專利名稱：涂覆裝置和涂覆方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種涂覆裝置和一種涂覆方法。具體地講，本發(fā)明涉及這樣的涂覆裝置和涂覆方法，其能夠?qū)嵤┓€(wěn)定且均勻的涂覆操作，即使是在帶狀基片高速運行時向基片表面上施加涂覆液劑的情況下。
此外，本發(fā)明涉及采用了桿式涂覆機的涂覆裝置和涂覆方法。具體地講，本發(fā)明涉及桿式涂覆裝置和桿式涂覆方法，其能夠在沿恒定方向高速輸送著的涂覆對象上施加涂覆液劑，并且優(yōu)選適用于帶有粗糙表面的涂覆對象。
此外，本發(fā)明涉及一種桿式涂覆裝置，其包括涂桿和布置在涂桿上游的主側(cè)攔截件，并且能夠有效地防止涂覆液劑在主側(cè)攔截件上干燥或粘著；還涉及使用這種涂覆裝置的涂覆方法。
背景技術(shù)：
攝影感光材料、印刷紙、磁記錄材料、帶涂層的金屬板、平印版前體或類似物是通過在諸如載體片材等基片上涂覆諸如制版層形成液等涂覆液而制成的。
桿式涂覆機、滑珠式涂覆機、擠出式涂覆機以及諸如此類的裝置被用于施加涂覆液。特別是桿式涂覆機由于容易操作而被廣泛使用。
通常采用的桿式涂覆機包括一個涂桿，其可以沿著與基片輸送方向相同或相反的方向旋轉(zhuǎn)，并且接觸連續(xù)運行著的基片的下表面。在這種桿式涂覆機中，在基片運行的同時，通過沿基片輸送方向在涂桿上游(以下簡稱“上游”)噴射涂覆液，可以借助于涂桿的旋轉(zhuǎn)而形成液珠并且?guī)鹜扛惨海瑥亩雇扛惨赫持诨南卤砻嫔?。涂桿可以隨動于基片的運行，并因此而旋轉(zhuǎn)。
除此之外，有一種桿式涂覆機公開于日本實用新型申請公開文獻No.63-126213的說明書中，其包括毗鄰涂桿布置在涂桿上游的第一攔截板，該攔截板的上端部的厚度向著基片輸送方向的下游(以下簡稱“下游”)縮窄，而且該上端部向著涂桿彎曲，從而在頂部形成一個長度為0.1至1mm的平坦表面；還有一種桿式涂覆機公開于日本專利申請公報(JP-B)No.58-004589中，其包括涂桿、布置在涂桿上游側(cè)而且在其上端部向著下游側(cè)縮減厚度的第一攔截板以及布置在涂桿下游側(cè)的第二攔截板；上述兩種涂覆機是常被使用的。
對于上述桿式涂覆機，涂覆液通常在第一攔截板與涂桿之間排出，以便涂覆在基片上。
另外，在攔截板設(shè)在涂桿上游的情況下，主要采用這樣的涂覆方法，即在涂桿和攔截板之間噴射涂覆液，同時強迫涂桿以不同于基片輸送速度的圓周速度旋轉(zhuǎn)，從而將涂覆液涂覆在基片上。
然而，對于任一上述桿式涂覆機，當基片高速運行時，容易產(chǎn)生等節(jié)距的條紋狀缺陷。另外，當載體片材高速運行時，可能會在載體片材的表面上形成一層伴隨著載體片材的附屬摻氣膜。
在摻氣膜形成在載體片材表面上后，摻氣膜將被載體片材帶到用作涂覆部分的液珠處，而這會導致形成在載體表面上的涂覆液膜存在缺陷，例如涂膜中斷和涂覆不規(guī)則。因此，產(chǎn)生了涂覆液不能以穩(wěn)定方式涂覆的問題。
此外，對于設(shè)有攔截板的桿式涂覆機，涂覆液將從第一攔截板和涂桿之間排出，并且不能總是均勻地沿著基片寬度方向供應。
因此，排出的涂覆液將周期性地干燥和附著在第一攔截板的頂部，這樣，粘著的涂覆液固體成分會導致涂覆表面問題，例如可能會在基片的涂覆表面上產(chǎn)生涂覆條紋和固體成分粘著。
此外，為了向涂覆對象如金屬板上施加涂覆液，并將多余的涂覆液從涂覆對象上去除(即所謂的計量)，通常使用圖20中所示的桿式涂覆裝置502。
對于桿式涂覆裝置502，一個柱狀(圓柱形)涂桿506為金屬板504而設(shè)置。柱狀涂桿506被沿著與金屬板504的輸送方向(箭頭F1的方向)正交的方向以恒定速度傳輸，從而接觸金屬板504的涂覆表面(下表面)。在金屬板504與涂桿506間的摩擦力的作用下，涂桿506以與金屬板504的輸送速度相等的圓周速度旋轉(zhuǎn)。所述旋轉(zhuǎn)將帶動涂覆液508升高，從而在攔截件512與金屬板504之間形成液珠510。也就是說，液珠510中的涂覆液被施加在金屬板504上，而多余的涂覆液被從金屬板504上去除，從而實現(xiàn)計量。
然而，在桿式涂覆裝置502中，在涂覆時會有所謂的摻氣進入，從而使得液珠510不穩(wěn)定。具體地講，目前金屬板504的輸送速度均設(shè)置在高速，而由于這種高速，無法保持液珠510穩(wěn)定的風險增大了。如果液珠510不穩(wěn)定，則作為示例，涂覆液508不能均勻地涂覆在金屬板504的整個寬度方向上，從而難以獲得均勻涂覆的表面。這一點在金屬板504的表面粗造時更為明顯。由于容易產(chǎn)生摻氣，因此更難獲得均勻涂覆的表面。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種桿式涂覆裝置和一種桿式涂覆方法，其能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定涂覆，而不會產(chǎn)生前述各種類型的涂膜缺陷，即使是在基片例如載體片材高速運行的條件下涂覆時。
另外，本發(fā)明的另一個目的是提供一種桿式涂覆裝置和一種桿式涂覆方法，其能夠在帶有粗糙表面的涂覆對象上形成均勻涂覆的表面，即使是在高速輸送的情況下。
本發(fā)明的第一個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。
根據(jù)本發(fā)明第一個方面中的涂覆裝置，涂覆站用作涂覆器具，用于向基片上涂覆涂覆液，而涂層調(diào)節(jié)站用作計量器具或涂層調(diào)節(jié)器具，用于將涂覆在基片上的涂覆液調(diào)節(jié)到預定厚度，從而在涂覆站涂覆在基片上的涂覆液過多的情況下去掉一部分涂覆液，而在不夠的情況下補充涂覆液，所述涂覆站和涂層調(diào)節(jié)站設(shè)在同一涂覆裝置中。
通過這種涂覆裝置，由于基片上的涂覆量可以被涂層調(diào)節(jié)器具調(diào)節(jié)，因此可以根據(jù)所需的涂覆液層的預定厚度而調(diào)節(jié)涂覆器具所涂覆的涂覆液量。這樣，即使基片高速運行，也可以利用涂覆器具涂覆充足的涂覆液，或者涂覆到過量的程度，從而可以有效地防止基片表面上形成摻氣膜，以有效地防止因摻氣膜而引起的缺陷，例如涂膜中斷或涂覆不規(guī)則。
基片沒有特別的限制，只要它是具有柔性的帶狀、薄板狀或薄膜狀材料即可。具體地講，可以采用下列材料鋁質(zhì)載體片材，例如由薄鋁板制成的平印版前體載體件；用在攝影記錄材料如攝影膠片和電影膠片中的模片基底；鋇地紙，例如顯影紙；由聚酯薄膜或類似物制成的用在諸如錄音磁帶、錄像磁帶、柔性磁盤等磁性記錄材料中的記錄材料基片；金屬薄板，例如彩色鐵板等涂覆金屬板；以及諸如此類的片材。
另外，帶狀基片可以是由各種紙例如牛皮紙、仿羊皮紙、帶聚乙烯涂層的紙等制成的條帶狀材料。
在帶狀材料的表面上，可以實施各種類型的處理，例如噴砂處理和陽極氧化處理。
帶狀材料的輸送速度可以根據(jù)生產(chǎn)速度、涂覆液的設(shè)計涂覆厚度、涂覆表面的表面質(zhì)量或類似因素而選擇性地設(shè)置。然而，所述速度優(yōu)選為10m/min或以上，特別優(yōu)選在40至200m/min的范圍內(nèi)。
涂覆液的實例包括用于涂覆在平印版前體載體片材上以形成制版層的感光層形成液或熱敏層形成液；作為涂覆在制版層上的主要成分的防氧化層形成液，包括不透氧樹脂例如聚乙烯醇的溶液；用于在載體片材的噴砂處理表面上形成基底以提高載體片材與制版層之間粘結(jié)能力的基底形成液；以及各式各樣的溶劑。
除了上述材料以外，涂覆液還可以是用于在攝影膠片、電影膠片、顯影紙或類似物上形成感光層的感光劑乳液；用于在攝影膠片或電影膠片上形成防暈影層的防暈影層形成液；用于在磁記錄材料上形成磁記錄層的磁記錄層形成液；用作帶涂層金屬板或類似物上的基底、中間和上側(cè)涂層的各種漆；以及諸如此類的材料。然而，本發(fā)明的涂覆液并不局限于前面所述，只要它是溶液、懸浮液、溶劑或類似物即可。涂覆液的粘度優(yōu)選為100mPa·s或以下，特別優(yōu)選50mPa·s或以下。另外，表面張力優(yōu)選在20至70mN/m的范圍內(nèi)。
另一個涂層可以預先初步形成在基片的涂覆表面上。基片的厚度大致為0.1至1mm左右。但并不局限在這一范圍內(nèi)。
在涂覆裝置中，可以設(shè)有調(diào)節(jié)器具，用于在被涂覆器具涂覆在基片上的液劑干燥之前調(diào)節(jié)液劑的涂覆量。通過在涂覆的涂覆液干燥之前利用調(diào)節(jié)器具實施調(diào)節(jié)操作，可以進一步有效地防止因基片表面上的摻氣而引起涂覆表面質(zhì)量缺陷。
調(diào)節(jié)器具可以包含一個桿(第二涂桿)，其具有圓形橫斷面，并且平行于作為基片運行路徑的運行表面設(shè)置。所述桿可以是光桿(例如帶有光滑成形表面的桿狀件)。由于涂覆液的液膜形成在光桿與基片之間，因此可以防止光桿與基片的直接接觸，以防止基片的表面被光桿損傷。光桿的旋轉(zhuǎn)方向可以與基片輸送方向相同或相反。其轉(zhuǎn)數(shù)優(yōu)選為500rpm或以下。
調(diào)節(jié)器具中的所述桿可以是平行于作為基片運行路徑的運行表面設(shè)置的桿狀件，其表面上沿圓周方向形成了槽。這種桿也可以稱作調(diào)節(jié)桿或計量桿。對于如此成形的桿，不需要為控制涂覆液層的厚度而改變施加在基片上的張力、基片包圍在桿上的包容角或諸如此類條件。通過在桿上形成較深的槽，涂覆液層可以被調(diào)節(jié)為較厚。相反，通過在桿上形成較淺的槽，涂覆液層可以被調(diào)節(jié)為較薄。這樣，由于可以利用具有不同槽深度的桿而控制涂覆液的涂覆厚度，因此不需要為實施控制而改變涂覆裝置的驅(qū)動條件。
在涂覆裝置中，以任何上述形狀制成的桿可以以500rpm或以下的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)方向可以與基片輸送方向相同或相反。通過將光桿的轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)置在這一范圍內(nèi)，可以特別有效地防止涂覆表面中產(chǎn)生缺陷。
涂覆器具可以包括一個涂桿(第一涂桿)，其與基片接觸并且沿著與基片輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)；以及一個供液器具，其布置在涂桿上游，用于在施加涂覆液時向涂桿和基片之間供應液劑。對于桿式涂覆裝置，由于從供液器具供應的大量涂覆液被涂桿帶起，因此會有大量的涂覆液涂覆到基片表面上。這樣，由于可以容易地消除摻氣膜，因此即使基片高速運行而且形成在基片表面上的摻氣膜較厚，也難以因摻氣而引起涂覆缺陷。
涂覆站可以是這樣類型的，即其以與基片表面分離的狀態(tài)向基片上涂覆液劑。因此，如果基片不接觸涂覆站，則基片表面不會被涂覆器具損傷。這樣，涂覆裝置可以優(yōu)選利用一層初步形成的涂膜而向基片上施加涂覆液。
涂覆裝置可以包括一個非接觸式涂桿，其在涂覆時不與基片接觸。涂桿可以具有光滑表面，并且平行于基片的運行表面布置。此外，涂覆裝置可以包括一個供液器具，其用于在施加涂覆液時從上游向光滑涂桿和基片之間供應液劑。
非接觸式涂覆器具可以是擠出式涂覆機，其具有狹縫形噴液口，用于橫跨基片的寬度方向向著作為基片運行路徑的運行表面噴射涂覆液，以便在基片和噴液口之間形成涂覆液的交叉耦合。
本發(fā)明的第二個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括第一涂桿，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及第二涂桿，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿的下游，用于將液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑的涂覆量。其中，第一涂桿和第二涂桿的布置使得，基片從其被第一涂桿涂覆液劑的涂覆位置開始移至被第二涂桿調(diào)節(jié)液劑的調(diào)節(jié)位置所需的時間間隔為0.25秒或以下。
對于這種類型的涂覆裝置，涂覆液被第一涂桿(初步涂桿)涂覆到被輸送著的基片即涂覆對象上，從而通過初步粘著而形成初步涂層。這樣，可以消除涂覆對象中的摻氣。接下來，涂覆量被第二涂桿(調(diào)節(jié)桿或計量桿)調(diào)節(jié)(計量)，從而在涂覆對象上形成預期的涂層。利用兩個涂桿(初步涂桿和調(diào)節(jié)(計量)桿)向涂覆對象上施加涂覆液，可以減少并優(yōu)選消除摻氣的產(chǎn)生，從而可以在整個寬度方向上獲得均勻涂覆的表面。這樣，由于第一涂桿可以認為具有初步施加涂覆液的功能，因此它可以被成作初步涂桿。
特別是在所述桿式涂覆裝置的情況下，第一涂桿(初步涂桿)與第二涂桿(調(diào)節(jié)桿)之間的間隔是這樣設(shè)置的，即從涂覆對象接觸第一涂桿至接觸第二涂桿所經(jīng)歷的時間間隔為0.25秒或以下。這樣，由于可以在涂覆對象位于第一涂桿與第二涂桿之間時防止重新產(chǎn)生或積累摻氣，因此在涂覆對象的表面粗糙度較高時，例如在算術(shù)平均粗糙度Ra為0.20μm或以上的情況下，也可以獲得均勻涂覆的表面。
根據(jù)本發(fā)明的第二個方面，優(yōu)選設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置，用于以不同于涂覆對象輸送速度的圓周速度帶動第一涂桿和第二涂桿中的至少一個旋轉(zhuǎn)。
也就是說，第一涂桿和第二涂桿中的至少一個是被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置驅(qū)動著以不同于涂覆對象輸送速度的圓周速度強制旋轉(zhuǎn)的，而非借助于其與涂覆對象間的摩擦力而旋轉(zhuǎn)的。這樣，由于液珠可以穩(wěn)定化，因此可以獲得更均勻的涂覆表面質(zhì)量，即使是在涂覆對象的輸送速度提高或涂覆液粘度增大的情況下。
在本發(fā)明的第二個方面中，涂覆液可以采用含有有機溶劑的涂覆液。在含有有機溶劑的涂覆液被用作涂覆液的情況下，由于第一涂桿涂覆的涂覆液能夠快速蒸發(fā)，因此特別容易產(chǎn)生摻氣。然而，即使是在這種情況下，也可以進一步可靠地防止摻氣的產(chǎn)生。
第一涂桿與第二涂桿之間區(qū)域內(nèi)的外界溫度可以保持在30℃或以下。這樣，可以防止涂覆液在第一涂桿與至第二涂桿之間區(qū)域內(nèi)過度蒸發(fā)，因此可以進一步可靠地防止摻氣的產(chǎn)生。
本發(fā)明的第三個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括第一涂桿，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及第二涂桿，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿的下游，用于將液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑的涂覆量。其中，基片移過第一涂桿后涂覆在基片上的液劑涂覆量與基片移過第二涂桿后涂覆在基片上的液劑涂覆量之間的涂覆量比率為0.8至4.0。
根據(jù)第三個方面，基片移過第一涂桿(初步涂桿)后涂覆在基片上的液劑涂覆量與基片移過第二涂桿(調(diào)節(jié)桿或計量桿)后涂覆在基片上的液劑涂覆量之間的涂覆量比率為0.8至4.0。通過使涂覆量比率在0.8或以上，可以可靠地消除摻氣，從而防止初步涂覆的涂覆液中出現(xiàn)液體稀薄現(xiàn)象。另外，通過使涂覆量比率在4.0或以下，在利用第二涂桿實施調(diào)節(jié)時，液珠的尺寸可以較小，以使液珠保持穩(wěn)定并且防止產(chǎn)生所謂的涂覆條紋。也就是說，通過使涂覆量比率為0.8至4.0，可以獲得更均勻涂覆的表面，即使是在例如涂覆對象的輸送速度提高的情況下。
