄片形基底和至少一個具有密 度δ M的光學活性涂層，
權利要求
1.珠光顏料，包含具有密度\的基本透明的薄片形基底和至少一個具有密度Sm的 光學活性涂層，其特征在于所述基底具有3至8微米的平均粒度d5(l和40至110納米的平 均高度1 。
2.權利要求1的珠光顏料，其特征在于平均高度Iis為40納米至小于100納米。
3.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于高度Iis中的標準偏差為25%至80%。
4.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于該珠光顏料具有d9(l值為7.0至11. 0 微米的粒度分布。
5.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于所述光學活性涂層是高指數涂層，其 優(yōu)選具有>2.0的折光指數nM。
6.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于所述光學活性層具有或者是金屬氧化 物層和/或金屬氫氧化物層和/或水合金屬氧化物層。
7.權利要求7的珠光顏料，其特征在于所述金屬氧化物層包含選自由氧化鈦、氧化鐵、 氧化鈰、氧化鉻、氧化錫、氧化鋯、氧化鈷及其混合物組成的組的金屬氧化物或由其構成。
8.權利要求6或7的珠光顏料，其特征在于所述金屬氧化物層的層厚度為10至300納米。
9.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于平均基底高度Iis通過下述公式測定
10.權利要求7至9任一項的珠光顏料，其特征在于所述金屬氧化物層由TiO2、優(yōu)選主 要為金紅石型的TW2構成，所述基底由云母構成，并且基于TW2和云母的總重量以重量％ 計的TW2含量與TiA涂層的平均層厚度之間的關系優(yōu)選如下TiO2含量為47. 5-62重量％且平均TiA層厚度高于20至30納米； TiO2含量為58-74重量％且平均TW2層厚度高于35至45納米 TiO2含量為63-78重量％且平均TW2層厚度高于45至55納米 TiO2含量為67-82重量％且平均TW2層厚度高于55至65納米 TiO2含量為70-85重量％且平均TW2層厚度高于65至75納米 TiO2含量為73. 5-86. 5重量％且平均TW2層厚度高于75至85納米； TiO2含量為75-88重量％且平均TW2層厚度高于85至95納米； TiO2含量為76. 5-89重量％且平均TW2層厚度高于95至105納米； TiO2含量為78. 5-90重量％且平均TW2層厚度高于105至115納米；TiO2含量為80-91重量％且平均TW2層厚度高于H5至125納米； TiO2含量為81. 5-92重量％且平均TW2層厚度高于125至135納米； TiO2含量為83-92. 5重量％且平均TW2層厚度高于135至145納米； TiO2含量為84-93重量％且平均TW2層厚度高于145至155納米； TiO2含量為85-93重量％且平均TW2層厚度高于155至165納米； TiO2含量為86-93. 5重量％且平均TW2層厚度高于165至175納米； TiO2含量為87-94重量％且平均TW2層厚度高于175至185納米； TiO2含量為87. 5-94重量％且平均TW2層厚度高于185至195納米； TiO2含量為88-94. 5重量％且平均TW2層厚度高于195至205納米； TiO2含量為89-95重量％且平均TW2層厚度高于205至215納米。
