專利名稱：方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
方片旋轉(zhuǎn)涂f交+幾構(gòu)駄領(lǐng)域本實用新型涉及光刻膠的膠涂技術(shù)，具體為一種方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)，應(yīng)用于 板及平板顯示器制造中方形基片(板)涂光刻f交工藝，也可在其它要求較高 均勻性的方形基片(板)涂覆工藝中運用。背景就在撤莫板及平板顯示器制造中需要在基fei:涂覆一層光亥販，要求均勻性很 高，然后經(jīng)過曝光、顯影等工藝使設(shè)計好的圖形能夠轉(zhuǎn)移到基fei:。這是掩膜板 及平板顯示器制造中的一項重要工序，膠膜質(zhì)量直接影響到所成圖形的質(zhì)量。傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)在掩膜板及平板顯示器制造中得到廣泛應(yīng)用，通常采用 在一個圓形腔體內(nèi)中心有一帶吸附平臺的旋轉(zhuǎn)主軸，基片用真空吸附在平臺上完 成涂覆工藝。這一方式廣泛應(yīng)用于圓形基片的涂膠工藝中，能夠取得很好的膠膜 均勻性。但是，傳統(tǒng)的旋涂方式在對方形基片涂膠過程中，由于本身的形狀及周 邊氣流的影響方形基片四個角上的膠膜會變厚，極不均勻，造成四角周邊很大-一 塊區(qū)域不能使用，對基片是很大的浪費，并且可會媳成某些工藝要求無法實現(xiàn)。實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提《共一種方片旋轉(zhuǎn)涂伊交+幾構(gòu)，解,統(tǒng)旋轉(zhuǎn)涂覆方式 在涂膠過程中，方形基片的四角會出現(xiàn)膠膜不均勻而影響使用等問題。 本實用新型的技術(shù)方案是一種方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)，采用雙層腔體結(jié)構(gòu)，包括上蓋、旋轉(zhuǎn)蓋板、承片臺、 外腔體，方形基片吸附于承片臺上，承片臺夕剛設(shè)置外腔體，可升降的上誠部 安裝旋轉(zhuǎn)蓋板；上蓋扣在外腔體上，形成外層封閉腔體；旋轉(zhuǎn)蓋板扣在承片臺上， 形成內(nèi)層封閉腔體。戶;M承片臺周邊可以設(shè)有銷子，旋轉(zhuǎn)蓋W1其上的銷孔與承片臺上的銷子扣合。
戶;M承片臺底部可連接由主軸電機(jī)驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)主軸。 臓外腔體外偵何設(shè)置用于滴加光刻膠的移動膠臂。 戶脫外層封閉腔體底部可連翻卿構(gòu)。本實用新型的有益效果是1、 本實用新型方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)采用了旋轉(zhuǎn)涂覆方式，其基本原理是先在方 形基片上滴一定量的光刻膠，然后瞬間加速快速甩膠，在高速旋轉(zhuǎn)過程中使光刻 膠覆蓋在方形基片表面形成一層膠膜，其均勻性、膜厚受到轉(zhuǎn)速、加速度、氣流 等多方面的影響。方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)正是運用于這一工藝，會巨夠在方形基片上形 成一層均勻的膠膜，實現(xiàn)方形基片膠膜的整體均勻性。2、 本實用新型方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)的核心技術(shù)是采用雙層腔體結(jié)構(gòu)，內(nèi)層由一 圓形旋轉(zhuǎn)蓋板和承片臺扣在一起形成"^寸閉腔體，并帶動方形基片一起旋轉(zhuǎn)，通 過改變氣流形成方形的均勻膠膜。該封閉腔體可以延緩光刻膠的揮發(fā)，使光刻膠 在旋轉(zhuǎn)到方形基片纖時，有充足的時間沿邊緣繼續(xù)均勻涂膠。3、 本實用新型著眼于解決傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)涂覆方式產(chǎn)生的問題，在涂覆光刻膠工藝中能夠在方形基片上形成一層均勻的膠膜，除方形基片邊緣2 3mm邊框以外， 整體均勻性很高。


