專利名稱：強粘性涂料的生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在無機或有機基底上生產(chǎn)強粘性的金屬涂料的方法，其中在無機或有機基底上進行低溫等離子體處理、電暈放電處理或火焰處理，在常壓下在無機或有機基底上涂覆一種或多種光引發(fā)劑，并且在預(yù)先被涂覆了光引發(fā)劑的基底上涂覆金屬。本發(fā)明還涉及光引發(fā)劑在生產(chǎn)這樣的涂層中的用途，并涉及強粘性的涂料本身。
在無機或有機基底上，特別是在非極性的基底比如聚乙烯、聚丙烯或含氟聚烯烴上的涂料的粘著性能(例如拋光、噴漆、打印油墨或粘合劑)通常是不充分的。由于這個緣故不得不進行附加處理以達到令人滿意的效果。可以通過首先使用特別的底涂料，所謂的底漆，并且只是然后向其上涂覆期望的涂料從而改善附著力。
進一步的可能性在于對將要被涂覆的基底進行等離子處理或電暈處理，然后再涂覆它們，在這兩個操作之間可以進行例如使用丙烯酸酯單體的嫁接工藝(J.Polym.Sci.，Part APolym.Chem.31，1307-1314(1993))。
已經(jīng)知道在真空條件下和在常壓下的低溫等離子體的產(chǎn)生和等離子體-輔助的薄的有機層或無機層的沉積物都已經(jīng)公知了一些時日了。例如A.T.Bell在″Fundamentals of Plasma Chemistry″in″Technology和Application of Plasma Chemistry″，由J.R.Holahan和A.T.Bell編輯，Wiley，New York(1974)以及H.Suhr在PlasmaChem.Plasma Process 3(1)，1，(1983)中描述了基本原理和應(yīng)用。
在等離子體中還可能進行導(dǎo)致聚合物層沉積并被用作底漆的聚合。例如H.Biederman，Y.Osada在″Plasma PolymerizationProcesses″in″Plasma technology 3″，由L.Holl編輯，Elsevier，Amsterdam 1992中描述了基本原理和應(yīng)用。
還知道可以對塑料表面進行等離子體處理，結(jié)果隨后涂覆的罩面漆顯示出對塑料基底的粘附力提高了。H.J.Jacobasch等在Farbe+Lack 99(7)，602-607(1993)中描述了在真空條件下低溫等離子處理的情形，以及J.Friedrich等在Surf.Coat.Technol.59，371-6(1993)中描述了從真空直到常壓條件下等離子體的情形，以及低溫等離子體變成電暈放電的情況。
一種類似于在開始提及的工藝種類的工藝從WO00/24527得知。該工藝描述了對基底進行等離子體處理，以及快速氣相沉積，并在真空狀態(tài)下接枝光引發(fā)劑。然而，其缺點在于氣相沉積需要使用真空裝置，并且由于低的沉積率，效率并不是很高，并不適合于具有高的生產(chǎn)率的工業(yè)應(yīng)用。在PCT申請EP03/00780中公開了類似的工藝。
本領(lǐng)域需要一種對基底進行預(yù)處理的工藝，該工藝在實踐中可以容易地進行并且裝置不太昂貴，從而利用該工藝可以改進隨后對基底的涂敷。
現(xiàn)在已經(jīng)發(fā)現(xiàn)可以通過在將要被涂敷的基底上使用光引發(fā)劑，然后對基底進行等離子體處理(低壓和/或常壓等離子體處理)、電暈處理或火焰處理，任選地進行干燥，以及對這樣處理的基底進行照射，可以得到具有特別好的附著力的金屬、金屬氧化物或半金屬的涂層。給這樣預(yù)處理后的基底提供金屬、半金屬或金屬氧化物涂層。所得的涂層顯示出好得出奇的附著力。
因此本發(fā)明涉及在無機或有機基底上生產(chǎn)強粘性的金屬涂層的方法，其中a)在無機或有機基底上進行低溫等離子體處理、電暈放電處理或火焰處理，b)將一種或多種光引發(fā)劑或光引發(fā)劑與含有至少一個烯屬不飽和基團的單體或/和低聚物的混合物，或者在前所提及的物質(zhì)的溶液、懸浮液或乳濁液涂覆至無機或有機基底，c)任選地將步驟b)的涂層干燥，并且用電磁波照射；以及d)在如此預(yù)先涂覆了光引發(fā)劑的基底上氣相沉積金屬、半金屬、或金屬氧化物。
優(yōu)選在步驟d)中用電磁波進行輻射，該輻射既可以在氣相沉積金屬、半金屬或金屬氧化物的同時進行，也可以在此沉積之后進行。
該工藝可簡單地進行，并允許高生產(chǎn)量/每單位時間。
根據(jù)本發(fā)明的工藝，在光引發(fā)劑或它們在溶劑或者單體中的溶液或分散液已經(jīng)被涂覆到已經(jīng)經(jīng)過等離子-、電暈-或火焰的預(yù)先處理的基底上之后，并且在任何用來蒸發(fā)除去所用溶劑的干燥步驟以后，通過將基底暴露在紫外線/可見光之下對光引發(fā)劑進行固化的步驟。在本申請的上下文中，術(shù)語“干燥”包括兩個變化，既包括除去溶劑，也包括光引發(fā)劑的固化。
在上述優(yōu)選的工藝的步驟C)中，干燥，也就是除去溶劑是任選的?？梢允÷栽摬襟E，例如當(dāng)不使用溶劑時。在步驟c)中通過電磁波輻射，特別是紫外線/可見光輻射固化光引發(fā)劑是必須要進行的。
上述工藝的工藝步驟b)優(yōu)選在常壓下進行。
如果，在工藝的步驟B)中，要使用光引發(fā)劑與單體或/和低聚物的混合物，優(yōu)選使用一種或更多種光引發(fā)劑與單體的混合物。
在真空條件下獲得等離子體的可能方式在文獻中經(jīng)常有描述?？梢酝ㄟ^感應(yīng)或電容手段耦合電能?？梢允侵绷麟娀蚪涣麟?；交流電的頻率范圍可以是幾千赫茲直到幾兆赫。微波范圍(GHz)內(nèi)的電源也是可能的。
等離子體的產(chǎn)生和維持的原理例如在上面提到的T.Bell和H.Suhr的綜述文章中被描述。
可以使用例如氦、氬、氙、N2、O2、H2、水蒸汽或空氣作為基本的等離子體氣體。
根據(jù)本發(fā)明的工藝本身對電能的內(nèi)耦合并不敏感。
本工藝可以分批地進行，例如在一滾筒內(nèi)，或者在薄膜、纖維或紡織品的情形下連續(xù)進行。在現(xiàn)有技術(shù)中這樣的方法是已知的，并且已經(jīng)描述了這樣的方法。
本工藝也可以在電暈放電條件下進行。在常壓條件下產(chǎn)生電暈放電，最常使用的離子化氣體是空氣。然而，原則上還可能是如同COATINGVol 2001，No.12，426，(2001).中描述的其它氣體和混合物。空氣作為電暈放電的離子化氣體其優(yōu)點是可以在一個對外部開放的裝置中進行操作，例如可以在放電電極之間連續(xù)地抽出薄膜。這樣的工藝安排是已知的，并且被描述在例如J.Adhesion Sci.Technol.Vol 7，No.10，1105，(1993).中?？梢允褂玫入x子噴射處理三維的工件，然后在機器人的協(xié)助下完成輪廓。
對基底進行火焰處理對所屬技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)人員是已知的?？梢陨藤彽玫较鄳?yīng)的工業(yè)裝置，例如用于對薄膜的火焰處理的裝置。在這樣的處理中，通過火焰處理裝置將薄膜傳送到被冷卻的圓筒形滾柱上，火焰處理裝置由通常沿著圓柱輥的整個長度排列的一串并聯(lián)的火爐組成?？梢栽诨鹧嫣幚硌b置的廠商的小冊子中得到詳細資料(例如esse Cl，flame treaters，Italy)。待選擇的參數(shù)取決于待處理的具體基底。例如火焰溫度、火焰強度、停留時間、在基底和火爐之間的距離、燃燒氣體的性質(zhì)、氣壓、濕氣要與所討論的基底相匹配。可以使用例如甲烷、丙烷、丁烷或70％丁烷和30％丙烷的混合物作為火焰氣體。
待處理的無機或有機基底可以是任何的固態(tài)形式。基底優(yōu)選是以紡織品、纖維、薄膜或三維工件的形式?；卓梢允抢鐭崴苄缘?、彈性體的、內(nèi)在交聯(lián)的或交聯(lián)聚合物、另外的金屬氧化物(例如與待沉積的金屬氧化物不同)、陶瓷材料、玻璃、另外的金屬(例如與待沉積的金屬不同)、皮革或紡織品。
以等離子體-、電暈-或火焰-處理的形式對基底的預(yù)處理可以例如在纖維或薄膜的擠出之后立即進行，也可以在拉伸薄膜之后立即進行。
無機或有機基底優(yōu)選是熱塑性的、彈性體的、內(nèi)在交聯(lián)的或交聯(lián)的聚合物、陶瓷材料或玻璃纖維，特別是熱塑性的、彈性體的、內(nèi)在交聯(lián)的或交聯(lián)的聚合物。
熱塑性的、彈性體的、內(nèi)在交聯(lián)的或交聯(lián)的聚合物的例子列舉如下。