此外，可以設(shè)置一個旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置，其以不同于涂覆對象輸送速度的圓周速度帶動第一涂桿或第二涂桿旋轉(zhuǎn)。也就是說，第一涂桿或第二涂桿是被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置驅(qū)動著以不同于涂覆對象輸送速度的圓周速度強制旋轉(zhuǎn)的，而非借助于其與涂覆對象間的摩擦力而旋轉(zhuǎn)的。這樣，由于液珠可以穩(wěn)定化，因此可以獲得均勻涂覆的表面，即使是在涂覆對象的輸送速度提高或涂覆液粘度增大的情況下。
本發(fā)明的第四個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括第一涂桿，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及第二涂桿，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿的下游，用于將液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑的涂覆量。其中，涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，用于向基片表面上涂覆液劑，所述涂桿被旋轉(zhuǎn)，以使涂桿的一側(cè)圓周表面面對著基片并且沿著與基片輸送方向相同的方向移動，其中涂桿圓周速度為基片輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
根據(jù)這種涂覆裝置，涂覆液可以以穩(wěn)定的方式涂覆，即使是在帶狀基片的輸送速度較高的情況下，因此，通過在帶狀基片上施加涂覆液而形成的涂覆表面的平整高較高。
涂層調(diào)節(jié)站具有將涂覆液均化到預定厚度的功能，即在涂覆站涂覆在帶狀基片上的涂覆液量過多的情況下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘著量，而在涂覆站涂覆在帶狀基片上的涂覆液量不足的情況下，可以進一步向帶狀基片上粘著涂覆液，從而可以調(diào)節(jié)涂覆量。
第一涂桿的旋轉(zhuǎn)速度，也就是圓周速度，可以根據(jù)涂覆液的涂覆厚度而選擇性地設(shè)置在從帶狀基片輸送速度的1/15或以上至等于或小于所述輸送速度的范圍內(nèi)。另外，在攔截板設(shè)在第一涂桿上游的情況下，所述圓周速度可以根據(jù)攔截板的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置在這一范圍內(nèi)。
帶狀基片的輸送速度可以根據(jù)生產(chǎn)速度、涂覆液的涂覆厚度、涂覆表面的所需表面質(zhì)量或類似因素而選擇性地設(shè)置。所述速度優(yōu)選為10m/min或以上，特別優(yōu)選在40至200m/min的范圍內(nèi)。
從涂覆站中噴出的涂覆液量可以根據(jù)帶狀基片的輸送速度、攔截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置。所述液量優(yōu)選在10至100cc/m2的范圍內(nèi)。
此外，第一涂桿的圓周速度可以設(shè)置為帶狀基片輸送速度的1/15至3/4。通過如此設(shè)置，可以獲得具有更高平整度的涂覆表面。
另外，第一涂桿的圓周速度可以設(shè)置為帶狀基片輸送速度的1/10至1/2。這樣，可以獲得具有特別高的平整度的涂覆表面。
對于本發(fā)明第四個方面的涂覆裝置，在粘著在基片上的液劑干燥之前，涂覆液被涂層調(diào)節(jié)站均化到預定厚度，以調(diào)節(jié)涂覆量。
由于涂層調(diào)節(jié)站包括第二涂桿，因此通過控制第二二涂桿的圓周速度和旋轉(zhuǎn)方向，可以在廣闊范圍內(nèi)控制涂覆液的涂覆厚度。第二涂桿可以沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)，或者沿相反方向旋轉(zhuǎn)。在第二涂桿沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)的情況下，可以獲得這樣的優(yōu)點，即如果帶狀基片上有接合部，則可以在接合部移過涂層調(diào)節(jié)站時防止因接合部而引起涂覆缺陷。
本發(fā)明的涂覆裝置可以用在平印版前體處理中。即使是在載體片材高速運行的情況下，涂覆液也能夠均勻地涂覆，而不會使涂覆液粘著在片材背側(cè)。具體地講，作為載體片材，可以采用鋁質(zhì)載體片材，其為薄鋁板并在至少一側(cè)表面被噴砂處理。
作為涂覆裝置中所用的涂覆液，可以是用于形成制版層的制版層形成液、用于涂覆在制版層上以形成防氧化層的防氧化層形成液或類似物。
制版層形成液可以是用于形成可見光曝光型制版層的含有感光樹脂的感光層形成液，或者是用于形成激光曝光型制版層的含有熱敏樹脂或光聚合樹脂的激光感光層形成液。
本發(fā)明的第五個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。其中，所述涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；以及一個攔截件，其具有一定的高度，并且沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，而且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠，其中攔截件的頂表面高度等于或高于第一涂桿圓周表面的最低點，并且比第一涂桿圓周表面的最高點低1mm或以上。
根據(jù)上述實施例中的涂覆裝置，由于涂覆站中的攔截件的高度位于前述范圍內(nèi)，因此在涂覆時從第一涂桿與攔截件之間噴出的涂覆液的液位高度等于或高于第一涂桿表面的最低點，并且比第一涂桿表面的最高點低1mm或以上。
這樣，由于第一涂桿的一部分總是接觸涂覆液，因此會有足夠量的涂覆液被第一涂桿帶起，以涂覆在帶狀基片上。這樣，即使是在帶狀基片的輸送速度較高的情況下，涂覆液也能夠均勻地涂覆。另外，涂覆液不會環(huán)繞著帶狀基片上的與被涂覆液涂覆的表面相反的表面循環(huán)流動并粘著在所述相反表面上。
此外，涂層調(diào)節(jié)站具有將粘著在帶狀基片上的涂覆液調(diào)節(jié)到預定厚度的功能，即在涂覆站涂覆在帶狀基片上的涂覆液量過多的情況下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘著量，而在涂覆站涂覆的涂覆液量不足的情況下，可以涂覆上額外的涂覆液。
作為涂覆站中所包含的攔截件，可以采用豎直向上設(shè)置并且面對著第一涂桿的壁狀件或類似物。另外，壁狀件的頂部可以向著第一涂桿彎折。攔截件頂部上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面優(yōu)選平行于與第一涂桿外圓周表面上的一個面對著攔截件頂部的部位相接觸的切面。
第一涂桿優(yōu)選由金屬制成，因為金屬的強度和耐磨性高。第一涂桿特別優(yōu)選由不銹鋼制成，因為不銹鋼不但具有優(yōu)異的強度和耐磨性，而且還具有優(yōu)異的耐腐蝕性。
第一涂桿可以是具有光滑成形表面的光桿。它也可以是在其表面上沿圓周方向成形出槽的桿。另外，它也可以是在其表面上沿圓周方向纏繞了絲線的繞線桿。
對于帶槽桿，槽的寬度優(yōu)選在0.05至1mm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在0.07至0.5mm的范圍內(nèi)。另外，槽的間距優(yōu)選在0.05至1.0mm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在0.1至0.6mm的范圍內(nèi)。
槽的橫斷面形狀可以采用各式各樣的形狀，例如可以采用正弦曲線形、梯形、半圓形和三角形。
對于繞線桿，絲線的直徑優(yōu)選在0.07至1mm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在0.07至0.6mm的范圍內(nèi)。絲線的材料優(yōu)選采用金屬，因為金屬的強度和耐磨性高，而且特別優(yōu)選采用不銹鋼。
第一涂桿的表面上可以施加硬鉻鍍層，以進一步提高其耐磨性。
第一涂桿的旋轉(zhuǎn)速度可以根據(jù)攔截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置。然而，第一涂桿的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選為帶狀基片輸送速度的1/15或以上至等于或小于所述輸送速度。
上面對第一涂桿所作的描述也可以用在與第一涂桿有關(guān)的本發(fā)明其他方面中。
從涂覆站中噴出的涂覆液量可以根據(jù)帶狀基片的輸送速度、攔截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置。所述液量優(yōu)選在10至100cc/m2的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的第六個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。其中，所述涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使得其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；以及一個攔截件，其具有一定的高度，并且沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，而且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠，其中攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上。
對于上述實施例中的涂覆站，由于攔截件與第一涂桿之間的間隔為3mm或以上，因此即使是在涂覆液被第一涂桿帶起的情況下，涂覆站中的涂覆液的液位高度也可以保持穩(wěn)定。這樣，由于從涂覆站向帶狀基片上散布供應的涂覆液量是均勻的，因此涂覆液可以基本上均勻地粘著在帶狀基片的整個表面上。
攔截件的頂表面高度可以這樣設(shè)置，即等于或高于第一涂桿圓周表面的最低點，并且比第一涂桿圓周表面的最高點低1mm或以上。另外，攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上。
這樣，由于第一涂桿的一部分總是接觸涂覆液，因此會有足夠量的涂覆液被第一涂桿帶起，以粘著在帶狀基片上。
另外，由于攔截件與第一涂桿之間的間隔設(shè)置為3mm或以上，因此即使是在涂覆液被第一涂桿帶起的情況下，涂覆站中的涂覆液的液位高度也可以保持穩(wěn)定。這樣，從涂覆站向帶狀基片上散布供應的涂覆液量可以保持均勻。
因此，即使是在帶狀基片的輸送速度較高的情況下，涂覆液也能夠被特別均勻地涂覆。此外，涂覆液不會環(huán)繞著帶狀基片上的與被涂覆液涂覆的表面相反的表面循環(huán)流動并粘著在所述相反表面上。
攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿的外圓周表面之間的間隔可以設(shè)置為3mm至30mm。這樣，可以獲得更均勻涂覆的表面。
第一涂桿的圓周速度可以設(shè)置在帶狀基片輸送速度的1/15或以上至等于或小于所述輸送速度這一范圍內(nèi)。在涂覆裝置中，由于在攔截件與第一涂桿之間噴射的涂覆液能夠充分地被第一涂桿帶起，因此涂覆液能夠均勻地粘著在帶狀基片上，從而可以獲得高度平整的涂覆表面。
此外，在涂覆裝置中，涂層調(diào)節(jié)站可以包括第二涂桿，其用于將涂覆在基片表面上的液劑均化到預定厚度。在涂層調(diào)節(jié)站中，在第二涂桿的轉(zhuǎn)數(shù)增加的情況下，在最終涂覆制品上獲得的涂覆液的涂覆厚度會減小。在第二涂桿的轉(zhuǎn)數(shù)減少的情況下，在最終涂覆制品上獲得的涂覆液的涂覆厚度會增大。因此，通過增加或減少第二涂桿的轉(zhuǎn)數(shù)，也可以增大或減小涂覆厚度。
另外，第二涂桿可以被設(shè)置得沿著與帶狀基片的輸送方向相反的方向的旋轉(zhuǎn)。由于粘著的涂覆液可以在涂層調(diào)節(jié)站中均化到預定厚度，因此即使在涂覆站中有大量的涂覆液粘著在帶狀基片上，并且?guī)罨妮斔退俣容^高，也可以有效地消除帶狀基片上攜帶的摻氣，從而防止造成涂覆表面質(zhì)量問題。
第二涂桿可以沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向的旋轉(zhuǎn)。由于在同向旋轉(zhuǎn)的情況下第二涂桿相對于帶狀基片的相對速度小于反向旋轉(zhuǎn)時的相對速度，因此在涂層調(diào)節(jié)站中被帶起的涂覆液較少。所以，同向旋轉(zhuǎn)優(yōu)選用在需要獲得較大涂覆厚度的情況下。
帶狀基片的輸送速度可以設(shè)置為100m/min或以上。在這種情況下，由于帶狀基片的輸送速度較高，因此涂覆液可以高效涂覆。
本發(fā)明這一所述方面的涂覆裝置可以用在平印版前體處理中。對于平印版前體的應用而言，可以參看對本發(fā)明其他方面所作描述。
本發(fā)明的第七個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。其中，涂覆站包括第一涂桿，其基本上平行于基片表面布置并且具有圓周表面，所述圓周表面的一側(cè)面對著基片，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；一個攔截件，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，并且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠；以及一個整流件，其布置在攔截件和第一涂桿之間，用于形成沿著第一涂桿的表面上升的液劑流。
在涂覆站中，涂覆液被供應到攔截件與第一涂桿之間，以使涂覆液被第一涂桿帶向帶狀基片。由于整流件設(shè)在攔截件和第一涂桿之間，因此可以在第一涂桿與整流件之間產(chǎn)生流向帶狀基片的液流。這樣，就可以形成沿第一涂桿的表面上升的涂覆液流。接下來，一部分沿第一涂桿表面上升的涂覆液粘著在帶狀基片上，剩下的涂覆液將在整流件與攔截件之間沿著整流件上的與面對著第一涂桿的一側(cè)相反的一側(cè)表面向下流動。
因此，可以認為會在整流件附近產(chǎn)生了循環(huán)液流，其沿著整流件的下游表面上升，越過整流件，再沿著整流件的上游表面下降。
這樣，粘著在帶狀基片上的涂覆液量的波動受到限制，而且因所述波動而造成的涂覆表面擾動也受到限制，從而使得涂覆液能夠以更均勻的厚度涂覆在帶狀基片的表面上。
另一方面，在涂層調(diào)節(jié)站中，涂覆液被調(diào)節(jié)而均化到預定厚度，即在涂覆站粘著到帶狀基片上的涂覆液量過多的情況下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘著量，而在涂覆站粘著到帶狀基片上的涂覆液量不足的情況下，可以向帶狀基片上粘著額外的涂覆液。
在涂層調(diào)節(jié)站中，可以設(shè)置一個與裝于涂覆站中的第一涂桿相同的涂桿。
對于安裝在涂覆站中的整流件，可以采用一個整流板，其為向著帶狀基片的運行表面延伸的板狀件。然而，整流件并不局限于這種整流板，只要它具有產(chǎn)生循環(huán)液流的功能即可。
整流板可以是從涂覆站底部向著帶狀基片延伸的平板狀件。優(yōu)選使整流板的末端部即頂部向著第一涂桿彎折。
作為攔截件，可以采用向上向著作為帶狀基片運行路徑的運行表面延伸的板狀件。攔截件可以沿豎直方向直立設(shè)置，以面對著第一涂桿。另外，可以在攔截件的末端部分上形成向著第一涂桿彎折的彎折部分。此外，所述彎折部分可以被成形為“L”形。另外，可以在攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面上形成圓柱形表面，以靠近第一涂桿。