圖1為本實用新型方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。圖中，l上蓋；2旋轉(zhuǎn)蓋板；3承片臺；4主軸電機(jī)；5旋轉(zhuǎn)主軸；6外腔體; 7移動膠臂；8銷子；9方形基片。 具體鄉(xiāng)方式如圖1所示，本實用新型方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)采用雙層腔體結(jié)構(gòu)，包括上蓋l、 旋轉(zhuǎn)蓋板2、承片臺3、外腔體6，方形基片9吸附于承片臺3上，承片臺3外側(cè) 設(shè)置外腔體6，可升降的上蓋1底部安裝旋轉(zhuǎn)蓋板2。上蓋1扣在外腔體6上，形 成外層封閉腔體；旋轉(zhuǎn)蓋板2扣在承片臺3上，形成內(nèi)層封閉腔體。承片臺3周 邊設(shè)有銷子8，旋轉(zhuǎn)蓋板2通過其上的銷孔與承片臺上的銷子扣合，承片臺3底 部連接由主軸電機(jī)4驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)主軸5，夕卜腔體6外側(cè)設(shè)置用于滴加光刻膠的移 動膠臂7。
本實用新型的工作過程為-
手動放片，承片臺3抽真空吸附方形基片9，然后M移動膠臂7滴一定量 光刻l^ffi方形基片9上，移動膠臂7移出后，上蓋1帶動旋轉(zhuǎn)蓋板2—起下降， 上蓋1扣在外腔體6上，旋轉(zhuǎn)蓋板2則扣在承片臺3上，并通過承片臺3周邊的 銷子8和其連在一起在主軸電機(jī)4驅(qū)動下，按預(yù)先設(shè)定的工藝參數(shù)(魏、力口速 度、旋轉(zhuǎn)時間等)完成甩膠過程。
本實用新型方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)可嵌入全自動或獨立式半自動方片、凃膠設(shè)備中 用于撤莫板及平M示器制造中。
權(quán)利要求1、一種方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)，其特征在于采用雙層腔體結(jié)構(gòu)，包括上蓋(1)、旋轉(zhuǎn)蓋板(2)、承片臺(3)、外腔體(6)，方形基片(9)吸附于承片臺(3)上，承片臺(3)外側(cè)設(shè)置外腔體(6)，可升降的上蓋(1)底部安裝旋轉(zhuǎn)蓋板(2)；上蓋(1)扣在外腔體(6)上，形成外層封閉腔體；旋轉(zhuǎn)蓋板(2)扣在承片臺(3)上，形成內(nèi)層封閉腔體。
專利摘要本實用新型涉及光刻膠的膠涂技術(shù)，具體為一種方片旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)構(gòu)，應(yīng)用于掩膜板及平板顯示器制造中方形基片涂光刻膠工藝，也可在其它要求較高均勻性的方形基片涂覆工藝中運用，解決傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)涂覆方式在涂膠過程中，方形基片的四角會出現(xiàn)膠膜不均勻而影響使用等問題。采用雙層腔體結(jié)構(gòu)，包括上蓋、旋轉(zhuǎn)蓋板、承片臺、外腔體，方形基片吸附于承片臺上，承片臺外側(cè)設(shè)置外腔體，可升降的上蓋底部安裝旋轉(zhuǎn)蓋板；上蓋扣在外腔體上，形成外層封閉腔體；旋轉(zhuǎn)蓋板扣在承片臺上，形成內(nèi)層封閉腔體。本實用新型可在涂覆光刻膠工藝中能夠在方形基片上形成一層均勻的膠膜，除方形基片邊緣2～3mm邊框以外，整體均勻性很高。
文檔編號B05C9/02GK201030353SQ200720011939
公開日2008年3月5日 申請日期2007年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月30日
發(fā)明者焱 陳 申請人:沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司