1.單-和二-烯烴的聚合物，例如聚丙烯、聚異丁烯、聚丁烯-1、聚4-甲基戊烯-1、聚異戊二烯或聚丁二烯以及環(huán)烯的聚合物，例如環(huán)戊烯或降冰片烯的聚合物；以及聚乙烯(它任選地可以是交聯(lián)的)，例如高密度聚乙烯(HDPE)、高分子量的高密度聚乙烯(HDPE-HMW)、超高分子量的高密度聚乙烯(HDPE-UHMW)、中等密度的聚乙烯(MDPE)、低密度的聚乙烯(LDPE)和線性的低密度聚乙烯(LLDPE)、極低密度的聚乙烯(VLDPE)和超低密度的聚乙烯(ULDPE)。
聚烯烴，也就是單烯烴的聚合物，如同前段所提及的，特別是聚乙烯和聚丙烯，可以通過各種工藝被制備得到，特別是通過下面的方法制備a)通過自由基聚合(通常在高壓和高溫下)；b)利用催化劑，催化劑通常含有一種或多種IVb、Vb、VIb或VIII族的金屬。那些金屬一般地具有一個或多個配體，比如氧化物、鹵化物、醇化物、酯、醚、胺、烷基、鏈烯基和/或芳基，它們可以是π-或σ-配位的。這樣的金屬絡(luò)合物可以是游離的，或者被固定到載體上，例如被固定到活化的氯化鎂、氯化鈦(III)、氧化鋁或二氧化硅上。在聚合介質(zhì)中這樣的催化劑可以是可溶解的或不能溶解的。在聚合中催化劑可以是活性的，或者使用進一步的活化劑，例如烷基金屬、金屬氫化物、烷基金屬鹵化物、烷基金屬氧化物或烷基金屬環(huán)氧乙烷，所述金屬是Ia、IIa和/或IIIa族的元素。活化劑可以被酯、醚、胺或甲硅烷基醚基團進一步修飾。這樣的催化劑體系通常是指Philips、Standard Oil Indiana、Ziegler(-Natta)、TNZ(DuPont)、茂金屬或單位點催化劑(SSC)。
2.1)中提及的聚合物的混合物，例如聚丙烯和聚異丁烯的混合物、聚丙烯和聚乙烯(例如PP/HDPE，PP/LDPE)的混合物，以及不同類型聚乙烯(例如LDPE/HDPE)的混合物。
3.單-和二-烯烴相互之間或者與其它的乙烯基單體的共聚物，例如乙烯/丙烯共聚物、線型低密度聚乙烯(LLDPE)和它們的混合物和低密度聚乙烯(LDPE)、丙烯/丁烯-1共聚物、丙烯/異丁烯共聚物、乙烯/丁烯-1共聚物、乙烯/己烯共聚物、乙烯/甲基戊烯共聚物、乙烯/庚烯共聚物、乙烯/辛烯共聚物、丙烯/丁二烯共聚物、異丁烯/異戊二烯共聚物、乙烯/-丙烯酸烷基酯共聚物、乙烯/甲基丙烯酸烷基酯共聚物、乙烯/乙酸乙烯基酯共聚物和它們與一氧化碳的共聚物，或乙烯/丙烯酸共聚物以及它們的鹽(離子聚合物)，以及乙烯和丙烯和二烯烴，例如己二烯、雙環(huán)戊二烯或亞乙基降冰片烯的三元共聚物；以及這樣的共聚物相互之間或者和1)中提及聚合物，例如聚丙烯-乙烯/丙烯共聚物，LDPE-乙烯/乙酸乙烯酯共聚物，LDPE-乙烯/丙烯酸酯共聚物，LLDPE-乙烯/乙酸乙烯酯共聚物，LLDPE-乙烯/丙烯酸酯橡膠和交替地或隨機結(jié)構(gòu)的聚烯烴-一氧化碳共聚物的混合物以及它們與其它的聚合物例如聚酰胺的混合物。
4.烴類樹脂(例如C5-C9)包括它們的氫化修飾(例如增粘劑樹脂)以及聚烯烴和淀粉的混合物。
5.聚苯乙烯、聚(對甲基苯乙烯)、聚(α-甲基苯乙烯)。
6.苯乙烯或α-甲基苯乙烯和二烯烴或丙烯酸衍生物的共聚物，例如苯乙烯/丁二烯、苯乙烯/丙烯腈、苯乙烯/甲基丙烯酸烷基酯、苯乙烯/丁二烯/丙烯酸烷基酯和甲基丙烯酸烷基酯、苯乙烯/馬來酸酐、苯乙烯/丙烯腈/丙烯酸甲酯；由苯乙烯共聚物和另外的聚合物，例如聚丙烯酸酯，二烯聚合物或乙烯/丙烯/二烯烴三元共聚物組成的高沖擊強度的混合物；還可以是苯乙烯的嵌段共聚物，例如苯乙烯/丁二烯/苯乙烯、苯乙烯/異戊二烯/苯乙烯、苯乙烯/乙烯-丁烯/苯乙烯或苯乙烯/乙烯-丙烯/-苯乙烯。
7.苯乙烯或α-甲基苯乙烯的接枝共聚物，例如聚丁二烯接枝苯乙烯、聚丁二烯/苯乙烯或聚丁二烯/丙烯腈共聚物接枝苯乙烯、聚丁二烯接枝苯乙烯和丙烯腈(或甲基丙烯腈)；聚丁二烯接枝苯乙烯、丙烯腈和甲基丙烯酸甲酯；聚丁二烯接枝苯乙烯和馬來酸酐；聚丁二烯接枝苯乙烯、丙烯腈和馬來酸酐或馬來酸酰亞胺；聚丁二烯接枝苯乙烯和馬來酸酰亞胺；聚丁二烯接枝苯乙烯和丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯；乙烯/丙烯/二烯烴三元共聚物接枝苯乙烯和丙烯腈；聚丙烯酸烷基酯或聚甲基丙烯酸烷基酯接枝苯乙烯和丙烯腈，丙烯酸酯/丁二烯共聚物接枝苯乙烯和丙烯腈，以及和6)中提及的共聚物，比如那些已知的，例如，所謂的ABS、MBS、ASA或AES聚合物的混合物。
8.含鹵素的聚合物，例如聚氯丁烯、氯化橡膠、被氯化和被溴化的異丁烯/異戊二烯(鹵化丁基橡膠)的共聚物、氯化的或氯磺化的聚乙烯、乙烯和氯化乙烯的共聚物、表氯醇均聚物和共聚物，特別是含鹵素的乙烯化合物的聚合物，例如聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯；以及它們的共聚物，比如氯乙烯/1，1-二氯乙烯、氯乙烯/乙酸乙烯基酯或1，1-二氯乙烯/乙酸乙烯基酯。
9.從α，β-不飽和酸衍生的聚合物以及它們的衍生物，比如聚丙烯酸和聚甲基丙烯酸，或聚甲基丙烯酸甲酯、用丙烯酸丁酯改性的耐沖擊性的聚丙烯酰胺和聚丙烯腈。
10.9)提及的單體相互之間或者和其它的不飽和單體的共聚物，例如丙烯腈/丁二烯共聚物、丙烯腈/丙烯酸烷基酯共聚物、丙烯腈/丙烯酸烷氧基烷基酯共聚物、丙烯腈/乙烯基鹵化物共聚物或丙烯腈/甲基丙烯酸烷基酯/丁二烯三元共聚物。
11.從不飽和醇和胺或它們的?；苌锘蛞铱s醛衍生的聚合物，比如聚乙烯醇、聚醋酸乙烯基酯、硬脂酸酯、苯甲酸酯或馬來酸酯、聚乙烯基丁縮醛、聚鄰苯二甲酸烯丙基酯、聚烯丙基三聚氰胺；以及它們和第1點中提到的烯烴的共聚物。
12.環(huán)醚的均聚物和共聚物，比如聚(亞烷基)二醇、聚氧化乙烯、聚氧化丙烯或它們和二(縮水甘油醚)的共聚物。
13.聚縮醛，比如聚甲醛，以及那些含有共聚單體，例如環(huán)氧乙烷的聚甲醛；用熱塑性聚氨酯、丙烯酸酯或MBS修飾的聚縮醛。
14.聚氧化亞苯基和聚硫化亞苯基以及它們和苯乙烯聚合物或聚酰胺的混合物。
15.從聚醚、聚酯和在一端帶有末端羥基并且在另一端帶有脂肪族的或芳族的聚異氰酸酯的聚丁二烯衍生而來的聚氨酯以及它們的起始產(chǎn)物。
16.從二胺和二羧酸和/或從氨基羧酸或相應(yīng)的內(nèi)酰胺，例如聚酰胺4、聚酰胺6、聚酰胺6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/12、聚酰胺11、聚酰胺12衍生而來的聚酰胺和共聚酰胺，從間二甲苯、二胺和己二酸衍生而來的芳族聚酰胺；從環(huán)己二胺和異-和/或鄰苯二甲酸以及任選的作為改性物的彈性體，例如聚2，4，4-三甲基亞環(huán)己基對苯二甲酰胺或聚間-亞苯基間苯二甲酰胺制備的聚酰胺。上述聚酰胺和聚烯烴、烯烴共聚物、離子聚合物或化學(xué)鍵合的或接枝的彈性體的嵌段共聚物，或者和聚醚，例如和聚乙二醇、聚丙二醇或聚丁二醇的嵌段共聚物。還有聚酰胺或用EPDM或ABS修飾的共聚酰胺；以及在加工期間縮合的聚酰胺(″環(huán)聚酰胺體系″)。
17.聚脲、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚酯酰亞胺、聚乙內(nèi)酰脲和聚苯并咪唑。
18.從二羧酸和二醇和/或從羥基羧酸或其相應(yīng)的內(nèi)酯衍生而來的聚酯，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚1，4-對苯二甲酸二羥甲基環(huán)己基酯、聚羥基-苯甲酸酯以及從帶有羥基端基的聚醚衍生而來的嵌段聚醚酯纖維；以及用聚碳酸酯或MBS修飾的聚酯。
19.聚碳酸酯和聚酯碳酸酯。
20.聚砜、聚醚砜和聚醚酮。
21.在一方面從醛、另一方面從苯酚、尿素或三聚氰胺衍生而來的交聯(lián)聚合物，比如苯酚甲醛樹脂、尿素甲醛和三聚氰胺-甲醛樹脂。
22.干燥的和非干燥的醇酸樹脂。
23.從飽和的以及不飽和的二羧酸與多元醇的共聚酯以及作為交聯(lián)劑的乙烯基化合物和它們的含鹵素的難燃燒的修飾物衍生而來的不飽和聚酯樹脂。
24.從取代的丙烯酸酯，例如從環(huán)氧丙烯酸酯、丙烯酸尿烷酯或聚丙烯酸酯衍生而來的可交聯(lián)的丙烯酸樹脂。
25.與三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、異氰酸酯、異氰脲酸酯、聚異氰酸酯或環(huán)氧樹脂交聯(lián)的醇酸樹脂、聚酯樹脂和丙烯酸酯樹脂。