第一涂桿的旋轉(zhuǎn)速度可以根據(jù)攔截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置。第一涂桿的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選為帶狀基片輸送速度的1/15或以上至等于或小于所述輸送速度，并且沿著與基片輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)。
帶狀基片的輸送速度可以根據(jù)生產(chǎn)速度、涂覆液的涂覆厚度、涂覆表面的所需表面質(zhì)量或類似因素而選擇性地設(shè)置。所述速度優(yōu)選為10m/min或以上，特別優(yōu)選在40至200m/min的范圍內(nèi)。
從涂覆站中噴出的涂覆液量可以根據(jù)帶狀基片的輸送速度、攔截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或類似條件而選擇性地設(shè)置。所述液量優(yōu)選在15至100cc/m2的范圍內(nèi)。
整流件可以是平行于攔截件設(shè)置的板狀件，并且在末端部分上形成了向著第一涂桿彎折的彎折部分。可以認為，通過設(shè)置彎折部分，可以更穩(wěn)定地形成從下游側(cè)至上游側(cè)圍繞著整流件末端部分的循環(huán)液流。這樣，粘著在帶狀基片上的涂覆液量的波動會受到更有效的限制，而且因所述波動而造成的涂覆表面擾動也會受到更有效的限制，從而可以獲得更均勻涂覆的表面。
整流件的彎折部分可以成形得平行于與第一涂桿的一個部位相接觸的切面，所述部位面對著彎折部分。由于可以在攔截件末端部分與第一涂桿之間形成平行于第一涂桿切面的涂覆液液流，因此粘著在帶狀基片上的涂覆液量的波動會受到特別有效的限制，從而可以抑制因所述波動而造成的涂覆表面擾動。這樣，可以獲得更均勻涂覆的表面。
此外，整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿的外圓周表面之間的最短距離可以是1mm或以下。所述最短距離也就是整流件彎折部分與第一涂桿切面之間的距離。這樣，可以在使用高粘度涂覆液的情況下防止產(chǎn)生未涂覆部分。
另外，整流件的末端部分至運行表面的距離可以設(shè)置為3mm或以下。這樣，可以有效地防止沿縱向產(chǎn)生液珠條紋，即條狀涂薄部分。
整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿的外圓周表面之間的最短距離可以是0.05至1mm。這樣，可以在使用高粘度涂覆液的情況下特別有效地防止產(chǎn)生未涂覆部分。
整流件的末端部分至基片運行表面的距離可以是0.05至3mm。這樣可以特別有效地防止產(chǎn)生液珠條紋。
另外，帶狀件可以是用于形成平印版前體基片的載體片材。涂覆在載體片材上的涂覆液的實例包括感光層形成液、熱敏層形成液和基底形成液。此外，在載體片材的表面上帶有制版層的情況下，可以涂覆防氧化層形成液。通過在載體片材的噴砂處理表面上涂覆制版層形成液，并且利用這種載體片材制造平印版前體，可以獲得在制版層中沒有任何缺陷部分的平印版前體。
本發(fā)明的第八個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。其中，涂層調(diào)節(jié)站包括一個桿，其基本上平行于基片表面布置，用于將涂覆在基片上的液劑均化和調(diào)節(jié)到預定厚度；以及一個塊，其沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，用于在桿和基片之間形成液劑的液珠。
涂層調(diào)節(jié)站具有使涂覆站中粘著的涂覆液均化的功能，從而如前所述將涂覆液調(diào)節(jié)到預定厚度，即在涂覆站中粘著的涂覆液量過多的情況下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘著量，而在涂覆液的粘著量不足的情況下，可以向帶狀基片上粘著額外的涂覆液。
然而，在涂覆站粘著的涂覆液量產(chǎn)生波動的情況下，則會沿著裝于涂層調(diào)節(jié)站中的桿的寬度方向產(chǎn)生壓力變化，因而不能獲得均勻涂覆的表面。
在本發(fā)明的這一所述方面中，由于在涂層調(diào)節(jié)站中涂覆液的液珠形成在所述上游塊和桿與基片之間，因此在涂覆站中產(chǎn)生的涂覆液粘著量的波動可以被液珠吸收，因此不會在桿的寬度方向產(chǎn)生壓力變化，并且可以獲得均勻涂覆的表面。
作為上游塊的實例，可以是豎直設(shè)在上游側(cè)并且面對著桿的攔截件。在攔截件的情況下，優(yōu)選使上游塊具有一個形成在其末端部分即頂部并且面對著桿的彎折部分。此外，優(yōu)選使彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面被成形得平行于一個與面對著彎折部分的桿部位相接觸的切面。由于液珠可以更加穩(wěn)定地形成，因此即使是在涂覆站粘著的涂覆液量出現(xiàn)波動的情況下，也可以特別有效地抑制涂覆缺陷在涂覆表面中的產(chǎn)生。
所述桿可以是沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)的正向旋轉(zhuǎn)桿，或者可以是沿著與帶狀基片的輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)的反向旋轉(zhuǎn)桿。然而，為了在上游塊與帶狀基片之間形成穩(wěn)定的液珠，并且防止產(chǎn)生涂覆缺陷例如在帶狀基片的接合部出現(xiàn)未涂覆部分或涂薄部分，優(yōu)選采用正向旋轉(zhuǎn)。
桿的旋轉(zhuǎn)速度可以根據(jù)涂覆液的預期涂覆厚度和涂覆液在涂覆站中的粘著量而選擇性地設(shè)置。一般而言，可將圓周速度設(shè)置在-30m/min至+30m/min的范圍內(nèi)。其中負號表示反向旋轉(zhuǎn)，正號表示正向旋轉(zhuǎn)。
在帶狀基片移過涂覆裝置的涂層調(diào)節(jié)站后，基片上的涂覆液的涂覆量一般為50至100cc/m2，優(yōu)選在10至40cc/m2的范圍內(nèi)。從涂覆站中噴出的涂覆液量可以根據(jù)帶狀基片的輸送速度、涂層調(diào)節(jié)后的涂覆液的涂覆量或類似條件而選擇性地設(shè)置。所述液量優(yōu)選在15至100cc/m2的范圍內(nèi)。
上游塊彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的最短距離可以是3mm或以下。由于液珠能夠特別穩(wěn)定地形成在桿、上游塊和帶狀基片之間，因此在涂覆站中產(chǎn)生的涂覆液粘著量波動可以被特別有效地吸收。因此，帶狀基片的輸送速度可以得到特別的提高，從而使得，即使是在涂覆站中的涂覆液粘著量波動劇烈波動的情況下也能夠利用液珠吸收所述波動，這樣，可以防止沿縱向產(chǎn)生具有條狀涂薄部分的涂覆缺陷，例如液珠條紋和條狀斑紋。
此外，所述最短距離可以設(shè)置在0.05至3mm的范圍內(nèi)。即使是在帶狀基片的輸送速度提高而導致帶狀基片在涂覆站中擺動的情況下，因擺動而造成的涂覆不規(guī)則性也可以在涂層調(diào)節(jié)站中被液珠吸收，從而可以防止涂覆缺陷。
從上游塊的末端至作為帶狀基片運行路徑的運行表面的距離可以是3mm或以下。由于液珠能夠特別穩(wěn)定地形成在桿和上游塊與帶狀基片之間，因此在涂覆站中產(chǎn)生的涂覆液粘著量波動可以被特別有效地在涂覆裝置中被涂層調(diào)節(jié)站吸收。這樣，即使是在帶狀基片的輸送速度提高的情況下，也可以有效地防止涂覆缺陷的產(chǎn)生。
另外，上述距離可以在0.1至3mm的范圍內(nèi)。這樣，即使是在帶狀基片的輸送速度提高到導致帶狀基片擺動的程度時，由于在涂覆站中產(chǎn)生的涂覆液粘著量波動能夠在涂層調(diào)節(jié)站中被液珠吸收，因此也不會出現(xiàn)涂覆缺陷。
涂覆站可以包括一個用于向帶狀基片上粘著涂覆液的涂桿。
作為涂桿，可以采用光桿、帶槽桿和繞線桿，這一點與安裝在涂層調(diào)節(jié)站中的桿類似。另外，旋轉(zhuǎn)方向可以是正向，或者也可以是反向。作為涂桿，由于優(yōu)選產(chǎn)生強大的力，用以將涂覆液待其并粘著在帶狀基片上，因此優(yōu)選采用正向旋轉(zhuǎn)的帶槽桿和繞線桿。
沿帶狀基片輸送方向從涂層調(diào)節(jié)站的上游塊的末端部分至桿的圓周表面的距離可以在1.2至11mm的范圍內(nèi)。這樣，在涂層調(diào)節(jié)站中可以特別穩(wěn)定地形成液珠。
根據(jù)本發(fā)明這一所述方面的涂覆裝置也可以用于制造平印版前體基片。這樣，可以以高生產(chǎn)率和低廢品率制造平印版前體。由于液珠能夠穩(wěn)定地形成在涂層調(diào)節(jié)站中，因此在涂覆站中產(chǎn)生的涂覆液粘著量波動可以有效地被液珠吸收，這樣，因所述波動而造成的涂覆表面擾動會受到限制，從而使得涂覆液可以在平印版前體載體片材表面上更均勻地涂覆。
作為涂覆在載體片材上的涂覆液的實例，可以包括感光層形成液、熱敏層形成液和基底形成液。在載體片材的表面上帶有制版層的情況下，本發(fā)明的涂覆裝置可以用于在制版層形成過程中涂覆防氧化層形成液。這樣，可以獲得在制版層中沒有任何缺陷部分的平印版前體。
本發(fā)明的第九個方面是一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，所述涂覆裝置包括一個桿，其基本上平行于基片的至少一個表面布置，用于將涂覆在基片表面上的液劑均化到預定的厚度；以及一個主側(cè)攔截件，其沿基片輸送方向布置在所述桿的上游并且面對著桿，用于在桿和基片之間形成涂覆液液劑的液珠。其中，主側(cè)攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的間隔為2mm或以下。
根據(jù)本發(fā)明的第九個方面，由于主側(cè)攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的距離為2mm或以下，因此涂覆液可以均勻地沿著帶狀基片的寬度方向連續(xù)噴射。這樣，由于粘著在主側(cè)攔截件頂部的涂覆液不會干燥和固化，因此可以防止產(chǎn)生涂覆條紋或諸如固體成分粘著等其他涂覆表面問題。主側(cè)攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的距離為2mm或以下，優(yōu)選為1mm或以下，特別優(yōu)選為0.05至1mm。
主側(cè)攔截件可以是豎直向上布置并且面對著第一涂桿的壁狀件。另外，壁狀件的頂部可以向著第一涂桿彎折。主側(cè)攔截件頂部附近的面對著第一涂桿的一側(cè)表面優(yōu)選平行于與第一涂桿的一個部位相接觸的切面，所述部位面對著主側(cè)攔截件的頂部。
另外，主側(cè)攔截件可以具有一個形成在其頂部并且面對著第一涂桿的豎直表面。還可以在主側(cè)攔截件頂部形成一個面對著帶狀基片運行表面的水平表面。
桿可以沿著與帶狀基片的輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)，即反向旋轉(zhuǎn)，或者可以沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)，或者也可以保持靜止。
在桿沿著與帶狀基片的輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)的情況下，其轉(zhuǎn)數(shù)優(yōu)選為500rpm或以下。在桿沿著與帶狀基片的輸送方向相同的方向旋轉(zhuǎn)的情況下，桿的圓周速度優(yōu)選等于或低于帶狀基片的輸送速度。
對于帶狀基片和涂覆液，也可以參照對前面各個方面所作描述。
涂覆裝置中的桿的圓周速度可以與帶狀基片的輸送速度不同。在這種情況下，在涂覆涂覆液時，桿可以正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn)，或者可以是固定的。
在上述實施例的涂覆裝置中，通過控制桿的轉(zhuǎn)數(shù)，可以調(diào)節(jié)帶狀基片的涂覆表面上的涂覆液的涂覆厚度。作為示例，在桿正向旋轉(zhuǎn)的情況下，通過減小桿的旋轉(zhuǎn)速度，帶狀基片上的涂覆液的涂覆厚度可以增大。另一方面，在桿反向旋轉(zhuǎn)的情況下，通過增加桿的旋轉(zhuǎn)速度，帶狀基片上的涂覆液的涂覆厚度可以減小。
本發(fā)明這一所述方面的涂覆裝置可以包括一個潤濕液體涂覆器具，其用于涂覆潤濕液體，以使所述桿的下游表面濕潤。
在這種涂覆裝置中，不但桿的上游表面，而且桿的下游表面，均可以保持潤濕狀態(tài)。因此，可以防止出現(xiàn)各種問題，例如由涂覆液產(chǎn)生的膜狀固體成分，其可能粘著在桿的表面上，干燥并粘著在帶狀基片的涂覆表面上，并且引起涂覆過厚或諸如此類的問題。
潤濕液體涂覆器具可以沿帶狀基片的輸送方向布置在所述桿的下游，并且面對著桿，而且其可以包括一個高度低于主側(cè)攔截件的輔助側(cè)攔截件。潤濕液體在輔助側(cè)攔截件與桿之間噴射，以使?jié)櫇褚后w涂覆在桿的表面上。這樣，涂覆液可以更加穩(wěn)定地存在于桿附近，從而可以特別有效地防止涂覆液在桿的表面上固化。
所述潤濕液體即干燥防止液可以是涂覆液。由于涂覆液用作干燥防止液，因此即使是在涂覆液和干燥防止液在桿表面上混合的情況下，涂覆液的成分也可以基本上保持穩(wěn)定。在具有涂覆液的涂覆裝置中，特別優(yōu)選收集和重新使用涂覆液。另外，由于不需要相對于供應涂覆液的管路單獨設(shè)置用于供應干燥防止液的管路，因此管線系統(tǒng)可以顯著簡化。
帶狀基片可以是用作平印版前體基片的載體片材。這樣，可以有效地防止出現(xiàn)各種問題，例如涂覆液干燥后的固體成分粘著在載體片材的未干燥涂覆表面上，或者因固體成分混合到未干燥涂覆液中而造成涂覆過厚，以及諸如此類的問題。
本發(fā)明的第十個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。
根據(jù)本發(fā)明第十個方面中的涂覆方法，由于向基片上涂覆涂覆液的步驟和將涂覆在基片上的涂覆液調(diào)節(jié)到預定厚度的步驟是分開設(shè)置的，因此涂覆步驟中的涂覆量的設(shè)置不必考慮所需的最終涂覆液層厚度。這樣，即使基片是高速運行的，也可以通過在涂覆步驟中涂覆充足或過多的涂覆液而有效地阻斷基片表面上的摻氣膜，從而可以有效地防止因摻氣膜而引起的缺陷，例如涂膜中斷或涂覆不規(guī)則。
本發(fā)明的第十一個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，基片在涂覆步驟和涂層調(diào)節(jié)步驟之間的輸送時間為0.25秒或以下。
對于根據(jù)本發(fā)明第十一個方面的涂覆方法，在涂覆步驟(即第一涂覆步驟或初步涂覆步驟)中，涂覆液被涂覆到被輸送著的基片即涂覆對象上，從而通過初步粘著而形成初步涂層。這樣，可以消除涂覆對象上的摻氣。接下來，在涂層調(diào)節(jié)步驟(即第二涂覆步驟、調(diào)節(jié)步驟或計量步驟)中，涂覆液量被調(diào)節(jié)(計量)，從而在涂覆對象上獲得預期的涂層。通過利用兩個涂覆步驟(第一和第二涂覆步驟)在涂覆對象上涂覆涂覆液，可以減少并優(yōu)選消除摻氣的產(chǎn)生，從而在整個寬度方向上獲得均勻涂覆的表面。
特別地講，在采用這種涂覆方法的情況下，在涂覆步驟(即第一涂覆步驟或初步涂覆步驟)與涂層調(diào)節(jié)步驟(即第二涂覆步驟或調(diào)節(jié)步驟)之間的間隔被這樣設(shè)置，即從涂覆對象在第一步驟中涂覆的時間至其在第二步驟中涂覆的時間所經(jīng)歷的時間間隔為0.25秒或以下。這樣，由于可以在涂覆對象位于第一涂覆步驟與第二涂覆步驟之間時防止重新產(chǎn)生或積累摻氣，因此在涂覆對象的表面粗糙度較高時，例如在算術(shù)平均粗糙度Ra為0.20μm或以上的情況下，也可以獲得均勻涂覆的表面。