11.權利要求7至9任一項的珠光顏料，其特征在于所述金屬氧化物層由T^2(主要為 金紅石型)構成，所述基底由云母構成，并且基于TW2和云母的總重量以重量％計的TiO2 含量與T^2涂層的平均層厚度之間的關系優(yōu)選如下TiO2含量為50. 5-62重量％且平均TiA層厚度高于20至30納米； TiO2含量為61-74重量％且平均TW2層厚度高于35至45納米； TiO2含量為65. 5-78重量％且平均TW2層厚度高于45至55納米； TiO2含量為69. 5-82重量％且平均TW2層厚度高于55至65納米； TiO2含量為72. 5-85重量％且平均TW2層厚度高于65至75納米； TiO2含量為75-86. 5重量％且平均TW2層厚度高于75至85納米； TiO2含量為77. 5-88重量％且平均TW2層厚度高于85至95納米； TiO2含量為79-89重量％且平均TW2層厚度高于95至105納米； TiO2含量為80. 5-90重量％且平均TW2層厚度高于105至115納米； TiO2含量為82-91重量％且平均TW2層厚度高于H5至125納米； TiO2含量為83-92重量％且平均TW2層厚度高于125至135納米； TiO2含量為84. 5-92. 5重量％且平均TW2層厚度高于135至145納米； TiO2含量為85. 5-93重量％且平均TW2層厚度高于145至155納米； TiO2含量為86. 5-93重量％且平均TW2層厚度高于155至165納米； TiO2含量為87-93. 5重量％且平均TW2層厚度高于165至175納米； TiO2含量為88-94重量％且平均TW2層厚度高于175至185納米； TiO2含量為88. 5-94重量％且平均TW2層厚度高于185至195納米； TiO2含量為89-94. 5重量％且平均TW2層厚度高于195至205納米； TiO2含量為89. 5-95重量％且平均TW2層厚度高于205至215納米。
12.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于所述透明薄片形基底選自由云母、合 成云母、玻璃薄片、S^2薄片、Al2O3薄片及其混合物組成的組。
13.權利要求12的珠光顏料，其特征在于所述基本透明的薄片形基底由云母、玻璃薄 片或其混合物構成。
14.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于該珠光顏料具有至少一個折光指數 < 2.0的其它層。
15.前述權利要求任一項的珠光顏料，其特征在于該珠光顏料在所述光學活性層、優(yōu)選高指數層上具有至少一個其它保護層。
16.權利要求15的珠光顏料，其特征在于所述至少一個其它保護層包含至少一個金屬 氧化物層，其金屬氧化物選自由Si02、Al2O3、氧化鈰及其混合物、及其組合組成的組。
17.制造權利要求1至16任一項的珠光顏料的方法，其特征在于其包括下述步驟a)將所述基本透明的基底分級，以產生平均高度Iis為40至110納米的基底，b)用光學活性的、優(yōu)選高指數的層涂布所述分級的基底，以產生平均粒度d5(l為3至8 微米的珠光顏料。
18.權利要求1至16任一項的珠光顏料之一的用途，用于油漆、印刷油墨、化妝品、塑 料、玻璃、搪瓷或陶瓷中。
19.權利要求18的用途，其特征在于所述化妝品選自由遮瑕膏、身體粉、擦面粉、粉餅 和散粉、面部彩妝品、粉霜、粉底霜、粉底乳、蠟狀彩妝、粉底、慕絲狀彩妝、胭脂、眼部彩妝， 例如眼影、睫毛膏、眼線、眼線液、眉筆、護唇膏、唇膏、唇彩、唇線筆、頭發(fā)造型組合物，例如 頭發(fā)噴霧、頭發(fā)定型產品、頭發(fā)摩絲、發(fā)膠、發(fā)蠟、染發(fā)膏、永久和半永久染發(fā)劑、臨時染發(fā) 劑、護膚組合物，例如化妝水、凝膠和乳液、和指甲油組合物組成的組。
20.權利要求1至16任一項的珠光顏料之一的用途，用作柔焦顏料。
21.包含權利要求1至16任一項的珠光顏料之一的涂料組合物，更特別是化妝品。
22.根據下述公式測定效果顏料的薄片形基底的平均層厚度Iis的方法，所述效果顏料 包含具有密度Ss的薄片形基底和至少一個具有密度δM的光學活性涂層
全文摘要
本發(fā)明涉及珠光顏料，其包含具有密度δS的基本透明的薄片形基底和至少一個具有密度δM的光學活性涂層，所述基底具有3至8微米的平均粒度d50和40至110納米的平均高度hS。本發(fā)明還涉及珠光顏料的制造方法及其用途。
文檔編號C09C1/00GK102066501SQ200980122393
公開日2011年5月18日 申請日期2009年4月15日 優(yōu)先權日2008年4月15日
發(fā)明者F·亨萊因, G·考普, J·德普納, K·施泰因巴赫, M·格呂納, P·克呂戈爾, R·施耐德, U·施密特 申請人:?？ㄌ赜邢薰?br>