26.從脂肪族的、環(huán)脂族的、雜環(huán)的或芳族的縮水甘油基化合物衍生而來的交聯(lián)環(huán)氧樹脂，例如雙酚A-二環(huán)氧甘油醚、雙酚F-二環(huán)氧甘油醚的產(chǎn)物，通常使用硬化劑例如酸酐或胺，使用或者不使用促進劑對它們進行交聯(lián)。
27.天然的聚合物，比如纖維素、天然橡膠、凝膠、或它們同系的被化學(xué)修飾的衍生物聚合物，比如醋酸纖維素、丙酸酯和丁酸酯，和纖維素醚，比如甲基纖維素；和松香樹脂及其衍生物。
28.前述提及的聚合物的混合物(聚合物的共混合物)，例如PP/EPDM、聚酰胺/EPDM或ABS，PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA，PC/PBT、PVC/CPE、PVC/丙烯酸酯、POM/熱塑性的PUR、PC/熱塑性的PUR、POM/丙烯酸酯、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6.6和共聚物、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS或PBT/PET/PC。
基底例如可以是被用在商業(yè)打印領(lǐng)域、厚紙板打印或絲網(wǎng)打印、海報、日歷、表格、標(biāo)記、包裝箔、膠帶、信用卡、家具剖面圖等的基底?；撞痪窒抻谠诜鞘澄镱I(lǐng)域使用。基底可能還是例如營養(yǎng)領(lǐng)域的用品，例如作為食品的包裝；化妝品，藥劑等。
根據(jù)本發(fā)明的工藝，其中基底已經(jīng)被預(yù)先處理，它還可能是，例如，由于基底通常彼此間的兼容性不好，從而難以彼此粘著結(jié)合或?qū)盈B。
在本發(fā)明的上下文內(nèi)，紙張還被理解為是一個內(nèi)在地交聯(lián)的聚合物，特別是以紙板的形式，它們可以另外被涂上例如聚四氟乙烯。這樣的基底例如是可以商購得到的。
熱塑性的、交聯(lián)的或內(nèi)在交聯(lián)的塑料優(yōu)選是聚烯烴、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯或丙烯酸/三聚氰胺、醇酸樹脂或聚氨酯表面涂料。
特別優(yōu)選聚碳酸酯、聚乙烯和聚丙烯。
塑料可以例如是薄膜、注射-模制構(gòu)零件、擠出工件、纖維、油氈或紡織品的形式。
可以考慮特別是玻璃、陶瓷材料、金屬氧化物和金屬作為無機基底。它們可以是硅酸鹽和半金屬氧化物或金屬氧化物玻璃，它們優(yōu)選是層的形式或以粉末的形式，優(yōu)選平均粒子直徑從10納米到2000微米的粉末形式。微?？梢允敲芗幕蚨嗫椎?。氧化物和硅酸鹽的例子是SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、NiO、WO3、Al20O3、La2O3、硅石膠凝劑、粘土和沸石。除了金屬，優(yōu)選無機基底是硅石膠凝劑、氧化鋁、二氧化鈦和玻璃以及它們的混合物。
特別考慮鐵、鋁、鈦、鎳、鉬、Cr和合金鋼作為金屬基底。
適用于根據(jù)本發(fā)明的工藝的光引發(fā)劑在原則上是當(dāng)被電磁波照射時能形成一個或多個自由基的任何化合物或混合物。這些包括由在功能上彼此獨立或協(xié)同的大量的引發(fā)劑和體系組成的引發(fā)劑體系。除輔助引發(fā)劑，例如胺、硫醇、硼酸鹽、烯醇鹽、磷化氫、羧酸鹽和咪唑之外，還可使用敏化劑，例如吖啶、呫噸、噻嗪、香豆素、噻噸酮、三嗪和染料。對這樣的化合物和引發(fā)劑體系的描述可以例如在Crivello J.V.，Dietliker K.K.，(1999)Chemistry &Technology of UV&EB Formulation for Coatings，Inks&Paints和Bradley G.(ed.)Vol.3Photoinitiators for Free Radical andCationic Polymerisation 2nd Edition，JohnWiley & Son Ltd.中找到。
適用于根據(jù)本發(fā)明的工藝的步驟b)的光引發(fā)劑可以是帶有不飽和基團的引發(fā)劑或者不帶有這樣基團的引發(fā)劑。
這樣的化合物和衍生物是從例如下面這些種類的化合物衍生得到的苯偶姻、苯偶?？s酮、乙酰苯、苯羥烷基酮、苯基氨基烷基酮、?；趸ⅰⅤ；蚧?、酰氧基亞氨基酮、烷氨基取代的酮，例如Michler酮、過氧化合物、二腈化合物、鹵代的乙酰苯、苯甲酰甲酸酯、二聚苯甲酰甲酸酯、二苯甲酮、肟和肟酯、噻噸酮、香豆素、二茂鐵、二茂鈦、鎓鹽、锍鹽、三價碘鹽、重氮鹽、硼酸鹽、三嗪、二咪唑、聚硅烷和染料。還可以使用上面提及的種類的化合物相互之間的組合，以及這些化合物和相應(yīng)的輔助引發(fā)劑體系和/或敏化劑的組合。
這樣的光引發(fā)劑化合物的例子是α-羥基環(huán)己基苯基酮或2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、(4-甲硫基苯甲?；?-1-甲基-1-嗎啉代-乙烷、(4-嗎啉代-苯甲酰)-1-芐基-1-二甲基氨基丙烷、(4-嗎啉代-苯甲?；?-1-(4-甲基芐基)-1-二甲基氨基丙烷、(3，4-二甲氧基-苯甲酰)-1-芐基-1-二甲基氨基丙烷、苯偶酰二甲基縮酮、(2，4，6-三甲基苯甲?；?-二苯基-氧化膦、(2，4，6-三甲基苯甲?；?-乙氧基-苯基-氧化膦，、(2，6-二甲氧基苯甲?；?-(2，4，4-三甲基-戊-1-基)氧化膦、二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-苯基氧化膦或二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-(2，4-二戊氧基苯基)氧化膦、5，5′-氧代二(乙烯氧基二羰基苯基)、1-羥基-5-(苯基二羰基氧基)-3-氧代戊烷和二環(huán)戊二烯-二(2，6-二氟-3-吡咯)鈦、二吖啶衍生物例如1，7-二(9-吖啶基)庚烷，肟酯，例如在GB 2339571和US2001/0012596中所描述的1-苯基-1，2-丙二酮-2-(o-苯甲?；?肟、1-苯基-1，2-丙二酮-2-(o-乙氧羰基)肟或其它的肟酯；以及二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-苯基-3′-甲基二苯甲酮、4-苯基-2′，4′，6′-三甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、4，4′-二甲氧基二苯甲酮、4，4′-二甲基二苯甲酮、4，4′-二氯苯甲酮、4，4′-二甲基氨基二苯甲酮、4，4′-二乙基氨基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、4-(4-甲硫基苯基)-二苯甲酮、3，3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、-2-苯甲?；郊姿峒柞?，4-(2-羥基乙硫基)-二苯甲酮、4-(4-甲苯基硫)二苯甲酮、4-苯甲?；?N，N，N-三甲基苯甲銨氯化物、2-羥基-(4-苯甲?；窖趸?-N，N，N-三甲基-1-丙銨氯化物一水化物、4-(13-丙烯?；?1，4，7，10，13-五氧雜十三烷基)-二苯甲酮、4-苯甲酰基-N，N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基)氧]-乙基苯甲銨氯化物；2，2-二氯-1-(4-苯氧基苯基)-乙酮、4，4′-二(氯甲基)-二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、
其中a、b和c的平均值是3(SiMFP12)；以及2-氯噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、3-異丙基噻噸酮、1-氯代-4-丙基噻噸酮。
光引發(fā)劑優(yōu)選是式I或Ia的化合物(RG)-A-(IN) (I)，(IN)-A-(RG′)-A-(IN) (Ia)其中(IN)是光引發(fā)劑的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)；A是間隔基團或單鍵；(RG)是氫或至少一個烯屬不飽和官能團；和(RG′)是一個單鍵或含有至少一個官能烯屬不飽和基團的二價基或三價基。