在本發(fā)明的第十一個方面中，液劑中可以含有有機溶劑。
本發(fā)明的第十二個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，基片在剛剛經(jīng)過了涂覆步驟后的液劑涂覆量與其經(jīng)過了涂層調(diào)節(jié)步驟后的液劑涂覆量之間的涂覆量比率為0.8至4.0。
此外，如果涂覆步驟和涂層調(diào)節(jié)步驟中的至少一個中包含利用大致平行于基片表面布置著的桿向基片表面上涂覆液劑的步驟，則所述桿可以以與基片輸送速度不同的圓周速度旋轉(zhuǎn)。
本發(fā)明的第十三個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用桿向基片表面上涂覆液劑，所述桿基本上平行于基片表面布置，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動，其中桿的圓周速度為基片輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
根據(jù)這種涂覆方法，涂覆液可以以穩(wěn)定的方式涂覆，即使是在帶狀基片輸送速度較高的情況下，因此，通過在帶狀基片上涂覆涂覆液而形成的涂覆表面的平整度較高。
在上述涂覆方法中，桿的圓周速度的優(yōu)選范圍是帶狀基片輸送速度的1/15至3/4，特別優(yōu)選為1/10至1/2。另外，在上述涂覆方法中，優(yōu)選在通過涂覆步驟涂覆在帶狀基片上的涂覆液干燥之前在涂層調(diào)節(jié)步驟中調(diào)節(jié)涂覆厚度。
本發(fā)明的第十四個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿向基片表面上涂覆液劑，在涂覆時需要借助于攔截件而在桿與基片之間形成液珠，所述攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，攔截件的頂表面高度至少與桿表面的最低點的高度相同，但比桿表面的最高點低1mm或以上，以使液劑從液珠涂覆到基片表面上。
根據(jù)上述涂覆方法，即使是在帶狀基片輸送速度較高的情況下，也可以獲得均勻涂覆的表面，而不會在涂覆表面中產(chǎn)生涂覆缺陷。
本發(fā)明的第十五個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿向基片表面上涂覆液劑，在涂覆時需要借助于攔截件而在桿與基片之間形成液珠，所述攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，攔截件的布置使得，攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上，以使液劑從液珠涂覆到基片表面上。
在上述涂覆方法中，由于從涂覆站向帶狀基片上散布供應的涂覆液量是均勻的，因此涂覆液可以均勻地粘著在帶狀基片的整個表面上。
本發(fā)明的第十六個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，液劑是這樣涂覆在基片表面上的，即將攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并使之面對著桿，以便在桿與基片之間形成液劑的液珠，并且在攔截件與桿之間布置整流件，用于使液珠形成向上流到桿表面上的液劑流。
根據(jù)上述涂覆方法，由于穩(wěn)定的循環(huán)液流能夠形成在整流件附近，因此粘著在帶狀基片上的涂覆液量的波動可以被抑制，因而涂覆液可以以更均勻的厚度涂覆在帶狀基片的表面上。
本發(fā)明的第十七個方面是一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。其中，涂層調(diào)節(jié)步驟包括一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿均化基片表面上的液劑，從而調(diào)節(jié)液劑，其中，通過沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿的上游塊在桿與基片之間形成液珠，以將涂覆的液劑均化到預定的厚度。
因此，在涂層調(diào)節(jié)步驟中，液珠可以以穩(wěn)定的方式形成，以使涂覆步驟中產(chǎn)生的涂覆液粘著量的波動可以被吸收。這樣，即使是在帶狀基片輸送速度較高的情況下，涂覆液也可以穩(wěn)定地涂覆在帶狀基片上。
本發(fā)明的第十八個方面是用在沿預定方向運行著的帶狀基片上的液劑涂覆方法，所述方法包含利用桿將涂覆在基片表面上的液劑調(diào)節(jié)到一定厚度的步驟，所述方法包括用于在桿與基片之間形成涂覆液液劑的液珠的步驟；以及用于將液劑從液珠涂覆到基片上的步驟，其中沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿的主側(cè)攔截件的表面與桿的外圓周表面之間的間隔為2mm或以下。
根據(jù)本發(fā)明上述方面的涂覆方法，由于可以防止涂覆液干燥并粘著在主側(cè)攔截件的頂部上，因此可以防止出現(xiàn)諸如涂覆條紋和固體成分粘著等涂覆表面問題。


圖1是根據(jù)本發(fā)明第一個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)圖，其用于向載體片材上涂覆感光層形成液。
圖2是根據(jù)本發(fā)明第二個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)圖，其將擠出式涂覆機用作涂覆器具，從而以非接觸的方式涂覆一種液劑。
圖3A和3B是根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)正視圖，其中圖3A中示出了未實施涂覆操作時的裝置，圖3B中示出了實施涂覆操作時的裝置。
圖4是根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置中的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)的俯視圖。
圖5是根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置中的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)的側(cè)視圖。
圖6是用于解釋根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置的操作的透視圖。
圖7是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的涂覆裝置的示意圖。
圖8是用于顯示圖7所示涂覆裝置所包含的涂覆段中的第一涂桿、支承座和攔截件之間的相對高度關(guān)系的放大圖。
圖9是用于顯示圖7所示涂覆裝置所包含的涂覆段中的第一涂桿、攔截件和制版層形成液的液位之間的相對位置關(guān)系放大圖。
圖10是根據(jù)本發(fā)明第六個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖11是用于顯示涂覆段2中的整流板28、第一涂桿22、支承件24和攔截件26之間的相對位置關(guān)系的放大剖視圖。
圖12是圖11所示涂覆段2中的整流板28附近的制版層形成液的放大剖視圖。
圖13是涂覆段2的一個實例的放大剖視圖，該涂覆段中的整流板28的形狀不同于圖11所示涂覆段2中的。
圖14是根據(jù)本發(fā)明第七個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖15是圖14所示涂覆裝置的涂層調(diào)節(jié)段中的上游塊和下游塊之間相互位置關(guān)系的放大圖。
圖16是圖15所示涂層調(diào)節(jié)段中的制版層形成液的放大圖。
圖17是涂層調(diào)節(jié)段的一個實例的放大圖，該涂層調(diào)節(jié)段的上游塊的形狀不同于圖14所示涂層調(diào)節(jié)段中的。
圖18是根據(jù)本發(fā)明第八個實施例的涂覆裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖19是根據(jù)本發(fā)明第九個實施例的涂覆裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖20是一種傳統(tǒng)桿式涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖。
具體實施例方式
第一個實施例圖1中示出了根據(jù)本發(fā)明第一個實施例的涂覆裝置，其用于向載體片材上涂覆感光層形成液。
如圖1所示，根據(jù)第一個實施例的涂覆裝置101包括一個桿式涂覆裝置102，其具有一個涂桿122；以及一個桿式定量裝置104，其具有一個定量桿142，并且布置在桿式涂覆裝置102的下游。定量桿142還用作第二涂桿，用于通過對涂桿122涂覆在載體片材上的液劑進行補充或者去除一部分所述液劑，從而調(diào)節(jié)涂覆表面上的液劑涂覆量。在本發(fā)明中，該定量桿還被稱作調(diào)節(jié)桿或計量桿。桿式涂覆裝置102和桿式定量裝置104均布置在載體片材W的運行表面T下方。
一個壓輥106在桿式涂覆裝置102和桿式定量裝置104之間設(shè)在運行表面T的上方，用于在向載體片材W涂覆感光層形成液時從上方將載體片材W壓向涂桿122和定量桿142。
除了涂桿122以外，桿式涂覆裝置102還包括一個涂桿支承件124，其用于從下面支承涂桿122；一個上游側(cè)攔截件126，其布置在涂桿支承件124的上游，并且沿著相對于運行表面T的豎直方向延伸；以及一個下游側(cè)攔截件128，其布置在涂桿支承件124的下游，并且沿著相對于運行表面T的豎直方向延伸。
一個上游側(cè)供液路徑132形成在涂桿支承件124與上游側(cè)攔截件126之間，用于在涂桿122的上游側(cè)供應感光層形成液，一個下游側(cè)供液路徑134形成在涂桿支承件124與下游側(cè)攔截件128之間，用于在涂桿122的下游側(cè)供應感光層形成液。上游側(cè)供液路徑132和下游側(cè)供液路徑134通過連通路徑136而在涂桿支承件124下方彼此連通。上游側(cè)供液路徑132的下端連接著一個用于供應感光層形成液的供液管路徑138。
除了定量桿142以外，桿式定量裝置104還包括一個定量桿支承件144，其用于從下面支承定量桿142；一個上游側(cè)攔截件146，其布置在定量桿支承件144的上游，并且向上向著定量桿144傾斜延伸；以及一個下游側(cè)攔截件148，其布置在定量桿支承件144的下游，并且沿著指向運行表面T的豎直方向延伸。
一個上游側(cè)供液路徑150形成在定量桿支承件144與上游側(cè)攔截件146之間，用于供應或排出感光層形成液，一個下游側(cè)供液路徑152類似地形成在定量桿支承件144與下游側(cè)攔截件148之間，用于供應或排出感光層形成液。
桿式涂覆裝置102和桿式定量裝置104均安置在一個底座130上。
優(yōu)選在涂桿122旋轉(zhuǎn)時使其圓周表面面對著載體片材W，而且其旋轉(zhuǎn)方向與載體片材W的輸送方向重合(在本發(fā)明中，以下稱作沿相同方向或正向旋轉(zhuǎn))。涂桿可以以相同的速度(圓周速度)旋轉(zhuǎn)，以隨動于載體片材W，或者其旋轉(zhuǎn)速度可以使其圓周速度小于載體片材W的輸送速度，或者其旋轉(zhuǎn)速度也可以使其圓周速度大于載體片材W的輸送速度。關(guān)于涂桿122，可以采用帶有槽的桿、繞線桿或諸如此類。除此之外，也可以采用帶有光滑表面的光桿。
定量桿142可以在旋轉(zhuǎn)時使其圓周表面面對著載體片材W，而且其旋轉(zhuǎn)方向與載體片材W的輸送方向相反(在本發(fā)明中，以下稱作沿相反方向或反向旋轉(zhuǎn))。另外，其旋轉(zhuǎn)時可以使其圓周表面的移動方向與輸送方向相同。定量桿142的轉(zhuǎn)數(shù)沒有特別的限制，但優(yōu)選為每分鐘500轉(zhuǎn)或以下。關(guān)于定量桿142可以采用帶有槽的桿、繞線桿或諸如此類。除此之外，也可以采用帶有光滑表面的恒量桿。
涂桿122和定量桿142的直徑優(yōu)選為3mm或以上，特別優(yōu)選在6至20mm的范圍內(nèi)。
下面解釋涂覆裝置101的操作。
在桿式涂覆裝置102中，感光層形成液從供液管路經(jīng)138開始通過上游側(cè)供液路徑132供應到涂桿122的上游側(cè)。與此同時，這種涂覆液還通過下游側(cè)供液路徑134供應到涂桿122的下游側(cè)。
涂桿122將來自上游側(cè)供液路徑132的感光層形成液帶起，并將其一部分撞擊到載體片材W的下表面上，從而實現(xiàn)感光層形成液向載體片材W上的涂覆。通過被涂桿122帶起的感光層形成液向載體片材W上的撞擊作用，伴隨著載體片材W的下表面進入涂覆裝置101中的摻氣被阻斷。另一方面，感光層形成液則被連續(xù)涂覆在載體片材W上。
被涂桿122施加了感光層形成液后的載體片材W接下來將移過桿式定量裝置104。
如前所述，由于定量桿142沿著與載體片材W的輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)，因此被桿式涂覆裝置102施加的多余感光層形成液會在載體片材移過桿式定量裝置104時被定量桿142刮掉，從而可將感光層形成液調(diào)節(jié)到預定的涂覆厚度。
根據(jù)第一個實施例中的涂覆裝置101，由于伴隨著載體片材W的摻氣可以被桿式涂覆裝置102阻斷，因此即使是在載體片材W高速運行時涂覆感光層形成液，涂膜中也不會產(chǎn)生前面所述的因摻氣而引起的各種缺陷，而且這樣可以確保穩(wěn)定的涂覆操作。
此外，由于傳統(tǒng)的涂覆機可以用作桿式涂覆裝置102和桿式定量裝置104，因此涂覆裝置101可以低成本提供。第二個實施例圖2中示出了將擠出式涂覆機用作根據(jù)本發(fā)明的涂覆裝置中的非接觸式涂覆器具的實施例。在圖2中，與圖1中相同的附圖標記表示與圖1中相同的元件。
與根據(jù)第一個實施例的涂覆裝置類似，根據(jù)第二個實施例的涂覆裝置用于向載體片材上涂覆感光層形成液。
如圖2所示，根據(jù)第二個實施例的涂覆裝置102包括一個擠出式涂覆機108和一個具有定量桿142并且布置在擠出式涂覆機108下游的桿式定量裝置104。擠出式涂覆機108和桿式定量裝置104均布置在載體片材W的運行表面T的下方，并且安置在一個底座154上。
一個支持輥110相對于運行表面T設(shè)在與擠出式涂覆機108相反的一側(cè)，載體片材W局部包圍在該支持輥上。
一個壓輥106在運行表面T的上方設(shè)在支持輥110下游，用于將載體片材W壓向桿式定量裝置104的定量桿142。
在圖2中示出了沿著載體片材W的輸送方向所作的桿式定量裝置104和擠出式涂覆機108的剖視圖。
桿式定量裝置104的構(gòu)造與第一個實施例中所描述的相同。
擠出式涂覆機108包括一個主體182，其沿著代表載體片材W輸送路徑的運行表面T的寬度方向布置，并且被構(gòu)造成向上縮窄的楔形形狀。一個減壓腔184沿載體片材W的輸送方向設(shè)在主體182的緊鄰上游。減壓腔184的內(nèi)側(cè)能夠降低壓力。
主體182是這樣設(shè)置的，即在載體片材W被輸送并且局部包圍在支持輥110上時，會有一個預定尺寸的間隙形成在載體片材W與主體182的頂部之間。
一個噴液路徑186豎直形成在主體182內(nèi)側(cè)，一個沿著運行表面T的寬度方向呈狹縫狀敞開的噴液口186A形成在噴液路徑的頂部。一個用于向噴液路徑186供應感光層形成液的供液路徑188沿著主體182的縱向設(shè)在主體182的噴液路徑186的下端。
減壓腔184具有一個向著運行表面T敞開的開口部分，并且在底部連接著一個減壓管184A的一端，所述減壓管用于降低減壓腔184中的壓力。減壓管184A的另一端連接著真空泵或抽氣機(未示出)。