感興趣的是式I或1a的化合物，其中(IN)是式(II)或(III)的光引發(fā)劑基礎(chǔ)結(jié)構(gòu) R1是基團(A)、(B)、(C)或(III) -CR6R7R8(B) n是0至6的數(shù)字；R2是氫、C1-C12烷基、鹵素、基團(RG)-A-或，當(dāng)R1是基團(A)時，在羰基的鄰位上的兩個基團R2可以一起是-S-或
R3和R4彼此獨立地是其它的C1-C6烷基、C1-C6烷?；?、苯基或苯甲?；鶊F苯基和苯甲?；髯允俏幢蝗〈幕虮畸u素、C1-C6烷基，C1-C6烷硫基或被C1-C6烷氧基取代；R5是氫、鹵素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基或基團(RG)-A-；R6是OR9或N(R9)2或者是 或者是SO2R9；R7和R8各自獨立地是氫、C1-C12烷基、C1-C12烯基、C1-C12烷氧基、苯基或芐基或者R7和R8一起是C2-C6亞烷基；R9是氫、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基；R10是氫、C1-C12烷基或苯基；R11是C1-C4烷基或 以及X是氧或硫。
(IN)例如是基團
在式I或Ia的化合物中，A是例如一個單鍵、一個間隔基團-Z-[(A1)a-Y]c-[(A2)b-X]d-， 或 X、Y和Z彼此獨立地是一個單鍵、-O-、-S-、-N(R10)-、-(CO)-、(CO)O-、-(CO)N(R10)-、-O-(CO)-、-N(R10)-(CO)-或-N(R10)-(CO)O-。
A1和A2是彼此獨立地，例如是C1-C4亞烷基、C3-C12亞環(huán)烷基、亞苯基、亞苯基-C1-C4亞烷基或C1-C4亞烷基-亞苯基-C1-C4亞烷基。
a、b、c和d彼此獨立地是0-4的數(shù)字。
特別優(yōu)選式I或Ia化合物，其中A是間隔基團-Z-[(CH2)a-Y]c-[(CH2)b-X]d-，并且X、Y、Z、a、b、c和d定義如上。
在式I或Ia化合物中，(RG)是氫或RcRbC＝CRa-，特別是RcRbC＝CRa-；(RG′)是單鍵， 或 尤其是， 并且Ra、Rb、Rc各自是H或C1-C6烷基，特別是H或甲基。
對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，這樣的光引發(fā)劑化合物的制備是已知的，并且已經(jīng)在大量的出版物中有描述。
例如，含有不飽和基團的化合物可以通過4-[2-羥基乙氧基-苯甲酰基]-1-羥基-1-甲基-乙烷(Irgacure 2959，CibaSpezialittenchemie)和含有丙烯?；蚣谆；漠惽杷狨セ蛘吆推渌暮斜；蚣谆；幕衔锓磻?yīng)制備得到，可參見例如US4 922 004。
商購的不飽和的光引發(fā)劑是例如4-(13-丙烯酰基-1，4，7，10，13-五氧雜十三烷基)-二苯甲酮(從UCB獲得的Uvecryl P36)、4-苯甲?；?N，N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基)氧基]乙基苯基甲基銨氯化物(從Great Lakes獲得的Quantacure ABQ)，和一些可共聚的不飽和叔胺(從UCB Radcure Specialties獲得的Uvecryl P101，UvecrylP104，Uvecryl P105，Uvecryl P115)或可共聚的氨基丙烯酸酯(從Ackros獲得的Photomer 4116和Photomer 4182，從BASF獲得的Laromer LR8812，從Cray Valley獲得的CN381和CN386)。
下文列出的出版物進一步提供了合適的帶有烯屬不飽和官能團的光引發(fā)劑化合物的具體例子以及它們的制備，例如在US 3 214 492、US 3 429 852、US 3 622 848和US 4 304 895中描述了不飽和的乙酰苯酮和二苯基酮衍生物，例如 還合適的是例如 以及可進一步聚合的二苯甲酮，例如從UCB商購的Ebecryl P36或以Ebecryl P38的形式稀釋在30％的三丙二醇二(丙烯酸)酯中的二苯甲酮。
在US 4 922 004中可以找到可共聚的烯屬不飽和乙酰苯化合物，例如
或 在Eur.Polym.J.23，985(1987)中已經(jīng)公開了2-丙烯酰基-噻噸酮，在DE 2 818 763中已經(jīng)描述了 可以在EP 377 191中找到不飽和的含有碳酸酯基團的光引發(fā)劑化合物的。
從UCB商購的UvecrylsP36(上面已經(jīng)提及)是通過氧化乙烯單元鍵合到丙烯酸官能團上的二苯甲酮(參見UCB的Technical Bulletin2480/885(1985)或者New.Polym.Mat.1，63(1987))這已經(jīng)在Chem.Abstr.128283649r中公開了。
DE 195 01 025進一步給出了合適的烯屬不飽和光引發(fā)劑化合物。
例如是4-乙烯基氧基羰基氧基二苯甲酮、4-乙烯基氧基羰基氧基-4′-氯代二苯甲酮、4-乙烯基氧基羰基氧基-4′-甲氧基二苯甲酮、N-乙烯基氧基羰基-4-氨基二苯甲酮、乙烯基氧基羰基氧基-4′-氟代二苯甲酮、2-乙烯基氧基羰基氧基-4′-甲氧基二苯甲酮、2-乙烯基氧基羰基氧基-5-氟-4′-氯代二苯甲酮、4-乙烯基氧羰基氧基乙酰苯、2-乙烯基氧基羰基氧基乙酰苯、N-乙烯基氧基羰基-4′-氨基乙酰苯、4-乙烯基氧基羰基氧基苯偶酰、4-乙烯基氧基羰基氧基-4′-甲氧基苯偶酰、乙烯基氧基羰基苯偶姻醚、4-甲氧基苯偶姻乙烯基氧基羰基醚、苯基(2-乙烯基氧基-羰基氧基-2-丙基)-酮、(4-異丙基苯基)-(2-乙烯基氧基羰基氧基-2-丙基)-酮、苯基-(1-乙烯基氧基羰基氧基)-環(huán)己基酮、2-乙烯基羰基氧基甲基蒽醌、2-(N-乙烯基氧基羰基)-氨基蒽醌、2-乙烯基氧基羰基氧基噻噸、3-乙烯基氧基羰基氧基噻噸，或 US 4672079還公開了制備2-羥基-2-甲基(4-乙烯基丙酰苯)、2-羥基-2-甲基-對-(1-甲基乙烯基)丙酰苯、對-乙烯基苯甲?；h(huán)己醇、對-(1-甲基乙烯基)苯甲酰基-環(huán)己醇。
在JP公開2-292307中還描述了合適的反應(yīng)產(chǎn)物4-[2-羥基-乙氧基-苯甲酰基]-1-羥基-1-甲基-乙烷(Irgacure2959，CibaSpezialitten chemie)和含有丙烯?；蚣谆；鶊F的異氰酸酯，例如 或 (其中R＝H或甲基)。
合適的光引發(fā)劑的進一步的例子是 和
下面的例子被描述在W.Baumer等的Radcure′86，ConferenceProceedings，4-43 to 4-54中 G.Wehner等在Radtech′90 North America上報導(dǎo)了 在根據(jù)本發(fā)明的方法中，RadTech 2002，North America中描述的化合物也是合適的化合物 其中x、y和z的平均值為3(SiMFPI2)和 (MFPITX)。
在根據(jù)本發(fā)明的方法中，還可以使用飽和的或不飽和的光引發(fā)劑。優(yōu)選使用不飽和的光引發(fā)劑。
在根據(jù)本發(fā)明的方法中，當(dāng)然還可以使用不同的光引發(fā)劑的混合物，例如飽和的或不飽和的光引發(fā)劑的混合物。
對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言沒有不飽和基團的光引發(fā)劑是已知的，可以商購得到大量的和各種各樣的這樣的光引發(fā)劑。在本方法中，原則上在等離子體處理、電暈處理或火焰處理后，能粘附在經(jīng)過如此處理的基底表面的任何光引發(fā)劑都是合適的。
在式I和Ia中定義的取代基在不同的基團中的定義解釋如下。
C1-C12烷基是線性的或支鏈的，例如C1-C8-、C1-C6-或C1-C4-烷基。例如甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2，4，4-三甲基-戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基和十二烷基，特別是例如甲基或丁基。
C1-C6烷基和C1-C4烷基同樣地是線性的或支鏈的，并且具有例如最多達到合適的碳原子數(shù)目的上述的含義。苯甲?；虮交腃1-C6烷基取代基特別是C1-C4烷基，例如甲基或丁基。
鹵素是氟、氯、溴和碘，特別是氯和溴，優(yōu)選是氯。
當(dāng)R1是基團(A)時，在羰基鄰位上的兩個基團R2還可以一起是-S-或-(C＝O)-，從而獲得例如帶有噻噸基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的那些結(jié)構(gòu) 或具有蒽醌基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的那些結(jié)構(gòu) C1-C6烷酰基是線性的或支鏈的，例如是C1-C4烷酰基。例子是甲?；⒁阴?、丙酰、丁?；惗□；?、戊酰基和己酰，優(yōu)選是乙?；?。
C1-C4烷酰基具有最多達到合適的碳原子數(shù)的上述含義。
C1-C12烷氧基表示線性的或支鏈的基團，例如是C1-C8-、C1-C6-或C1-C4-烷氧基。例子是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、異丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、2，4，4-三甲基戊氧基、2-乙基己氧基、辛氧基、壬氧基、癸氧基和十二烷氧基，特別是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、異丁氧基、叔丁氧基，優(yōu)選甲氧基。
C1-C8烷氧基、C1-C6烷氧基和C1-C4烷氧基同樣的是線性的或支鏈的，并且具有最多達到合適的碳原子數(shù)目的上述的含義。
C1-C6烷硫基表示線性的或支鏈的基團，例如是C1-C4烷硫基。
例子是甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、異丁硫基、叔丁硫基、戊硫基和己硫基，特別是甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、異丁硫基、叔丁硫基，優(yōu)選甲硫基。
C1-C4烷硫基類似地是線性的或支鏈的，并且具有上述的含義直到合適的碳原子數(shù)目。
苯基或苯甲酰基團在苯環(huán)上被鹵素、C1-C6烷基，C1-C6烷硫基或被C1-C6烷氧基單取代至五取代，例如單-、二-或三-取代，特別是在苯環(huán)上被二-或三-取代。優(yōu)選例如是2，4，6-三甲基苯甲?；?、2，6-二氯苯甲酰、2，6-二甲基苯甲?；?，6-二甲氧基苯甲?；?。C1-C4亞烷基和C2-C6亞烷基是線性的或支鏈的亞烷基，例如C2-C4亞烷基，例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞異丙基、亞正丁基、亞仲丁基、亞異丁基、亞叔丁基、亞戊基和亞己基。優(yōu)選是C1-C4亞烷基，例如是亞乙基或亞丁基 或-C(CH3)2-CH2-還有亞甲基和亞乙基。
亞苯基-C1-C4亞烷基是在芳環(huán)的一個位置上被C1-C4亞烷基取代的亞苯基，其中C1-C4亞烷基-亞苯基-C1-C4亞烷基是在亞苯基環(huán)的兩個位置上被C1-C4亞烷基取代的亞苯基。亞烷基是線性的或支鏈的，并且具有例如最多達到合適的碳原子數(shù)目的上述的含義。例如是
等。
然而，亞烷基還可以是在亞苯基環(huán)的其它位置上，例如還可以在1，3-位上。
亞環(huán)烷基例如是C3-C12-、C3-C8-亞環(huán)烷基，例如是亞環(huán)丙基、亞環(huán)戊基、亞環(huán)己基、亞環(huán)辛基、亞環(huán)十二烷基，特別是亞環(huán)戊基和亞環(huán)己基，優(yōu)選是亞環(huán)己基。然而，C3-C12亞環(huán)烷基還表示這樣的結(jié)構(gòu)單元 其中x和y彼此獨立地是0-6，并且x+y之和≤6或者 其中x和y彼此獨立地是0-7，并且x+y之和≤7。
C2-C12烯基可以是單-或多-不飽和的，并且是線性的或支鏈的，例如C2-C8-、C2-C6-或C2-C4-烯基。例如是烯丙基、甲基烯丙基、1，1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、2-丁烯基、1，3-戊二烯基、1-己烯基、1-辛烯基、癸烯基和十二烯基，特別是烯丙基。
當(dāng)R7和R8一起是C2-C6亞烷基時，那么它們可以和它們所鍵合的碳原子一起形成C3-C7亞環(huán)烷基。例如環(huán)丙基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、特別是環(huán)戊基或環(huán)己基，優(yōu)選環(huán)己基。
RcRbC＝CRa-例如是-CH＝CH2或-C(CH3)＝CH2，優(yōu)選是-CH＝CH2。
在涂覆了光引發(fā)劑之后，工件可以被儲藏或者立即進行進一步的處理，如可以氣相沉積金屬、半金屬或金屬氧化物。
在本發(fā)明的上下文中，在步驟c)和d)中使用電磁輻射。優(yōu)選是紫外線輻射/可見光輻射，可以被理解為在從150納米至700納米的波長范圍內(nèi)進行電磁輻射。優(yōu)選在250納米至500納米的范圍內(nèi)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員知道合適的光源，并且可以商購得到。
可以使用大量的絕大多數(shù)種類的光源。點光源和平面的輻射體(光源陣列)都是合適的。例如是碳弧燈、氙弧燈、中壓、超高壓的、，高壓的和低壓的水銀輻射體，其中合適的是被金屬鹵化物摻雜的(金屬鹵化物燈)、微波-激發(fā)的金屬蒸汽燈、激基締合物光源、超光化的熒光管、熒光燈、氬白熾燈、閃光燈、照相用的照明燈、發(fā)光二極管(LED)、電子束和X射線。在光源和要照射的基底之間的距離可以根據(jù)預(yù)定的用途和光源的類型和強度進行變化，例如可以從2厘米到150厘米。激光光源也是合適的，例如準(zhǔn)分子激光器，比如氪-F激光在248納米輻射。也可以使用在可見區(qū)的激光。
上述描述的合適的輻射源既涉及在根據(jù)本發(fā)明的方法中輻射步驟c)，也涉及方法中步驟d)的操作(沉積金屬、金屬氧化物或半金屬)。
有利的是方法中步驟c)所用的輻射劑量例如是1至1000mJ/cm2，比如1-800mJ/cm2，或者例如1-500mJ/cm2，例如從5至300mJ/cm2，優(yōu)選從10到200mJ/cm2。
根據(jù)本發(fā)明的方法可以在一個寬的壓力范圍內(nèi)進行，隨著壓力增加，放電特性也從純粹的低溫等離子體變化為電暈放電，最后變成純粹的約1000-1100毫巴的壓力下的電暈放電。
本方法優(yōu)選在從10-6毫巴直到大氣壓(1013毫巴)的操作壓力下進行，特別是在10-4至10-2毫巴的范圍內(nèi)進行等離子體處理和在大氣壓下進行電暈處理?；鹧嫣幚硗ǔＴ诖髿鈮合逻M行。
優(yōu)選使用惰性氣體或惰性氣體和反應(yīng)性氣體的混合物作為等離子體氣體進行本方法。
當(dāng)使用電暈放電時，優(yōu)選使用空氣、CO2和/或氮氣作為氣體。
特別優(yōu)選單獨使用空氣、H2、CO2、氦、Ar、氪、氙、氮氣、氧氣或水，或者以混合物的形式使用。
沉積的光引發(fā)劑層優(yōu)選具有例如從單分子層直到500納米，特別是從5納米到200納米的厚度范圍。
對無機或有機基底a)的等離子體處理優(yōu)選從1毫秒至300秒，特別優(yōu)選從10毫秒到200秒。
原則上，在等離子體-、電暈-或火焰-預(yù)處理之后盡快使用光引發(fā)劑，但基于許多目的可以遲滯一段時間后再進行反應(yīng)步驟b)。然而優(yōu)選在工藝步驟a)之后立即進行工藝步驟b)，或者在工藝步驟a)之后的24小時之內(nèi)進行工序步驟b)。
所關(guān)心的是在工藝步驟b)之后立即進行工藝步驟c)，或者在工藝步驟b)之后24小時之內(nèi)進行工藝步驟c)。
被預(yù)先處理和涂有光引發(fā)劑的基底可以在根據(jù)工藝步驟a)、b)和c)涂覆和干燥之后立即進行工藝步驟d)，或者以已被預(yù)處理的形式先被儲存。
光引發(fā)劑或者可適用時，許多種光引發(fā)劑和/或輔助引發(fā)劑的混合物，例如以純的形式，也就是沒有進一步的添加劑，或者與單體或低聚物結(jié)合，或者溶于溶劑被應(yīng)用到已經(jīng)預(yù)先被電暈-、等離子體-或火焰-處理的基底上。引發(fā)劑或者引發(fā)劑混合物，也可以例如是以熔融的形式。引發(fā)劑或者引發(fā)劑混合物也可以例如是被分散、懸浮或者乳化在水中，根據(jù)需要加入分散劑。當(dāng)然，還可以使用上述的組分、光引發(fā)劑、單體、低聚物、溶劑、水的任何混合物。
合適的分散劑，例如任何表面活性劑，優(yōu)選陰離子型和非離子型表面活性劑以及聚合物的分散劑，這些通常是本領(lǐng)域的技術(shù)人員所知的，并且描述在例如US 4 965 294和US 5 168 087中。