在減壓腔184的開口附近，毗鄰主體182設(shè)有一個槽狀多余液體容器184B，用于接收從噴液路徑186噴出但未被涂覆在載體片材W上的多余感光層形成液。此外，一個向下延伸的噴液管184C被設(shè)置得用于將多余液體容器184B所接收的多余感光層形成液引到外側(cè)。
在感光層形成液被供應到擠出式涂覆機108的供液路徑188中的情況下，感光層形成液通過噴液路徑186而從噴液口186A噴向載體片材W的噴砂處理表面，從而使感光層形成液交叉耦合在載體片材W上，也就是使涂覆液交叉耦合。在實現(xiàn)了涂覆液的交叉耦合后，感光層形成液粘著在載體片材W的表面上，同時消除了摻氣。這樣，感光層形成液可以被涂覆。
被擠出式涂覆機108涂覆了感光層形成液后的載體片材W將隨后移過桿式定量裝置104的上方。
如前所述，由于定量桿142沿著與載體片材W的輸送方向相反的方向旋轉(zhuǎn)，因此在載體片材W移過定量裝置142上方時，被桿式涂覆裝置涂覆在載體片材W上的多余感光層形成液將被定量桿142刮掉，從而將感光層形成液調(diào)節(jié)到預定的涂覆厚度。
根據(jù)第二個實施例的涂覆裝置102，感光層形成液被擠出式涂覆機108涂覆在載體片材W上，而擠出式涂覆機108不接觸載體片材W，因而載體片材W的表面不會受損。
所以，涂覆裝置102具有與第一個實施例的涂覆裝置101相同的特征。此外，它還特別優(yōu)選用在下面的情況下在通過將一種基本處理液涂覆和干燥于載體片材W的糙化表面上而完成了基本處理之后，涂覆感光層形成液或熱敏層形成液時；在載體片材W的糙化表面上形成熱敏層時；以及通過涂覆含有可光熱轉(zhuǎn)化的化合物的光熱轉(zhuǎn)化液而形成光熱轉(zhuǎn)化層時。實例I(實例11-14和對比例11-14)根據(jù)傳統(tǒng)方法在鋁片材的一側(cè)表面上進行噴砂處理，并且對噴砂表面作陽極氧化處理，從而獲得了一種載體片材W。
利用圖1所示的涂覆裝置101在載體片材W上涂覆了感光層形成液。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 150m/minc.桿式涂覆裝置102的涂覆量 50cc/m2d.桿式定量裝置104的計量量 15cc/m2e.涂桿122的直徑10mmf.定量桿142的直徑 10mmg.桿的轉(zhuǎn)數(shù) 如表1所示h.感光層形成液的粘度 30mPa·s結(jié)果顯示于表1中。
表1

在表1中，“+”表示桿的旋轉(zhuǎn)速度與載體片材W的輸送速度相同，“-”表示桿的旋轉(zhuǎn)速度與載體片材W的輸送速度相反。
從表1中所示的結(jié)果可以看出，通過在桿式涂覆裝置102的下游設(shè)置桿式定量裝置104，可以獲得好的涂覆表面質(zhì)量，而不會在涂覆表面中產(chǎn)生涂覆缺陷，即使是在載體片材W的輸送速度高達150m/min的情況下。
相反，在對比例11和14中，在沒有設(shè)置定量桿142而只使用了涂桿122的情況下，盡管在涂桿122未被驅(qū)動，即從動于載體片材W時(對比例11)，可以完成涂覆操作，而不會出現(xiàn)涂膜中斷，但會在整個寬度上產(chǎn)生等節(jié)距條紋；而在涂桿122被驅(qū)動時(對比例14)，會因摻氣層而導致液珠不穩(wěn)定，因而會局部產(chǎn)生涂膜中斷和涂覆不規(guī)則性，而且涂覆不能以穩(wěn)定的方式完成。
另一方面，在對比例12和13中未使用涂桿122而只使用了定量桿142的情況下，會因摻氣層而導致液珠不穩(wěn)定，從上述結(jié)果可以認識到，涂桿122和定量桿142均是必需的。
根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，所述涂覆裝置和涂覆方法能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的涂覆操作，而不會在涂膜中產(chǎn)生各種類型的缺陷，即使是在載體片材高速運行的條件下涂覆時。第三個實施例圖3A和3B中示出了根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置212。桿式涂覆裝置212被組合在平印版前體的生產(chǎn)線中，用于向作為平印版前體基片的鋁片材214上施加涂覆液250(感光液或類似物)。鋁片材214被未示出的輸送裝置沿其縱向以預定的輸送速度輸送。以下“輸送方向”指的是鋁片材214的輸送方向，并且在圖中(圖3A、3B、4和5)以箭頭F表示。另外，“寬度方向”指的是鋁片材214的寬度方向，并且在圖中(圖4和5)以箭頭W表示。
桿式涂覆裝置212包括具有基本相同結(jié)構(gòu)的涂覆單元231，所述涂覆單元213沿著輸送方向彼此以預定間隔相隔著布置。如后文所述，沿輸送方向位于上游的涂覆單元213A用于向鋁片材214上施加涂覆液250(初步涂覆)。另一方面，沿輸送方向位于下游的涂覆單元213B用于向鋁片材214上施加涂覆液250，或者將一部分涂覆液250去除，以調(diào)節(jié)涂覆量(計量)。
每個涂覆單元213分別包括一個涂桿216，其被安置得從下面接觸鋁片材214。沿輸送方向位于上游的涂桿216用作初步涂桿216A，沿輸送方向位于下游的涂桿216用作調(diào)節(jié)(計量)桿216B。涂桿216被成形為大致柱狀(或大致圓柱形)，并且分別被一個相應的支承件218支承著，以使涂桿216縱向與鋁片材214的寬度方向重合。
支承件218的上表面是支承面218S，它們沿著涂桿216的外圓周表面成形為圓弧形。涂桿216接觸支承面218S并且可旋轉(zhuǎn)地支承在它們上。
攔截板220和222分別布置在相應支承件218的上游側(cè)和下游側(cè)。攔截板220、222與支承件218之間分別設(shè)有預定間隙。具體地講，每個涂覆單元213中的上游側(cè)攔截板220與支承件218之間的間隙用作涂覆液供液路徑224。在上游側(cè)涂覆單元213A中，從未示出的涂覆液供應裝置供應出來的涂覆液250將流過涂覆液供液路徑224，并且通過涂桿216A的旋轉(zhuǎn)而使涂覆液250連續(xù)上升，并且被傳送到鋁片材214上。此外，在鋁片材214與涂桿216A相接觸部分的上游，涂覆液250的液珠252形成在鋁片材214、攔截板220和涂桿216A之間。與此類似，在下游側(cè)涂覆單元213B中，涂覆液250被傳送到鋁片材214上，而且一部分涂覆液250被從鋁片材214上去除(實際上是一部分粘著在鋁片材214上的涂覆液250被替換)。
兩個涂覆單元213被一個支架228保持為一體，從而總體上形成一個涂覆機230。另外，支承輥232和234分別布置在涂覆機230的上游側(cè)和下游側(cè)，以便從與涂覆機230相反的上方位置接觸鋁片材214。當支承輥232和234從上方按壓鋁片材214時，會有預定的張力施加到鋁片材214上，從而可將鋁片材214與涂桿216接觸上。
之后，通過啟動一個未示出的升降裝置，構(gòu)成涂覆機230的兩個涂覆單元213(支承件218和攔截板220、222)將整體升高。如圖3A所示，在涂覆機230未被抬升而處在降低位置時，由于涂桿216不與鋁片材214接觸，因此涂覆液250不會施加到鋁片材214上。如圖3B所示，通過抬升整體式涂覆機230，涂桿216將與鋁片材214接觸上，因而可以施加涂覆液250。此外，在保持所述接觸的情況下，通過上下略微移動涂覆機230，可以獲得理想的接觸壓力和包容角，從而可以根據(jù)所用鋁片材214和涂覆液250的類型而實施涂覆。
根據(jù)第三個實施例中的桿式涂覆裝置212，涂桿216A與調(diào)節(jié)(計量)桿216B之間的間隔(也就是上游側(cè)涂覆單元213A與下游側(cè)涂覆單元213B之間的間隔)的設(shè)置要考慮到鋁片材214的輸送速度，以使鋁片材214從接觸初步涂桿216A至接觸調(diào)節(jié)(計量)桿216B所經(jīng)歷的時間(本發(fā)明的輸送時間)為0.25秒或以下。
圖4和5中示出了用于驅(qū)動涂桿216旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置236的示意性結(jié)構(gòu)。
旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置236包含一個電機和一個減速裝置以及諸如此類的元件，并且具有一個驅(qū)動源238，用于以預定的扭矩和預定的角速度產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力。驅(qū)動源238的輸出軸240通過第一萬向節(jié)元件242而與一個軸244聯(lián)動。此外，軸244通過第二萬向節(jié)元件246而與一個切換件248聯(lián)動。切換件248可以在傳動位置與非傳動位置之間移動，在傳動位置(圖4中的實線所示位置)，切換件248與涂桿216聯(lián)動，從而可以將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力傳遞到涂桿上，在非傳動位置(圖4中的雙點劃線所示位置)，切換件248與涂桿216之間的聯(lián)動關(guān)系被斷開，因而旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力不會傳遞到涂桿上。
另外，由于驅(qū)動源238通過兩個萬向節(jié)元件242和246而與涂桿216保持聯(lián)動，因此驅(qū)動源238的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力能夠傳遞到涂桿216上，同時驅(qū)動源238的輸出軸240與涂桿216之間的夾角永遠保持恒定(在第三個實施例中為平行)。作為示例，在涂覆機230略微上下移動的情況下，或者如圖5中的雙點劃線所示，在涂覆機230下降以使涂桿216離開鋁片材214的情況下，驅(qū)動源238的輸出軸240仍保持與涂桿216平行，從而使得涂桿216仍然接收驅(qū)動源238的驅(qū)動力而旋轉(zhuǎn)。
對于第三個實施例的桿式涂覆裝置212，涂桿216可以在驅(qū)動源238的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力作用下主動旋轉(zhuǎn)，因此涂桿216可以具有一定的圓周速度，而且該圓周速度可以不同于與鋁片材214的輸送速度相對應的圓周速度(包括相同和相反方向)。
接下來描述利用第三個實施例的桿式涂覆裝置212向鋁片材214上施加涂覆液250的方法以及桿式涂覆裝置212的操作。
在向鋁片材214上施加涂覆液250時，鋁片材214被未示出的輸送裝置以恒定的輸送速度輸送。
此外，涂覆機230如圖3B所示被抬升，以使初步涂桿216A和調(diào)節(jié)(計量)桿216B均與鋁片材214相接觸，而且涂覆液250從未示出的涂覆液供應裝置供應出來。
此時，被初步涂桿216A帶起的涂覆液250將被傳送到鋁片材214上，從而在鋁片材214上形成初步涂層254。這樣可以使鋁片材214中產(chǎn)生的所謂摻氣減少(優(yōu)選被防止)。
接下來，隨著鋁片材214的輸送，構(gòu)成初步涂層254的涂覆液被調(diào)節(jié)(計量)桿216B調(diào)節(jié)(計量)。也就是說，通過去除多余的涂覆液，或者添加涂覆液以補充不足，可以提供出具有理想涂覆量的涂膜，從而將鋁片材214上的涂覆液調(diào)節(jié)(計量)到完全均勻的程度。因此，通過兩次實施涂覆步驟，也就是說，利用兩個涂桿216(初步涂桿216A和調(diào)節(jié)(計量)桿216B)依次實施充分涂覆(初步涂覆)和調(diào)節(jié)(計量)，可以在鋁片材214的寬度方向上的整個區(qū)域內(nèi)獲得均勻涂覆的表面，而且摻氣的產(chǎn)生可以減少(優(yōu)選被防止)。
具體地講，對于第三個實施例的桿式涂覆裝置212，鋁片材214從接觸初步涂桿216A至接觸調(diào)節(jié)(計量)桿216B所經(jīng)歷的時間被設(shè)置為0.25秒或以下。在輸送時間大于0.25秒的時，特別是在鋁片材214具有一定的較高表面粗糙度的情況下，在從初步涂桿216A涂覆(初步涂覆)之后直至到達調(diào)節(jié)(計量)桿216B這段時間內(nèi)，初步涂層254中有重新產(chǎn)生或形成摻氣的風險。然而，根據(jù)第三個實施例，可以防止重新產(chǎn)生或形成摻氣，即使是在鋁片材214具有一定的較高表面粗糙度的情況下，因此，可以獲得均勻涂覆的表面。
另外，對于第三個實施例的桿式涂覆裝置212，通過使切換件248在涂覆時移動到傳動位置上，如圖4中的實線所示，驅(qū)動源238的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力能夠傳遞到涂桿216上。這樣，涂桿216可以以預定的圓周速度主動旋轉(zhuǎn)，該圓周速度不同于與鋁片材214的輸送速度相對應的圓周速度。
如圖6所示，對于形成于鋁片材214、攔截板220和涂桿216之間的液珠252，在從鋁片材214與涂桿216之間的接觸部分T處看時(在圖6中以單虛線表示)，如果液珠252的邊緣部分252E沿寬度方向呈現(xiàn)為周期性曲線形狀，則基本上可以獲得好的涂覆表面質(zhì)量。特別是在邊緣部分252E具有正弦曲線形狀或接近正弦曲線的形狀時，涂覆表面的質(zhì)量可以進一步提高。
在第三個實施例中，如前所述，通過將涂桿216的圓周速度設(shè)置得不同于與鋁片材214的輸送速度相對應的圓周速度，因此，液珠252的邊緣部分252E可以具有類似正弦曲線的形狀，從而使得液珠252能夠以穩(wěn)定的方式保持。這樣，涂覆的涂覆液250中不會(因液珠擾動)產(chǎn)生涂覆條紋或類似缺陷，從而可以獲得均勻涂覆的表面。
特別地講，即使是在所用涂覆液250具有高粘度的情況下，或者是在鋁片材214的輸送速度升高的情況下，由于可以使液珠252的邊緣部分252E的形狀具有類似正弦曲線的形狀，因而液珠252可以以穩(wěn)定的方式保持，所以，涂覆表面質(zhì)量可以保持均勻。出于這種原因，涂桿216優(yōu)選具有這樣的旋轉(zhuǎn)速度，即其圓周速度不同于與鋁片材214的輸送速度相對應的圓周速度(包括正向和反向旋轉(zhuǎn))。
當然，根據(jù)包括鋁片材214的輸送速度、涂覆液250的粘度在內(nèi)的操作條件，在某些情況下以類似于傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的方式利用涂桿216與鋁片材214間的摩擦力帶動(驅(qū)動)涂桿216旋轉(zhuǎn)更為有益。在這種情況下，僅僅通過將切換件248移動到非傳動位置，如圖5中的雙點劃線所示，就可以容易地阻止驅(qū)動源238的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力傳遞到涂桿216上。
此外，對于在旋轉(zhuǎn)時圓周速度不同于與鋁片材214的輸送速度相對應的圓周速度的涂桿216，其可以是初步涂桿216A和調(diào)節(jié)(計量)桿216B中的一個或兩個。這可以根據(jù)包括鋁片材214的輸送速度、涂覆液250的粘度在內(nèi)的操作條件而確定。
作為本發(fā)明的涂桿216，可以使用下面的元件具有平滑外周表面的桿；繞線桿，其中絲線沿圓周方向緊密貼合并纏繞在桿的外周表面上，相鄰絲線之間形成了槽；帶槽桿，其中在桿跨度的全長上或所需部分上沿圓周方向在桿的外周表面上刻出了槽；以及類似的元件?？紤]到桿的滾動精度(直線度和圓度)、旋轉(zhuǎn)力矩、重量平衡以及諸如此類的因素，優(yōu)選使涂桿216的外徑位于1至30mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選位于3至25mm的范圍內(nèi)，最優(yōu)選位于6至15mm的范圍內(nèi)?？紤]到耐腐蝕性和強度方面的問題，金屬是制作涂桿216的優(yōu)選材料，而且不銹鋼特別適合采用。