合適的溶劑在原則上可以是任何物質(zhì)，只要在其中光引發(fā)劑可以被變?yōu)檫m合于涂覆的狀態(tài)就可以，而不管是以溶液的形式還是以懸浮液或者乳濁液的形式。合適的溶劑是例如醇例如乙醇、丙醇，丁醇、乙二醇等，酮，比如丙酮、甲基乙基酮、乙腈，芳香烴，比如甲苯和二甲苯，酯和醛，比如乙酸乙酯、甲酸乙酯、脂肪族烴，例如石油醚、戊烷、己烷、環(huán)己烷、鹵代烴，比如二氯甲烷、三氯甲烷，或者還可以使用油類，天然的油類、蓖麻油、植物油、合成油等作為另一種選擇。這里的描述并不是建立在周密考慮的基礎(chǔ)之上，并且僅僅是起舉例的作用。
優(yōu)選醇、水和酯。
單體和/或者低聚物含有至少一個烯屬不飽和基團，它們?nèi)芜x地被用于根據(jù)本發(fā)明的工藝步驟b)，它們可能含有一個或多個烯屬不飽和雙鍵。它們可以具有低分子量(單體的)或者較高的分子量(低聚物的)。帶有一個雙鍵的單體的例子是丙烯酸以及甲基丙烯酸的烷基酯和羥烷基酯，例如丙烯酸的甲基、乙基、丁基、2-乙基己基和2-羥乙基酯，丙烯酸異冰片酯和甲基丙烯酸的甲酯和乙酯。對丙烯酸聚硅氧烷也感興趣。更多的例子是丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-取代的(甲基)丙烯酰胺、乙烯基酯，比如乙酸乙烯基酯、乙烯基醚，比如異丁基乙烯基醚、苯乙烯、烷基-和鹵代-苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙烯和1，1-二氯乙烯。
具有超過一個雙鍵的單體的例子是二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1，6-己二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸二丙二醇醚酯、二丙烯酸三丙基烯乙二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸己二醇酯和二丙烯酸雙苯酚酯、4，4-二(-丙烯酰氧乙氧基)二苯基丙烷、三丙烯酸三羥甲基丙酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、丙烯酸乙烯酯、二乙烯基-苯、琥珀酸二乙烯基酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯、磷酸三烯丙酯、異氰脲酸三烯丙酯、三丙烯酸三(羥乙基)異氰脲酸酯(sartomer 368；從Cray Valley商購得到)和三(2-丙烯酰基-乙基)異氰脲酸酯。
還可以使用烷氧基化的多元醇的丙烯酸酯，例如甘油乙氧基化物的三丙烯酸酯、甘油丙氧基化物的三丙烯酸酯、三羥甲基丙基乙氧基化物的三丙烯酸酯、三羥甲基丙基丙氧基化物的三丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基化物的四丙烯酸酯、季戊四醇丙氧基化物的三丙烯酸酯、季戊四醇丙氧基化物的四丙烯酸酯、新戊二醇乙氧基化物的二丙烯酸酯或者新戊二醇丙氧基化物的二丙烯酸酯。所用的多元醇的烷氧化程度可以變化。
較高分子量的(低聚物的)多不飽和化合物的例子是丙烯酸化的環(huán)氧樹脂、丙烯酸化的或者含有乙烯基醚-或環(huán)氧基團的聚酯、聚氨酯和聚醚。不飽和低聚物的更多例子是不飽和聚酯樹脂，它們通常由馬來酸、鄰苯二甲酸和一種或多種二醇生產(chǎn)得到，并且具有約500到3000的分子量。此外還可以使用乙烯基醚單體和低聚物以及順丁烯二酸封端的低聚物——這些低聚物具有聚酯、聚氨酯、聚醚、聚乙烯醚和環(huán)氧主鏈。特別地，如同WO 90/01512中描述的帶有乙烯基醚基團的低聚物和聚合物的組合是非常合適的，但是也考慮被馬來酸和乙烯基醚官能團化了的單體的共聚物。
烯屬不飽和羧酸和多元醇或者聚環(huán)氧化物的酯也是合適的，在鏈中或者在側(cè)基中帶有烯屬不飽和基團的低聚物，例如不飽和聚酯、聚酰胺和聚氨酯以及它們的共聚物也都是合適的，醇酸樹脂、聚丁二烯和丁二烯共聚物、聚異戊二烯和異戊二烯共聚物、在側(cè)鏈上帶有(甲基)丙烯酸基團的聚合物和共聚物以及一個或更多個這樣的聚合物的混合物也都是合適的。
不飽和羧酸的例子是丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸和不飽和脂肪酸比如亞麻酸或者油酸。
丙烯酸和甲基丙烯酸是優(yōu)選。
合適的多元醇是芳族的，特別是脂肪族的和脂環(huán)族的多元醇。芳族的多元醇的例子是氫醌、4，4′-二羥基聯(lián)二苯、2，2-二(4-羥基苯基)丙烷和線型酚醛清漆和可熔酚醛樹脂。聚環(huán)氧化物的例子是那些以所述的多元醇，特別是芳族的多元醇和表氯醇為基礎(chǔ)的聚環(huán)氧化物。那些在聚合物鏈中或者在側(cè)基中含有羥基的聚合物和共聚物，例如聚乙烯醇以及它們的共聚物或者聚甲基丙烯酸的羥烷基酯或者它們的共聚物都可以作為合適的多元醇。更合適的多元醇是帶有羥基端基的低聚酯。
脂肪族的和脂環(huán)族的多元醇的例子包括優(yōu)選具有2-12個碳原子的烷二醇，例如乙二醇、1，2-或1，3-丙二醇、1，2-、1，3-或1，4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇，二乙二醇，三甘醇，具有優(yōu)選為200-1500分子量的聚乙二醇、1，3-環(huán)戊二醇、1，2-、1，3-或1，4-環(huán)己二醇、1，4-二羥基甲基環(huán)己烷、甘油、三(β-羥乙基)胺、三(羥甲基)乙烷、三(羥甲基)丙烷、季戊四醇、二季戊四醇和山梨糖醇。
多元醇可以是已經(jīng)被一個或者不同的不飽和羧酸部分地或者完全地酯化了的，部分酯中的自由羥基可以是已經(jīng)被修飾了，例如被醚化的，或者被其它的羧酸酯化的。
酯的例子有三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、三(甲基丙烯酸)的三羥甲基丙烷酯、三(甲基丙烯酸)的三羥甲基乙烷酯、二(甲基丙烯酸)的丁二醇酯、二(甲基丙烯酸)的三甘醇酯、二丙烯酸的四甘醇酯、二丙烯酸的季戊四醇酯、三丙烯酸的季戊四醇酯、四丙烯酸的季戊四醇酯、二丙烯酸的二季戊四醇酯、三丙烯酸的二季戊四醇酯、四丙烯酸的二季戊四醇酯、五丙烯酸的二季戊四醇酯、六丙烯酸的二季戊四醇酯、八丙烯酸的三季戊四醇酯、二(甲基丙烯酸)的季戊四醇酯、三(甲基丙烯酸)的季戊四醇酯、二(甲基丙烯酸)的二季戊四醇酯、四(甲基丙烯酸)的二季戊四醇酯、八(甲基丙烯酸)的三季戊四醇酯、二衣康酸季戊四醇酯、三衣康酸二(季戊四醇)酯、五衣康酸二(季戊四醇)酯、六衣康酸二(季戊四醇)酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1，3-丁二醇酯、二(甲基丙烯酸)-1，3-丁二醇酯、二衣康酸1，4-丁二醇酯、三丙烯酸山梨糖醇酯、四丙烯酸山梨糖醇酯、季戊四醇修飾的三丙烯酸酯、四(甲基丙烯酸)山梨糖醇酯、五(甲基丙烯酸)山梨糖醇酯、六(甲基丙烯酸)山梨糖醇酯、丙烯酸和甲基丙烯酸酯的低聚醚酯、二-和三-丙烯酸甘油酯、二丙烯酸1，4-環(huán)己酯、具有200到1500的分子量的聚乙二醇的二丙烯酸酯以及六(甲基丙烯酸)酯以及它們的混合物。
相同的或者不同的不飽和羧酸的酰胺以及優(yōu)選含有2至6、特別是2至4個氨基的芳族的、脂環(huán)族的和脂族的多胺也是合適的。這樣的多胺的例子是乙二胺、1，2-或者1，3-丙二胺，1，2-、1，3-或者1，4-丁二胺、1，5-戊二胺、1，6-己二胺、辛二胺、十二烷基二胺、1，4-二氨基環(huán)己烷、異佛爾酮二胺、苯二胺、聯(lián)苯二胺、二-β-氨基乙基醚、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺和二(β-氨基乙氧基)-和二(β-氨基丙氧基)-乙烷。更合適的多胺是在側(cè)鏈上帶有另外的氨基的聚合物和共聚物以及帶有末端氨基的低聚酰胺。這樣的不飽和酰胺是亞甲基二丙烯酰胺、1，6-己基二(丙烯酰胺)、二亞乙基三胺三(甲基丙烯酰胺)、二(甲基丙烯酰胺基丙氧基)乙烷、甲基丙烯酸β-甲基丙烯酰胺基乙基酯和N-[(β-羥基乙氧基)乙基]-丙烯酰胺。
合適的不飽和聚酯和聚酰胺是從例如馬來酸和二醇或二胺衍生得到的。馬來酸可以部分地被其它的二羧酸代替。它們可以和烯屬不飽和的共聚單體例如苯乙烯一起使用。聚酯和聚酰胺還可以從二羧酸和烯屬不飽和二醇或二胺，特別是那些含有例如6-20個碳原子的較長的鏈衍生得到。聚氨酯的例子是那些由飽和的二異氰酸酯和不飽和的二醇或由不飽和的二異氰酸酯和飽和的二醇組成的聚氨酯。
聚丁二烯和聚異戊二烯以及它們的共聚物是已知的。合適的共聚單體包括例如烯烴，比如乙烯、丙烯、丁烯、己烯、(甲基)丙烯酸酯、丙烯腈、苯乙烯和氯乙烯。在側(cè)鏈上帶有(甲基)丙烯酸基團的聚合物同樣是已知的。例子是以線型酚醛清漆為基礎(chǔ)的環(huán)氧樹脂和(甲基)丙烯酸酯的反應(yīng)產(chǎn)物；已被(甲基)丙烯酸酯化的乙烯醇或羥基烷基的衍生物的均聚物或共聚物；以及已被(甲基)丙烯酸羥基烷基酯酯化的(甲基)丙烯酸的均聚物或共聚物。
在本申請的上下文中，術(shù)語“(甲基)丙烯酸酯”既包括丙烯酸酯，也包括甲基丙烯酸酯。
特別地，使用丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯化合物作為單-或多-烯屬不飽和化合物。
非常特別優(yōu)選多不飽和的丙烯酸酯化合物，比如上面已經(jīng)提及的化合物。
因此本發(fā)明還涉及一種方法，其中光引發(fā)劑或者它們與單體或者低聚物的混合物和一個或多個液體(例如溶劑或者水)以溶液、懸浮液和乳濁液的形式聯(lián)合使用。
還對這樣的方法感興趣其中在工藝步驟b)中所用的光引發(fā)劑或者光引發(fā)劑的混合物以融化的形式被使用。
因此在等離子體-、電暈-或者火焰-預(yù)處理之后，可以在工藝步驟b)中，將例如0.1-15％，例如0.1-5％的帶有一個不飽和基團的光引發(fā)劑或者例如0.1-15％，比如0.1-5％的沒有不飽和基團的光引發(fā)劑，以及例如0.5-10％的單體，比如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯醚等涂覆到已經(jīng)預(yù)先處理過的基底上。
可以以多種方式涂覆光引發(fā)劑或者它們彼此的混合物或者它們與單體或低聚物的混合物，可以以熔化物、溶液、分散液、懸浮液或者乳濁液的形式涂覆?？梢酝ㄟ^沉浸、噴涂、涂覆、涂刷、刮涂、滾筒涂覆、印刷、旋轉(zhuǎn)-涂覆和傾倒來實現(xiàn)涂覆。在光引發(fā)劑彼此之間的混合物以及與助引發(fā)劑和敏化劑的混合物的情形下，可以使用所有可能的混合比。當(dāng)只有一個光引發(fā)劑或光引發(fā)劑混合物被涂覆到已預(yù)先處理的基底上時，那些引發(fā)劑的濃度當(dāng)然是100％。
當(dāng)光引發(fā)劑以與單體或/和溶劑或/和水的混合物的形式以液體、溶液乳濁液或懸浮液的形式被涂覆時，例如以0.01到99.9％，或0.01-80％，例如0.1-50％，或10-90％的濃度使用它們，以所用的溶液為基礎(chǔ)。此外，包含光引發(fā)劑的液體可進一步含有其它的物質(zhì)例如消泡劑、乳化劑、表面活性劑、防污劑、潤濕劑及其它通常用于工業(yè)，特別是涂料和噴漆工業(yè)上的添加劑。
干燥涂層的許多可能的方法是已知的，并且它們?nèi)磕軌蛴糜谝蟊Ｗo的方法。例如，可以使用熱氣體、紅外線輻射體、微波和無線電頻率的輻射體、烤箱和加熱滾筒。例如通過吸收、滲入進基底等來完成干燥。這特別涉及在工藝步驟c)中的干燥，但也適用于在工藝步驟d2)中進行的干燥?？梢栽?℃-300℃，例如20℃-200℃的溫度下進行干燥。
在工藝步驟c)中為了固定光引發(fā)劑(以及在工藝步驟d1)為了固化制劑)可以如同上面已經(jīng)做過的描述，使用任何放射源——其發(fā)射的電磁波能被所用的光引發(fā)劑所吸收——對涂層進行輻射。這樣的放射源一般是能在200納米至700納米的范圍內(nèi)發(fā)光的光源。還可以使用電子束。除了通常的輻射體和光源外，還可以使用激光器和LED(發(fā)光二極管)?？梢哉丈渫繉拥娜繀^(qū)域或部分區(qū)域。當(dāng)只需使部分區(qū)域有粘性時，進行局部照射是有利的。也可以使用電子束進行輻射。
可以在空氣或惰性氣體條件下進行干燥和/或輻射?？梢钥紤]使用氮氣作為惰性氣體，但是也可以使用其它的惰性氣體，比如CO2或氬，氦等或它們的混合物。對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，合適的體系和裝置是已知的，并且可以商購得到。
在預(yù)處理之后將要在已經(jīng)預(yù)先處理好的基底上沉積的金屬、半金屬和金屬氧化物例如是鋅、銅、鎳、金、銀、鉑、鈀、鉻、鉬、鋁、鐵、鈦。優(yōu)選是金、銀、鉻、鉬、鋁或銅，特別是鋁和銅。
還對下面的半金屬和金屬氧化物感興趣氧化鋁、氧化鉻、氧化鐵、氧化銅和二氧化硅。
優(yōu)選的是金、銀、鉻、鉬、鋁或銅。
在真空條件下將金屬、半金屬或金屬氧化物蒸發(fā)和沉積到已經(jīng)預(yù)先用光引發(fā)劑層處理的基底之上。這種沉積可能在用電磁輻射照射的同時發(fā)生。另一方面，有可能在沉積金屬之后再進行輻射。沉積步驟的釜溫取決于所用的金屬，例如優(yōu)選在300至2000℃，特別優(yōu)選在800至1800℃范圍的溫度。
在沉積步驟中的紫外線輻射例如可以通過陽極弧光燈產(chǎn)生，同時如上所述常見的光源也適合于在沉積之后的紫外線輻射。
用金屬涂覆的基底例如適合用作擴散阻礙層，用于電磁屏蔽物或者它們可以被用作裝潢元件，用于裝潢薄膜，或用于包裝例如食品包裝用薄箔。
本發(fā)明還涉及光引發(fā)劑和光引發(fā)劑體系在根據(jù)本發(fā)明的工藝中的用途。
本發(fā)明還涉及可以根據(jù)上述的工藝獲得的強粘性的金屬涂層。
這樣的強粘性的涂層是重要的不僅作為保護層或覆蓋物，它們還可能另外被著色，而且作為成像涂料，例如在抗蝕和印刷版技術(shù)上。在成像的情形中，可以使用移動的激光束(激光直接成像-LDI)通過面罩或通過書寫來完成輻射?？梢栽谶@樣的局部照射之后進行顯影或洗滌步驟，其中利用溶劑和/或水或者機械作用除去部分所涂覆的涂層。
當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的工藝被用于成像涂層的生產(chǎn)時，可以在工藝步驟c)中進行成像步驟。
因此本發(fā)明還涉及一種方法，其中通過利用溶劑和或水進行處理和/或機械處理將在工藝步驟b)中被應(yīng)用而在工藝步驟c)受輻射之后沒有被交聯(lián)的部分光引發(fā)劑或它們的混合物以及它們與單體和/或低聚物的混合物除去。
下面的例子進一步闡明本發(fā)明，但是本發(fā)明并不僅限于這些實施例。除非另有陳述，如在這里以及說明書和權(quán)利要求書中的其余部分所述的份和百分比都是指重量。
實施例1在13.56兆赫下在等離子體反應(yīng)堆中進行等離子體處理，可變輸出為10到100瓦。在室溫和5帕的壓力下以20瓦/每秒的輸出功率用氬/氧等離子體(氣體流量氬10sccm，氧2.5sccm)對聚乙烯薄箔(PE薄箔)進行處理。然后允許空氣進入，并且通過使用4毫微巴給樣品涂上制劑S1，包括1％的光引發(fā)劑P38，一種可共聚的二苯甲酮，由UCB提供；0.2％的二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-苯基氧化膦，Irgacure 819，由Ciba Specialty Chemicals，瑞士提供；1％的三(羥乙基)-異氰脲酸-三丙烯酸酯，Sartomer 368，由CrayValley提供，以及異丙醇。
在干燥之后，使用80瓦/厘米的水銀燈以50米/每分鐘的皮帶轉(zhuǎn)速照射樣品。
在同樣的反應(yīng)器中在涂上光引發(fā)劑層之后，在2·10-4毫巴的壓力下使用陽極弧光燈工藝(VALICO工藝)中沉積銅層。釜溫是1500-1600℃。在大約一分鐘內(nèi)沉積了1微米厚的一層。
通過撕去膠帶來測定粘合強度。通過膠帶沒有除去銅層。
實施例2如同實施例1中描述的工藝，只是使用雙軸定向的聚丙烯(BOPP)薄箔代替PE薄箔。在使用膠帶進行的測試中，沒有除去銅層。
實施例3如同實施例1中描述的操作，只是使用下面的制劑S2代替制劑S1，制劑S2包括1％的光引發(fā)劑P38，一種可共聚的二苯甲酮，由UCB提供；0.2％的二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-苯基氧化膦，irgacure819，由Ciba Specialty Chemicals，瑞士提供；1％的芳香酸甲基丙烯酸半酯(sarbox 400，由sartomer提供)異丙醇。在使用膠帶進行的測試中，再次沒有除去銅層。