在使用繞線桿的情況下，適宜的絲線直徑為0.07至1.0mm，優(yōu)選為0.07至0.6mm。金屬可以用作絲線材料，考慮到耐腐蝕性、耐磨性、強度或諸如此類的問題，不銹鋼最優(yōu)選采用。為了進一步提高繞線桿的耐磨性，可以在其表面上施加鍍層。特別是硬鉻鍍層適于采用。在使用繞線桿的情況下，可以根據(jù)絲線尺寸(直徑)而調(diào)節(jié)每個涂覆單元213A和213B的涂覆量。
另外，在帶槽桿用于本發(fā)明中的情況下，槽的間距可以設(shè)為0.05至1.0mm，優(yōu)選為0.1至0.6mm。對于槽的橫斷面形狀，適于采用接近正弦曲線或梯形的形狀。然而，本發(fā)明并不局限于這些橫斷面形狀，其他橫斷面形狀也可以采用。為了進一步提高帶槽桿的耐磨性，可以在其表面上施加鍍層。特別是硬鉻鍍層適于采用。在使用帶槽桿的情況下，可以根據(jù)槽的尺寸(寬度和深度)而調(diào)節(jié)每個涂覆單元213A和213B的涂覆量。
不論涂桿216采用哪種結(jié)構(gòu)，鋁片材214在移過下游側(cè)涂覆單元213B之后的涂覆量即為平印版前體的最終制品質(zhì)量所需的預期涂覆量。因此，在大多數(shù)情況下，下游側(cè)涂覆單元213B中的涂桿216(調(diào)節(jié)(計量)桿)的涂覆量通常為3至100ml/m2。
鋁片材214(涂覆對象)在每個涂桿216上的包容角沒有特別的限制，只要涂覆液能夠確實涂覆(初步涂覆或調(diào)節(jié)(計量))在鋁片材214上即可，但該角度優(yōu)選在1至30°的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在2至20°的范圍內(nèi)。通過調(diào)節(jié)涂覆機230的豎直位置(抬升量)，可以將包容角設(shè)置在理想值。
支承件218沒有特別的限制，只要其能夠確實地支承涂桿216即可。然而，考慮到涂桿216高速旋轉(zhuǎn)的情況，優(yōu)選使支承件218與涂桿216之間(在繞線桿的情況下為與絲線之間)具有低摩擦系數(shù)，以使涂桿216光滑地旋轉(zhuǎn)。此外，希望支承件218具有高耐磨性。作為能夠滿足這些條件的材料，可以采用氟樹脂、聚醛樹脂、聚乙烯樹脂或類似材料。在這些例子中，名叫特氟隆(美國杜邦公司的產(chǎn)品名)的聚四氟乙烯、名叫縮醛樹脂(美國杜邦公司的產(chǎn)品名)的聚醛樹脂因摩擦系數(shù)和強度(耐磨性)滿足要求而特別希望采用。此外，也可以采用通過向這些塑料材料中添加填料例如玻璃纖維、石墨和二硫化鉬而獲得的材料。另外，在利用金屬材料制作支承件218時，可以通過在其表面上涂覆或附著前述塑料材料而降低支承件與涂桿216之間的磨擦系數(shù)。浸漬了前述塑料材料的各種金屬材料(例如浸漬了聚四氟乙烯的鋁)也可以用于制作支承件218。
此外，諸如鋁(前述鋁片材214)等金屬、紙、塑料薄膜、帶樹脂涂層的紙、合成紙或類似物可以作為被桿式涂覆裝置212施加涂覆液250的涂覆對象(載體)。在鋁板被用作平印版前體載體的情況下，可以采用日本工業(yè)標準(JIS)中規(guī)定的鋁材JIS1050、JIS 1100和JIS 1070，或者可以采用例如鋁鎂基合金、鋁錳基合金、鋁錳鎂基合金、鋁鋯基合金、鋁鎂硅合金或類似材料。在這種情況下，要單獨或組合實施機械糙化處理、化學蝕刻處理、電解糙化處理、陽極氧化處理或諸如此類的處理。在載體材料是塑料薄膜時，可以采用諸如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴，諸如聚乙酸乙烯酯、聚苯乙烯等乙烯基聚合物，諸如6，6-尼龍、6-尼龍等聚酰胺，諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯、2，6萘二甲酸二甲酯等聚脂，諸如聚碳酸酯、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等乙酸纖維素，或是諸如此類的材料。另外，作為帶樹脂涂層的紙中所用的樹脂，代表性的例子是聚烯烴，包括聚乙烯。然而，樹脂材料并不局限于此。
鋁片材214的厚度沒有特別的限制，但考慮到操作性和通用性，鋁片材214采用大約0.01mm至1.0mm的厚度較為有益。
涂覆對象的表面粗糙度沒有特別的限制，然而，在表面粗糙度太大時，特別是在液珠252不穩(wěn)定時，大多數(shù)情況下難以獲得均勻涂覆的表面。作為示例，在涂覆對象的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.20μm或以上的情況下，利用第三個實施例的桿式涂覆裝置212施加涂覆液250，可以或得更為均勻涂覆的表面。
此外，涂覆液250并不局限于前面所述的感光液。作為示例，也可以采用聚合物的水溶液或有機溶劑溶液、顏料稀釋液、膠體溶液以及類似的溶液。作為用于形成平印版前體感光層的涂覆液250，可以是能夠形成下列感光層(1)至(11)的感光液(1)一種感光層，其含有一種紅外線吸收劑、一種受熱時產(chǎn)生酸的化合物和一種通過酸而發(fā)生交聯(lián)反應的化合物；(2)一種感光層，其含有一種紅外線吸收劑和一種受熱時可溶于堿的化合物。
(3)一種感光層，其由兩層構(gòu)成第一層中含有一種用于在被激光照射時產(chǎn)生射線的化合物、一種可溶于堿的粘合劑和一種多官能單體或預聚物，第二層是一個隔氧層；(4)一種感光層，其由兩層構(gòu)成一個物理顯影中心層和一個鹵化銀乳劑層。
(5)一種感光層，其由三層構(gòu)成一個含有多官能單體和多官能粘合劑的聚合物層、一個含有鹵化銀和還原劑的層和一個隔氧層。
(6)一種感光層，其由兩層構(gòu)成一個含有酚醛清漆樹脂和偶氮化萘醌(naphthoquinone diazide)的層和一個含有鹵化銀的層。
(7)一種感光層，其含有一種有機光導體。
(8)一種感光層，其由兩層或三層構(gòu)成一個可以通過激光照射而被去除的激光吸收層、一個親脂層和/或一個親水層。
(9)一種感光層，其含有一種用于吸收能量而產(chǎn)生酸的化合物；一種高分子化合物，其在支鏈中具有一個官能團，用于在酸的作用下產(chǎn)生磺酸或羧酸；以及一種用于吸收可見光以向上述酸產(chǎn)生劑提供能量的化合物。
(10)一種感光層，其含有偶氮化醌(quinone diazide)的化合物和酚醛清漆樹脂。
(11)一種感光層，其含有一種化合物，其在受到光線或紫外線照射時能夠分解，并在自身中形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)(或者其分子與感光層中其他分子形成交聯(lián)結(jié)構(gòu))；以及一種能夠溶于堿的粘合劑。
另外，在這些涂覆液中，雖然摻氣容易產(chǎn)生在含有有機溶劑的涂覆液中，但利用根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的桿式涂覆裝置212向鋁片材214上施加涂覆液，可以進一步確實防止摻氣的產(chǎn)生。
涂覆液250的粘度沒有特別的限制，但優(yōu)選為100mPa·s或以下，更優(yōu)選為50mPa·s或以下。
桿式涂覆裝置212附近的溫度(特別是從初步涂桿216A至調(diào)節(jié)(計量)桿216B之間的區(qū)域中的溫度)沒有特別的限制，但在這一區(qū)域的溫度超過30℃時，在初步涂層254中重新產(chǎn)生或形成摻氣的風險會增大。因此，優(yōu)選使從初步涂桿216A至調(diào)節(jié)(計量)桿216B之間的區(qū)域中的溫度為30℃或以下。
盡管在前面的解釋中描述了桿式涂覆裝置212用于在平印版前體生產(chǎn)線中向鋁片材214(載體)施加感光液的情況，但本發(fā)明的桿式涂覆裝置212并不局限于這種用途。
下面參照一個實例進一步描述本發(fā)明的第三個實施例，然而本發(fā)明并不局限于此。實例II在本實例中，涂覆液250通過本發(fā)明的桿式涂覆裝置212涂覆在鋁片材214上。
首先，在帶狀鋁板的表面上實施機械糙化處理、化學蝕刻處理、電解糙化處理和陽極氧化處理，以獲得算術(shù)平均粗糙度Ra為0.20μm的基片(鋁片材214)和算術(shù)平均粗糙度Ra為0.26μm的基片(鋁片材214)。鋁片材214被桿式涂覆裝置212施加涂覆液250，它們的涂覆表面質(zhì)量被評估，而且涂覆表面的狀態(tài)被觀測。
涂覆條件如下所述。
a.鋁片材的寬度 500mmb.鋁片材的厚度 0.3mmc.輸送速度 150m/min
d.涂覆量初步涂桿 0.051/m2調(diào)節(jié)(計量)桿 0.0151/m2e.涂桿直徑 10mm(二者均是)f.涂桿轉(zhuǎn)數(shù)初步涂桿與鋁片材的速度和方向相同(從動旋轉(zhuǎn))調(diào)節(jié)(計量)桿-50/min(反轉(zhuǎn))g.涂覆液的粘度 20mPa·s一般而言，平印版前體制造過程中的鋁片材214輸送速度在大多數(shù)情況下設(shè)置在50m/min或以下。因此，作為平印版前體制造過程中的鋁片材214輸送速度，前述輸送速度(150m/min)是相對較高的速度。
在上述條件下，在上游側(cè)涂覆單元213A與下游側(cè)涂覆單元213B之間的間隔設(shè)置彼此不同，而且鋁片材214從接觸初步涂桿216A至接觸調(diào)節(jié)(計量)桿216B所經(jīng)歷的時間(本發(fā)明的輸送時間)發(fā)生變化的情況下，涂覆液被涂覆在鋁片材214上，以獲得平印版前體。
評估和觀測的結(jié)果顯示于表2中。由于在算術(shù)平均粗糙度為0.20μm和算術(shù)平均粗糙度為0.26μm的鋁片材214之間沒有觀察到顯著不同，因此表2中只示出了算術(shù)平均粗糙度為0.26μm的鋁片材214涂覆時的情況。
表2

在表2的評估結(jié)果中，“○”表示不會產(chǎn)生問題或缺陷的良好結(jié)果；“△”表示結(jié)果比“○”稍差，但根據(jù)平印版前體的某些種類、用途或類似因素，尚未達到在實際使用中造成問題和缺陷的程度，因此“△”表示足以滿足使用要求的結(jié)果；“×”表示有造成問題和缺陷的風險。
從表中可以看出，在輸送時間為0.20秒或以下的情況下(實例21和22)，可以獲得好的涂覆表面質(zhì)量。另外，在輸送時間為0.25秒的情況下(實例23)，盡管涂覆表面質(zhì)量劣于實例21和22，但根據(jù)平印版前體的某些種類或用途，結(jié)果尚未達到造成問題的程度。
相反，在輸送時間為0.28秒的情況下(對比例)，不能形成涂膜，因而沒有獲得均勻的涂覆表面質(zhì)量。
在本發(fā)明的上述實施例中，可以獲得均勻的涂覆表面質(zhì)量，即使是在具有較高表面粗糙度的涂覆對象的輸送速度提高了的情況下。
下面再一次參照圖3A和3B繼續(xù)描述第三個實施例。
在第三個實施例的桿式涂覆裝置212中，涂覆量W1、W2的設(shè)置應滿足下面的關(guān)系0.8≤W1/W2≤4.0 (1)其中載體片材(鋁片材214)沿輸送方向移過上游側(cè)涂覆單元213A之后其上涂覆液250的涂覆量為W1，載體片材(鋁片材214)沿輸送方向移過下游側(cè)涂覆單元213B之后其上涂覆液250的涂覆量為W2。
具體地講，根據(jù)第三個實施例中的桿式涂覆裝置212，如前面的方程(1)所示，載體片材(鋁片材214)沿輸送方向移過上游側(cè)涂覆單元213A之后其上涂覆液250的涂覆量W1與載體片材(鋁片材214)沿輸送方向移過下游側(cè)涂覆單元213B之后其上涂覆液250的涂覆量W2之間的比率(涂覆量比率)W1/W2被設(shè)置為0.8或以上和4.0或以下。在涂覆量比率小于0.8的情況下，由于在上游側(cè)涂覆單元213A中的涂覆量相對較小，特別是在鋁片材214被高速輸送的情況下，不能確保消除鋁片材214上的摻氣，從而會產(chǎn)生所謂的液體稀薄(涂覆液250的涂覆量局部短缺)，因此即使是在鋁片材214移過了下游側(cè)涂覆單元213B之后，也不容易形成均勻的涂膜。另一方面，在涂覆量比率大于4.0的情況下，由于在上游側(cè)涂覆單元213A中的涂覆量相對較大，因此鋁片材214上的初步涂層254不穩(wěn)定，特別是在剛要到達下游側(cè)涂覆單元213B之前(進入側(cè))，液珠會變得很大。由于初步涂層254不穩(wěn)定，因此在鋁片材214移過下游側(cè)涂覆單元213B后，容易形成涂覆條紋或類似缺陷。根據(jù)第三個實施例，通過將涂覆量比率(W1/W2)設(shè)置為0.8或以上和4.0或以下，即使是在鋁片材214高速輸送的狀態(tài)下施加涂覆液250，也可以防止產(chǎn)生這些缺陷，并且可以獲得均勻涂覆的表面。
對于每個涂覆單元213A和213B中的涂覆量而言，在涂覆量比率為0.8或以上和1.0以下的情況下，除了由上游側(cè)涂覆單元213A形成在鋁片材214上的初步涂層254以外，下游側(cè)涂覆單元213B還將進一步施加涂覆液。此外，在涂覆量比率為1.0的情況下，下游側(cè)涂覆單元213B不會在向初步涂層254添加涂覆液250，也不會從初步涂層去除涂覆液。在涂覆量比率為1.0以上和4.0或以下的情況下，形成在初步涂層254中的一部分涂覆液將被下游側(cè)涂覆單元213B去除。然而，實際上在任何情況下，形成在初步涂層254中的涂覆液均會被下游側(cè)涂覆單元213B去除一部份，并被附加涂覆上涂覆液250。因此，涂覆液實際上實現(xiàn)了部分替換。
下面參照一個實例進一步詳細解釋桿式涂覆裝置212的涂覆量比率。本例中主要考慮的是涂覆液沿輸送方向被上游側(cè)涂覆單元213A涂覆的量和沿輸送方向被下游側(cè)涂覆單元213B涂覆的量，如前面的定義和描述。然而本發(fā)明的實施例并不局限于此。實例III在本實例中，涂覆液250通過本發(fā)明的桿式涂覆裝置212涂覆在鋁片材214上。
首先，在帶狀鋁板的表面上實施機械糙化處理、化學蝕刻處理、電解糙化處理和陽極氧化處理，以獲得算術(shù)平均粗糙度Ra為0.48μm的基片(鋁片材214)。鋁片材214被桿式涂覆裝置212施加涂覆液250，其涂覆表面質(zhì)量被評估，而且涂覆表面的狀態(tài)被觀測。
涂覆條件如下所述。
a.鋁片材的寬度500mmb.鋁片材的厚度0.3mmc.輸送速度150m/mind.涂覆量 0.021/m2e.涂桿直徑10mm(二者均是)f.涂桿轉(zhuǎn)數(shù)初步涂桿與鋁片材的速度和方向相同(從動旋轉(zhuǎn))調(diào)節(jié)(計量)桿-50/min(反轉(zhuǎn))g.涂覆液的粘度30mPa·s和40mPa·s在上述條件下，通過保持下游側(cè)涂覆單元213B的涂覆量W2恒定(15.0ml/m2)，并且改變上游側(cè)涂覆單元213A的涂覆量W1，以使涂覆量比率(W1/W2)發(fā)生變化，在這種情況下，涂覆液被涂覆在鋁片材214上，以獲得平印版前體。在本發(fā)明的上述實施例中，涂覆量比率(W1/W2)位于特定范圍內(nèi)，因此每個涂覆量W1、W2沒有特別的限制，只要它們滿足所述條件即可。作為示例，在涂覆了鋁片材214之后，將鋁片材214切割成預定的尺寸并且干燥，以測量其重量(根據(jù)不同情況，要考慮在干燥過程中蒸發(fā)了的液體量)，并且與具有相同尺寸但不帶涂覆液250的鋁片材進行比較，就可以精確測量出實際涂覆量。
另外，由于本發(fā)明是這樣實施的，即在上游側(cè)涂覆單元213A中進行涂覆(初步涂覆)之后，繼續(xù)在下游側(cè)涂覆單元213B中進行涂覆(計量)，因此難以精確地測量涂覆量W1。所以，在實例和對比例中，通過預先僅在上游側(cè)涂覆單元213A中實施涂覆(初步涂覆)，而未在下游側(cè)涂覆單元213B中實施涂覆(計量)，憑此預先獲得了涂桿216的形狀或類似參數(shù)與涂覆量W1之間的關(guān)系。
評估和觀測的結(jié)果顯示于表3中。
表3

在表3的評估結(jié)果中，“◎”表示不會產(chǎn)生問題或缺陷的良好結(jié)果；“○”表示結(jié)果比“◎”稍差，但尚未達到在實際使用中造成問題和缺陷的程度；“△”表示結(jié)果比“○”更差，從而對于平印版前體的某些種類、用途或類似因素而言，會造成問題和缺陷；“×”表示有造成問題和缺陷的風險。