實施例4如同實施例1中描述的操作，只是用制劑S2代替制劑S1，用BOPP薄箔代替PE薄箔作為基底。膠帶測試表明銅層已很好地粘附在基底上。
實施例5對聚乙烯薄箔(PE薄箔)進行電暈處理(600瓦5m/分鐘)。在所述的經(jīng)過電暈處理的基底上，涂覆制劑S1并照射。將樣品轉(zhuǎn)入到實施例1所使用的反應(yīng)器中，使用陽極弧光燈工藝(VALICO工藝)沉積銅層，壓力為2·10-4毫巴。釜溫是1500-1600℃。在大約一分鐘內(nèi)沉積了1微米厚的一層。在測試中，銅層沒有被膠帶除去。
實施例6如同實施例5中描述的操作，只是用雙軸定向的聚丙烯(BOPP)薄箔代替PE薄箔。
測試的結(jié)果說明在基底上沉積的銅層具有很好的粘合性。
實施例7如同實施例5中描述的操作，只是用制劑S2代替制劑S1。銅層顯示出對基底具有很好的粘合性。
實施例8如同實施例5中描述的操作，只是用BOPP薄箔代替PE薄箔，用制劑S2代替制劑S1。測試的結(jié)果說明沉積的銅層很好地粘合在基底上。
權(quán)利要求
1.在無機或有機基底上生產(chǎn)強粘性的金屬涂層的方法，其中a)在無機或有機基底上進行低溫等離子體處理、電暈放電處理或火焰處理，b)將一種或多種光引發(fā)劑或光引發(fā)劑與含有至少一個烯屬不飽和基團的單體或/和低聚物的混合物，或前面所述物質(zhì)的溶液、懸浮液或乳濁液涂覆至無機或有機基底，c)任選地將步驟b)的涂層干燥并且用電磁波照射；和d)在如此預(yù)先涂覆了光引發(fā)劑的基底上氣相沉積金屬、半金屬或金屬氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中步驟d)用電磁波進行輻射，該輻射既可以在氣相沉積金屬、半金屬或金屬氧化物的同時進行，也可以在此沉積之后進行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中光引發(fā)劑是來自下述類別的化合物或者這些化合物的組合苯偶姻、苯偶?？s酮、乙酰苯、苯羥烷基酮、苯氨基烷基酮、?；趸?、?；蚧?、酰氧基-亞氨基酮、過氧化合物、鹵代的乙酰苯、苯甲酰甲酸酯、二聚苯甲酰甲酸酯、二苯甲酮、肟和肟酯、噻噸酮、噻唑啉、二茂鐵、香豆素、二腈化合物、二茂鈦、锍鹽、三價碘鹽、重氮鹽、鎓鹽、硼酸鹽、三嗪、二咪唑、聚硅烷和染料，以及相應(yīng)的助引發(fā)劑和/或敏化劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中光引發(fā)劑是式I或Ia的化合物(RG)-A-(IN) (I)，(IN)-A-(RG′)-A-(IN) (Ia)，其中(IN)是光引發(fā)劑的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)；A是間隔基團或單鍵；(RG)是氫或至少一個烯屬不飽和官能團；和(RG′)是單鍵或含有至少一個烯屬不飽和官能團的二價基，或者是三價基團。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其中在化合物式I或1a中，(IN)是式(II)或(III)的光引發(fā)劑的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu) R1是基團(A)、(B)、(C)或(III) -CR6R7R8(B) n是0至6的數(shù)字；R2是氫、C1-C12烷基、鹵素、基團(RG)-A-，或者當(dāng)R1是基團(A)時，在羰基鄰位的兩個基團R2可以一起是-S-或 R3和R4彼此獨立地是C1-C6烷基、C1-C6烷?；?、苯基或苯甲?；鶊F苯基和苯甲?；髯允俏幢蝗〈幕虮畸u素、C1-C6烷基、C1-C6烷硫基或C1-C6烷氧基取代；R5是氫、鹵素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基或基團(RG)-A-；R6是OR9或N(R9)2或者是 或者SO2R9；R7和R8彼此獨立的是氫、C1-C12烷基、C1-C12烯基、C1-C12烷氧基，苯基或芐基，或者R7和R8一起是C2-C6亞烷基；R9是C1-C6烷基或C1-C6烷?；?；R10是氫、C1-C12烷基或苯基；R11是C1-C4烷基或 而X1是氧或硫。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其中在式I或I a的化合物中，(RG)是RcRbC＝CRa-；(RG’)是 或 并且Ra、Rb和Rc彼此獨立地是氫或C1-C6烷基，特別是氫或甲基。
7.根據(jù)前面的權(quán)利要求1至6中任意一項的方法，其中光引發(fā)劑或者其與單體或低聚物的混合物和一種或多種液體(例如溶劑或者水)以溶液，懸浮液和乳濁液的形式聯(lián)合使用。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的方法，其中惰性氣體或者惰性氣體和活性氣體的混合物被用作等離子體氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中單獨地或者以混合物的形式使用空氣、H2、CO2、氦、氬、氪、氙、氮氣、氧氣或水。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中被涂覆的光引發(fā)劑層其厚度最多為500納米，特別是在從單分子層直到200納米的范圍。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在工藝步驟a)之后立即進行工藝步驟a)，或者在工藝步驟a)之后24小時之內(nèi)進行工藝步驟b)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在工藝步驟b)中光引發(fā)劑的濃度為0.01至99.5％，優(yōu)選為從0.1至80％。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在工藝步驟b)之后立即進行工藝步驟c)，或者在工藝步驟b)之后24小時之內(nèi)進行工藝步驟c)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在工藝步驟c)中的干燥在烤箱中使用熱氣體、被加熱的滾筒或者IR或者微波輻射體或者通過吸收來完成。
15.根據(jù)權(quán)利要求1或者權(quán)利要求2的方法，其中在工藝步驟c)和/或者d)中的輻射使用放射源或者電子束進行，該放射源發(fā)射波長在200納米至700納米范圍的電磁波。
16.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中利用溶劑和/或水進行處理和/或機械處理將在工藝步驟b)中涂覆的而在工藝步驟c)中的輻射之后沒有交聯(lián)的部分光引發(fā)劑或它們與單體和/或低聚物的混合物除去。
17.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在工藝步驟d)中進行輻射之后，利用溶劑和/或者水和/或者機械處理除去部分的涂層。
18.光引發(fā)劑，特別是不飽和光引發(fā)劑在根據(jù)前面的權(quán)利要求1至17中任何一項的方法中的用途。
19.通過前面的權(quán)利要求1至17中任何一項的方法獲得的強粘性涂層。
全文摘要
本發(fā)明涉及在無機或有機基底上生產(chǎn)強粘性的涂料的方法和相應(yīng)的裝置，其中在第一個步驟a)中引起低溫等離子體、電暈放電或火焰作用于無機或有機基底，在第二個步驟b)中在常壓下，將一種或多種光引發(fā)劑或光引發(fā)劑與含有至少一個烯屬不飽和基團的單體的混合物，或者前面提及的物質(zhì)的溶液、懸浮液或乳濁液涂覆至無機或有機基底，在第三個步驟c)中，使用合適的方法干燥和/或用電磁波照射前面提及的那些物質(zhì)以及，任選地，在第四個步驟d)中，在已經(jīng)如此預(yù)先處理的基底上沉淀金屬、半金屬或金屬氧化物。
文檔編號B05D3/10GK1829819SQ200480022185
公開日2006年9月6日 申請日期2004年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月4日
發(fā)明者G·馬科爾, R·特勒斯卡, E·魯伊斯, S·伊爾希 申請人:西巴特殊化學(xué)品控股有限公司