從表3中可以看出，在涂覆量比率(W1/W2)小于0.80的情況下(對比例31和32)，涂覆液250可能涂覆不到鋁片材214上，因此涂覆表面質(zhì)量也很差。
另外，在涂覆量比率(W1/W2)大于4.0的情況下(對比例33)，會產(chǎn)生涂覆條紋，因此涂覆表面質(zhì)量也很差。
相反，在涂覆量比率(W1/W2)在1.0至2.75之間的情況下(實例32)，不論涂覆液的粘度為30mPa·s還是40mPa·s，涂覆表面質(zhì)量均是好的。此外，在涂覆量比率(W1/W2)在0.8至0.87之間的情況下(實例31)，或者在3.0至4.0之間的情況下(實例33)，如果涂覆液的粘度為40mPa·s，則涂覆表面質(zhì)量比實例32略差，但尚未達到在實際使用中造成問題和缺陷的程度。
在本發(fā)明的上述實施例中，即使是在涂覆對象的輸送速度設(shè)置得較高的情況下，也能夠獲得均勻的表面質(zhì)量。第四個實施例圖7中示出了根據(jù)本發(fā)明第四個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)。
根據(jù)第四個實施例的涂覆裝置100是這樣一種涂覆裝置，其用于向作為本發(fā)明的帶狀件實施例的載體片材W上涂覆作為本發(fā)明的涂覆液實施例的制版層形成液。
如圖7所示，根據(jù)第四個實施例的涂覆裝置100包括一個涂覆段2，其用于將制版層形成液粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上；以及一個涂層調(diào)節(jié)段4，其相對于圖7中的箭頭a所示的載體片材W輸送方向布置在涂覆段2的下游，用于將涂覆段2粘著的制版層形成液調(diào)節(jié)到預定的厚度。
涂覆段2和涂層調(diào)節(jié)段4均固定在箱形底座6的下表面上，該底座的上表面是敞開的。
底座6在其下方被一個升降裝置8以可升降的方式支承著。在需要向載體片材W上涂覆制版層形成液時，底座6被升降裝置8抬高，而在未實施涂覆操作時，底座6被升降裝置8降低。
用于沿輸送方向a輸送載體片材W的輸送輥32和34設(shè)在涂覆裝置100的上方，以將運行表面T夾在所述輸送輥與涂覆裝置之間。輸送輥32布置在涂覆段2的上游，輸送輥34布置在涂層調(diào)節(jié)段4的下游。
如圖7所示，涂覆段2包括第一涂桿22，其布置在作為載體片材W運行路徑的運行表面T的下方，并且相對于輸送方向a垂直布置在水平面上；一個支承件24，其為板狀件，在其頂表面上形成了V形橫斷面的第一涂桿支承槽24A，以使第一涂桿支承槽24A從下面支承著第一涂桿22；以及一個攔截件26，其平行于第一涂桿22設(shè)置，從而面對著第一涂桿22和支承件24，并且相對于輸送方向a布置在支承件24和第一涂桿22的上游。
作為第一涂桿22，可以采用前述光桿、帶槽桿和繞線桿中的任何一種。第一涂桿22上的面對著載體片材W的圓周表面沿著與輸送方向a相同的方向旋轉(zhuǎn)，換言之，正向旋轉(zhuǎn)。第一涂桿22的圓周速度優(yōu)選為載體片材W輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。在第一涂桿22以等于載體片材W輸送速度的圓周速度旋轉(zhuǎn)的情況下，其可以借助于與載體片材W的噴砂處理表面Sg之間的直接接觸而被帶動，或者借助于通過在噴砂處理表面Sg上涂覆制版層形成液而在噴砂處理表面Sg上形成的涂層而被帶動。另一方面，在以低于輸送速度的圓周速度旋轉(zhuǎn)的情況下，優(yōu)選利用適宜的驅(qū)動裝置例如電機以預定的轉(zhuǎn)數(shù)強制第一涂桿22旋轉(zhuǎn)。在這種情況下，希望利用適宜的連接裝置例如離合器將驅(qū)動裝置與第一涂桿22相連，以便在需要時切斷所述連接。
下面解釋第一涂桿22、支承件24和攔截件26之間的相對位置關(guān)系。
攔截件26是豎直設(shè)置的壁狀件，而且它是這樣布置的，即它的面對著第一涂桿22的表面與第一涂桿22的外周表面之間的距離d位于3至30mm的范圍內(nèi)。
一個豎直表面26A形成在攔截件26上的與第一涂桿22相面對著的一側(cè)上緣部分上。一個向著上游側(cè)降低的傾斜表面26B形成在攔截件26上的與所述豎直表面相反的一側(cè)上。
在涂覆制版層形成液時，第一涂桿22的圓周速度為載體片材W輸送速度的1/15或以上，優(yōu)選在1/15至3/4的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在1/10至1/2的范圍內(nèi)。
如圖7所示，一個涂覆液路徑20設(shè)在支承件24與攔截件26之間，用于向從上方經(jīng)過的載體片材W噴射制版層形成液。
布置在載體片材W的運行表面T下方的涂層調(diào)節(jié)段4沿著與載體片材W的輸送方向a大致正交的方向水平設(shè)置。涂層調(diào)節(jié)段4包括第二涂桿42，在旋轉(zhuǎn)時，其上的面對著載體片材W的圓周表面沿著與輸送方向a相同或相反的方向轉(zhuǎn)動；一個支承件44，其為板狀件，在其頂表面上形成了V形橫斷面的第二涂桿支承槽44A，以使第二涂桿支承槽44A從下面支承著第二涂桿42；一個上游側(cè)攔截板46，其平行于第二涂桿42設(shè)置，從而面對著第二涂桿42和支承件44，并且相對于輸送方向a布置在支承件44和第二涂桿42的上游；以及一個下游側(cè)攔截板48，其平行于第二涂桿42設(shè)置，從而面對著第二涂桿42和支承件44，并且相對于支承件44布置在上游側(cè)攔截板46的相反側(cè)。
作為第二涂桿42，與第一涂桿22的情況一樣，可以采用光桿、帶槽桿、繞線桿或類似物中的任何一種。
第二涂桿42可以正向旋轉(zhuǎn)，或者沿著載體片材W輸送方向a的相反方向(反向)旋轉(zhuǎn)。然而，考慮到需要在接合部經(jīng)過涂層調(diào)節(jié)段4時防止因接合部而引起涂覆缺陷，因此第二涂桿42優(yōu)選正向旋轉(zhuǎn)。
上游側(cè)攔截板46和下游側(cè)攔截板48的上端部均向著第二涂桿2彎折。
上游側(cè)涂覆液路徑50中儲存的涂覆液會在上游側(cè)攔截板46、第二涂桿42和支承件44之間形成上游液珠，用以防止第二涂桿42干燥。與此類似，下游側(cè)涂覆液路徑52會在下游側(cè)攔截板48、第二涂桿42和支承件44之間形成下游液珠。制版層形成液是這樣供應到上游液珠和下游液珠的，即能夠?qū)⒅瓢鎸有纬梢旱囊何槐３衷诤愣ǖ母叨?。為了將制版層形成液的液位保持在恒定高度，可以使制版層形成液溢流通過上游側(cè)攔截板46和下游側(cè)攔截板48的頂部。
在底座6的底表面上布置著下列元件第一供液管6A，其用于向涂覆液路徑20供應制版層形成液；第二供液管6B，其用于向上游側(cè)涂覆液路徑50供應制版層形成液；以及第三供液管6C，其用于向下游側(cè)涂覆液路徑52供應制版層形成液。此外，在底座6的底表面上還布置著下列元件第一排液管6E，其用于收集在涂覆段2中溢流通過攔截件26并且在底座6的上游側(cè)壁與攔截件26之間向下流動的制版層形成液；第二排液管6D，其用于收集在攔截件26與上游側(cè)攔截板46之間向下流動的制版層形成液；以及第三排液管6F，其用于收集溢流通過下游側(cè)攔截板48并且在底座6的下游側(cè)壁與下游側(cè)攔截板48之間向下流動的制版層形成液。
下面解釋涂覆裝置100的操作。
載體片材W沿著箭頭a的方向被輸送輥32和34輸送，而且其噴砂處理表面Sg面向下方。
從第一供液管6A向涂覆液路徑20供應的制版層形成液在涂覆液路徑20的頂部處被第一涂桿22向上帶動，從而粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。在此，由于第一涂桿22正向旋轉(zhuǎn)，其圓周速度為載體片材W輸送速度的1/15或以上，因此制版層形成液可以被第一涂桿22充分地向上帶動。這樣，即使是在載體片材W高速運行的情況下，制版層形成液也可以均勻地粘著。
在涂覆段2中粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上的制版層形成液接下來將在涂層調(diào)節(jié)段4中被第二涂桿42調(diào)節(jié)到預定厚度。
在涂層調(diào)節(jié)段4中，通過從第二供液管6B和第三供液管6C向上游側(cè)涂覆液路徑50和下游側(cè)涂覆液路徑52補充制版層形成液，以使制版層形成液經(jīng)上游側(cè)攔截板46向上側(cè)溢流，或者經(jīng)下游側(cè)攔截板48向下側(cè)溢流，可以將上游側(cè)涂覆液路徑50的上游液珠中的制版層形成液液位高度和下游側(cè)涂覆液路徑52的下游液珠中的制版層形成液液位高度保持恒定。這樣，由于第二涂桿42的表面總是保持在潤濕狀態(tài)，因此可以防止固體成分產(chǎn)生并粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。
如前所述，在根據(jù)第四個實施例的涂覆裝置中，即使是在載體片材W的輸送速度較高的情況下，制版層形成液也能夠均勻地涂覆，此外，可以防止液體粘著在載體片材背側(cè)。因此，制版層形成液可以高效形成在平印版前體上。實例IV(實例41至45，對比例41至43)在鋁片材上根據(jù)普通方法對其一側(cè)表面實施噴砂處理，然后對噴砂處理表面實施陽極氧化處理，從而獲得了載體片材W。
作為制版層形成液實例的感光層形成液利用圖7所示的涂覆裝置100涂覆在載體片材W上。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 150m/min
c.感光層形成液的粘著量50cc/min(涂覆段2)15cc/min(涂層調(diào)節(jié)段4)d.涂桿直徑10mm(第一涂桿22和第二涂桿42均是)e.第一涂桿22的轉(zhuǎn)速(圓周速度)如表4所示f.第二涂桿42的轉(zhuǎn)速(圓周速度)16m/min(正轉(zhuǎn))g.感光層形成液的粘度30mPa·s用于表示制版層形成液是否能夠穩(wěn)定地涂覆在載體片材W的噴砂處理表面Sg上的“涂覆性能”和用于表示通過涂覆制版層形成液而在噴砂處理表面Sg上形成的涂覆表面的表面質(zhì)量優(yōu)劣的“涂覆表面質(zhì)量”通過視覺觀測而被評定為四個等級“◎”、“○”、“△”、“×”。結(jié)果顯示于表4中。
表4

在表4的“桿旋轉(zhuǎn)方向、轉(zhuǎn)速”列中，“+”表示第一涂桿或第二涂桿正向旋轉(zhuǎn)，“-”表示第一涂桿或第二涂桿反向旋轉(zhuǎn)。另外，在該列的“第一涂桿”列中，括號內(nèi)的數(shù)字表示第一涂桿的圓周速度與載體片材W輸送速度之間的比率。
如表4所示，在對比例1中，第一涂桿的圓周速度小于載體片材W輸送速度的1/15，此時會有未涂覆部分形成在噴砂處理表面Sg上，因此制版層形成液不能穩(wěn)定地涂覆。
相反，在實例41至44中，第一涂桿的圓周速度從至少為載體片材W輸送速度的1/15至等于載體片材W輸送速度，可以看到，制版層形成液能夠以穩(wěn)定的方式涂覆，盡管在某些情況下會沿縱向形成液珠條紋，即涂薄部分。
根據(jù)本發(fā)明的這一實施例，可以提供出能夠在高速運行的帶狀件上均勻地涂覆上涂覆液的涂覆裝置和涂覆方法。第五個實施例下面再次參照圖7描述本發(fā)明的第五個實施例。
根據(jù)第五個實施例的涂覆裝置100不需對第四個實施例中的涂覆裝置作出改動即可用于向一側(cè)被噴砂處理過的帶狀薄鋁板載體片材W上涂覆作為本發(fā)明的涂覆液實施例的制版層形成液。因此，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，前面對第四個實施例中的涂覆裝置100中安裝的各個元件所作描述也同樣可以用在第五個實施例中。
如圖8所示，在根據(jù)第五個實施例的涂覆裝置100中，攔截件26的頂表面相對于底座6的底表面的高度h高于第一涂桿22的表面最低點相對于底座6的底表面的高度H1但低于高度H3，所述高度H3比第一涂桿22的表面最高點相對于底座6的底表面的高度H2低1mm。如圖8所示，換言之，第一涂桿22的表面最低點高度H1可以認為是從下面接觸第一涂桿22表面的水平面P1的高度。另外，第一涂桿22的表面最高點的高度H2可以認為是從上面接觸第一涂桿22表面的水平面P2的高度。
一個豎直表面26A形成在攔截件26的上端部的面對著第一涂桿22的一側(cè)表面上。另一方面，一個向著上游側(cè)下斜的傾斜表面26B形成在攔截件26的上端部的與前述一側(cè)相反的側(cè)面上。
如圖7和8所示，用于向從上方經(jīng)過的載體片材W噴射制版層形成液的涂覆液路徑28設(shè)在支承件24與攔截件26之間。
涂層調(diào)節(jié)段4的第二涂桿42的旋轉(zhuǎn)方向可以是與載體片材W輸送方向相同的方向(正向)，或者是相反方向(反向)。另外，圓周速度可以根據(jù)制版層形成液的預期涂覆厚度而設(shè)置，然而，在第二涂桿42的旋轉(zhuǎn)方向是與載體片材W輸送方向相同的方向時，第二涂桿42的圓周速度優(yōu)選低于第一涂桿22的圓周速度。
下面解釋涂覆裝置100的操作。
載體片材W沿著箭頭a的方向被輸送輥32和34輸送，而且其噴砂處理表面Sg面向下方。
從第一供液管6A向涂覆液路徑20供應的制版層形成液在涂覆液路徑20的頂部處被第一涂桿22帶起，從而粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。在此，攔截件26的高度高于第一涂桿22的表面最低點，并且比第一涂桿22的表面最高點低1mm或以上。
如圖9所示，由于涂覆液路徑20中的制版層形成液的液位高度等于或略高于攔截件26的高度，因此液位高度高于第一涂桿22的最低點，并低于第一涂桿22的最高點。所以，在涂覆制版層形成液時，第一涂桿22的一部分部面總是被制版層形成液包圍著。這樣，由于制版層形成液可以被第一涂桿22充足地向上帶起，因此制版層形成液能夠均勻地粘著，即使是在載體片材W的輸送速度提高了的情況下。
另一方面，由于第一涂桿22不是完全浸沒在制版層形成液中，因此可以防止因連續(xù)供應制版層形成液而導致制版層形成液移動到載體片材W的背側(cè)上并粘著于此。
如前所述，根據(jù)第五個實施例中的涂覆裝置，制版層形成液能夠均勻地涂覆，即使是在載體片材W的輸送速度較高的情況下，此外，可以防止液體意外粘著到載體片材背側(cè)，因此制版層形成液可以高效形成在平印版前體上。實例V(實例51、52，對比例51至54)在鋁片材上根據(jù)普通方法對其一側(cè)表面實施噴砂處理，然后對噴砂處理表面實施陽極氧化處理，從而獲得了載體片材W。
作為制版層形成液實例的感光層形成液利用圖7所示的涂覆裝置100涂覆在載體片材W上。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 150m/minc.感光層形成液的粘著量50cc/min(涂覆段2)15cc/min(涂層調(diào)節(jié)段4)d.涂桿直徑10mm(第一涂桿22和第二涂桿42均是)e.第一涂桿22的轉(zhuǎn)速(圓周速度)130m/min(正轉(zhuǎn))f.第二涂桿42的轉(zhuǎn)速(圓周速度)16m/min(正轉(zhuǎn))g.感光層形成液的粘度 20mPa·sh.在被第二涂桿42計量后感光層形成液的涂覆量結(jié)果顯示于表5中。
表5

如表5中所示，在涂覆段2中的攔截件26高于第一涂桿22的最低點并且比第一涂桿22的最高點低1mm或以上的情況下，感光層形成液可以均勻地涂覆，即使載體片材W的輸送速度高達150m/min。
另一方面，在攔截件26低于第一涂桿22的最低點時，會產(chǎn)生未涂覆部分，而在攔截件26比位于第一涂桿22最高點下方1mm處的位置更高的情況下，會導致液體粘著在載體片材背側(cè)。
根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，可以提供出這樣的涂覆裝置和涂覆方法，其能夠獲得均勻涂覆的表面，即使是在基片的輸送速度提高了的情況下。第六個實施例圖10中示出了根據(jù)本發(fā)明第六個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)。
根據(jù)第六個實施例的涂覆裝置100不需對第四個實施例中的涂覆裝置作出改動即可用于向一側(cè)被噴砂處理過的帶狀薄鋁板載體片材W上涂覆作為本發(fā)明的涂覆液實施例的制版層形成液。
如圖10所示，根據(jù)第六個實施例的涂覆裝置100在很多方面與第四和第五個實施例具有相同的構(gòu)造。因此，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，前面對第四和第五個實施例所作的描述也可以在這里用在與第四和第五個實施例中相同的構(gòu)造中。
如圖10所示，涂覆段2包括第一涂桿22，其布置在作為載體片材W運行路徑的運行表面T的下方，并且相對于輸送方向a垂直布置；一個支承件24，其為板狀件，在其頂表面上形成了V形橫斷面的第一涂桿支承槽24A，以使第一涂桿支承槽24A從下面支承著第一涂桿22；以及一個攔截件26，其沿豎直方向延伸，從而平行于第一涂桿22設(shè)置，以面對著第一涂桿22和支承件24，并且相對于輸送方向a布置在支承件24和第一涂桿22的上游。一個涂覆液路徑20設(shè)在支承件24與攔截件26之間，用于向從上方經(jīng)過的載體片材W噴射制版層形成液，其中一個沿豎直方向延伸的整流板28設(shè)在涂覆液路徑20中。整流板28對應于根據(jù)本發(fā)明的涂覆裝置中的整流件，其在上端部向著第一涂桿22彎折。優(yōu)選使整流板28的寬度等于支承件24和攔截件26的寬度。
作為第一涂桿22，可以采用光桿、帶槽桿和繞線桿中的任何一種。第一涂桿22的旋轉(zhuǎn)方向與輸送方向a相同。在與載體片材W的噴砂處理表面Sg直接接觸時，第一涂桿22可以被一個選裝的驅(qū)動裝置直接驅(qū)動著以預定的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，或者可以借助于通過涂覆制版層形成液而在載體片材W的噴砂處理表面Sg上形成的涂層而被帶動著旋轉(zhuǎn)。第一涂桿22的圓周速度優(yōu)選為載體片材W輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
圖11中示出了涂覆段2中的整流板28、第一涂桿22、支承件24和攔截件26之間的相對位置關(guān)系，圖12中示出了整流板28附近的制版層形成液流動情況。
如圖11所示，整流板28在涂覆液路徑20中布置在支承件24附近。這樣，涂覆液路徑20被整流板28分隔為沿載體片材W的輸送方向a布置的上游側(cè)涂覆液路徑20A和下游側(cè)涂覆液路徑20B。
一個用于將上游側(cè)涂覆液路徑20A和下游側(cè)涂覆液路徑20B相互連通的涂覆液連通孔28A形成在整流板28的下端部中，一個向著第一涂桿22彎折的彎折部分28B形成在整流板28的上端部。彎折部分28B被成形得平行于第一涂桿22上的與彎折部分28B相面對部位的切面P。彎折部分28B與切面P之間的距離t1優(yōu)選為1mm或以下，特別優(yōu)選在0.1至1mm的范圍內(nèi)。另外，彎折部分28B的末端與運行表面T之間的距離t2優(yōu)選為3mm或以下，特別優(yōu)選在0.05至3mm的范圍內(nèi)。
如圖10所示，制版層形成液被供應到上游側(cè)涂覆液路徑20A中。另一方面，如圖12所示，第一涂桿22以與載體片材W輸送方向a相同的方向(正向)旋轉(zhuǎn)，以使第一涂桿22的表面在整流板28附近從下向上移動。這樣，如圖12中的箭頭b所示，在下游側(cè)涂覆液路徑20B中，制版層形成液從下向上流動。因此，上游側(cè)涂覆液路徑20A中的制版層形成液將通過涂覆液連通孔28A而流入下游側(cè)涂覆液路徑20B中。
在下游側(cè)涂覆液路徑20B中升高的制版層形成液會粘著到載體片材W的噴砂處理表面Sg上。未粘著到載體片材W的噴砂處理表面Sg上的制版層形成液將圍繞著彎折部分28B的末端從下游側(cè)向上游側(cè)流動，從而如圖12中的箭頭c所示返回上游側(cè)涂覆液路徑20A中。
這樣，可以形成圍繞著彎折部分28B的末端從下游側(cè)涂覆液路徑20B流入上游側(cè)涂覆液路徑20A中的液流。
圖13中示出了涂覆段2的一個實施例，其包含一個具有不同形狀的整流板28。
圖13中示出的涂覆段2包括一個整流板28，其在末端部具有一個沿豎直方向延伸的彎折部分28B，該彎折部分沿著背離第一涂桿22的方向彎折。這樣，彎折部分28B具有平行于切面P的第一彎折部分28B1和與第一彎折部分28B1的端部相接并且沿豎直方向延伸的第二彎折部分28B2。
第一彎折部分28B1與切面P之間的距離t3優(yōu)選為1mm或以下，特別優(yōu)選在0.1至1mm的范圍內(nèi)。另一方面，第二彎折部分28B2的末端與運行表面T之間的距離t4優(yōu)選為3mm或以下，特別優(yōu)選在0.05至3mm的范圍內(nèi)。
在圖13所示的涂覆段2中，由于整流板28的末端沿豎直方向形成，因此可將距離t4制作得比圖11中所示的距離t2更短。
另外，由于制版層形成液圍繞著整流板28的末端的流動可以更流暢，因此同具有圖11和12中所示涂覆段22的涂覆裝置100相比，可以獲得缺陷更少的制版層。
第二涂桿42的圓周速度可以根據(jù)制版層形成液的預期涂覆厚度而設(shè)置。然而，在第二涂桿42的旋轉(zhuǎn)方向是與載體片材W輸送方向相同的方向時，第二涂桿42的圓周速度優(yōu)選低于第一涂桿22的圓周速度。
如圖10所示，在底座6的底表面上，設(shè)有用于向上游側(cè)涂覆液路徑20A供應制版層形成液的第一供液管6A、用于向上游側(cè)涂覆液路徑50供應制版層形成液的第二供液管6B、用于向下游側(cè)涂覆液路徑52供應制版層形成液的第三供液管6C。此外，在底座6的底表面上還布置著排液管6D，其用于收集在涂覆段2的支承件24與涂層調(diào)節(jié)段4的上游側(cè)攔截板46之間向下流動的制版層形成液。
下面解釋涂覆裝置100的操作。
載體片材W沿著箭頭a的方向被輸送輥32和34輸送，而且其噴砂處理表面Sg面向下方。
如前所述，從第一供液管6A向涂覆段2的上游側(cè)涂覆液路徑20A供應的制版層形成液將流經(jīng)涂覆液連通孔28A而流入下游側(cè)涂覆液路徑20B中，并且在下游側(cè)涂覆液路徑20B中上升。接下來，在整流板28的彎折部分28B附近形成了圍繞著彎折部分28B的末端流向上游側(cè)涂覆液路徑20A的循環(huán)液流c，與此同時，一部分循環(huán)液流c粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。
在涂層調(diào)節(jié)段4中，如果涂覆段2的粘著量不夠，則利用第二涂桿42進一步涂覆制版層形成液，而如果粘著量過大，則多余的涂覆液被第二涂桿42刮掉，從而將粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上的制版層形成液調(diào)節(jié)到預定的涂覆厚度。
根據(jù)第六個實施例中的涂覆裝置，如前所述，由于循環(huán)液流c圍繞著整流板28的末端附近從下游側(cè)向上游側(cè)形成，因此可以限制粘著在帶狀基片上的涂覆液量的波動。
這樣，由于即使是在載體片材W的輸送速度較高的情況下也能夠防止出現(xiàn)液珠條紋和未涂覆部分等涂覆缺陷，因此可以在平印版前體的制版層形成過程中防止廢品的產(chǎn)生。實例VI(實例61至68，對比例61)在鋁片材上根據(jù)普通方法對其一側(cè)表面實施噴砂處理，然后對噴砂處理表面實施陽極氧化處理，從而獲得了載體片材W。
作為制版層形成液實例的感光層形成液利用圖10所示的涂覆裝置100涂覆在載體片材W上。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 150m/minc.感光層形成液的粘著量50cc/min(涂覆段2)15cc/min(涂層調(diào)節(jié)段4)d.涂桿直徑10mm(第一涂桿22和第二涂桿42均是)e.第一涂桿22的轉(zhuǎn)速(圓周速度)130m/min(正轉(zhuǎn))f.第二涂桿42的轉(zhuǎn)速(圓周速度)16m/min(正轉(zhuǎn))g.感光層形成液的粘度 2至50mPa.sh.在被第二涂桿42計量后感光層形成液的涂覆量結(jié)果顯示于表6中。
表6


從表6中可以看出，在上述涂覆條件下，在距離t1和距離t2分別為0.1至1mm和0.1至3mm時，即使載體片材W的輸送速度高達150m/min，感光層形成液也能夠均勻涂覆。
另一方面，在距離t1和t2中的至少一個超出上述范圍后，可能會產(chǎn)生未涂覆部分。
然而，上述距離t1和t2的優(yōu)選范圍并不局限于前述范圍，而是可以根據(jù)前述涂覆條件a至h的變化而改變。
根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，可以提供出這樣的涂覆裝置和涂覆方法，其能夠獲得均勻涂覆的表面，即使是在基片的輸送速度提高了的情況下。第七個實施例圖14中示出了根據(jù)本發(fā)明第七個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)。
根據(jù)第七個實施例的涂覆裝置100也是第四個實施例中所用的涂覆裝置，其用于向一側(cè)被噴砂處理過的帶狀薄鋁板載體片材W上涂覆作為本發(fā)明的涂覆液實施例的制版層形成液。
如圖14所示，根據(jù)第七個實施例的涂覆裝置100在很多方面與根據(jù)圖7所示第四和第五個實施例的涂覆裝置和根據(jù)圖10所示第六個實施例的涂覆裝置具有相同的構(gòu)造。因此，以相同的附圖標記表示相同的元件，以避免重復解釋構(gòu)造和操作。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，對前面的實施例所作描述也可以用于描述本實施例。
涂桿42、支承件44、上游塊46和下游塊48之間的相互關(guān)系顯示于圖15中。
如圖14和15所示，上游側(cè)涂覆液路徑50設(shè)置在上游塊46、涂桿42和支承件44之間，用于通過大致向上噴射制版層形成液而使制版層形成液的液珠形成在上游塊46和涂桿42與載體片材W之間。下游側(cè)涂覆液路徑52設(shè)置在下游塊48、涂桿42和支承件44之間，用于通過儲存涂覆液而形成下游液珠，以防止涂桿42干燥。
作為涂桿42，與涂桿22的情況一樣，可以采用光桿、帶槽桿、繞線桿或類似物中的任何一種。
如圖14和15所示，涂桿42可以是相對于載體片材W輸送方向a正向旋轉(zhuǎn)的正向旋轉(zhuǎn)桿，或者可以是相對于載體片材W輸送方向a反向旋轉(zhuǎn)的反向旋轉(zhuǎn)桿。然而，為了形成穩(wěn)定的液珠，優(yōu)選采用正向旋轉(zhuǎn)桿。
另外，圓周速度可以根據(jù)制版層形成液的預期涂覆厚度而設(shè)置，在涂桿42是正向旋轉(zhuǎn)桿的情況下，其圓周速度優(yōu)選低于涂桿22的圓周速度。
如圖14和15所示，上游塊46是板狀件，其沿豎直方向伸向載體片材W的運行表面T，而且其上端處形成了一個向著涂桿42彎折的彎折部分46A。彎折部分46A上的面對著涂桿42的表面被成形得平行于涂桿42上的與彎折部分46A的末端相面對著的部位處的切面P。
從彎折部分46A上的面對著涂桿42的表面至涂桿42的外周表面的最短距離，也就是從彎折部分46A的表面至涂桿42的切面P的距離t1優(yōu)選為3mm或以下，更優(yōu)選在0.05至3mm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在0.1至3mm的范圍內(nèi)。
上游塊46的上端與運行表面T之間的距離t2優(yōu)選為3mm或以下，特別優(yōu)選在0.1至3mm的范圍內(nèi)。
圖16中示出了涂層調(diào)節(jié)段4中的制版層形成液流動情況，所述調(diào)節(jié)段中包括圖15所示的上游塊46。
如圖16所示，供應到上游側(cè)涂覆液路徑50中的制版層形成液在上游側(cè)涂覆液路徑50中上升，并且圍繞著上游塊46的上端從下游側(cè)向上游側(cè)流動，再沿著上游塊46的上游側(cè)表面向下流回。這樣，如圖16所示，平穩(wěn)的液流b可以形成在上游塊46的上端部分附近。
圖17中示出了上游塊46的另一個實施例。
圖17中所示的上游塊46與圖15中所示的上游塊46的相同之處在于，其為沿豎直方向伸向運行表面T的板狀件，然而，其與圖15中所示的上游塊46的不同之處在于，其上端部分被成形為曲線形，即向著與涂桿42接近的末端部分以中凸的方式彎曲。
另外，上游塊46被成形得使其厚度向著上端逐漸縮小，從而類似于楔形。
圖17中所示的上游塊46的上游側(cè)和下游側(cè)表面均被成形為曲線形。因此，同圖15和16中所示的上游塊46相比，可以進一步防止制版層形成液在上游塊46附近出現(xiàn)流動阻滯，從而使得制版層形成液能夠在上游塊46附近更流暢地流動。這樣，可以形成更穩(wěn)定的液流b。
此外，如圖14和15所示，下游塊48也是板狀件，并且沿豎直方向伸向載體片材W的運行表面T，但其高度小于上游塊46。然而，由于在下游塊48的上端高于涂桿42的外周表面最低點的情況下，涂桿42在旋轉(zhuǎn)時其外周表面的至少一部分可以浸沒在下游側(cè)涂覆液路徑52中的液珠所儲存的制版層形成液中，因此這種結(jié)構(gòu)特別有益于防止涂桿42的外周表面干燥。
如圖14和15所示，下游塊48的上端表面被成形為向著下游側(cè)下斜的傾斜表面，然而，它也可以被成形為水平表面。
在底座6的底表面上布置著下列元件第一供液管6A，其用于向涂覆液路徑20供應制版層形成液；第二供液管6B，其用于向上游側(cè)涂覆液路徑50供應制版層形成液；以及第三供液管6C，其用于向下游側(cè)涂覆液路徑52供應制版層形成液。此外，在底座6的底表面上還布置著下列元件第一排液管6E，其用于收集在涂覆段2中溢流通過攔截件26并且在底座6的上游側(cè)壁與攔截件26之間向下流動的制版層形成液；以及第二排液管6D，其用于收集在支承件24與上游塊46之間向下流動的制版層形成液。
下面解釋涂覆裝置100的操作。
載體片材W沿著箭頭a的方向被輸送輥32和34輸送，而且其噴砂處理表面Sg面向下方。
從第一供液管6A向涂覆液路徑20供應的制版層形成液在涂覆液路徑20的頂部處被第一涂桿22帶起，從而粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。
粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上的制版層形成液接下來將在涂層調(diào)節(jié)段4中被第二涂桿42調(diào)節(jié)到預定厚度，如后文中所述。
在涂層調(diào)節(jié)段4中，制版層形成液從第二供液管6B和第三供液管6C供應到上游側(cè)涂覆液路徑50和下游側(cè)涂覆液路徑52中。
制版層形成液被供應到上游側(cè)涂覆液路徑50中，從而向著上游側(cè)溢流通過上游側(cè)攔截板46的上端，并且在下游側(cè)涂覆液路徑52中維持一定的液位高度。
如圖16所示，從第二供液管6B供應的制版層形成液可以在上游側(cè)攔截板46的上端部分形成穩(wěn)定的液流b，從而可以通過穩(wěn)定的液流b而在載體片材W、上游側(cè)攔截板46和涂桿42之間形成液珠。
這樣，即使在涂覆段2中向載體片材W的噴砂處理表面Sg上粘著的制版層形成液的粘著量發(fā)生波動，但由于這種波動會被液珠吸收，因此不會產(chǎn)生沿涂桿42寬度方向的壓力波動。所以，在制版層形成液的粘著量過多的情況下，可以利用涂桿42刮掉一部分制版層形成液，而在制版層形成液的粘著量不足的情況下，可以添加更多的制版層形成液，因此粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上的制版層形成液可以保持均勻的厚度，換言之，涂層厚度可以被調(diào)節(jié)。
因此，即使出于某種原因而導致在涂覆段2中向載體片材W的噴砂處理表面Sg上粘著的制版層形成液的粘著量發(fā)生波動，特別是在基片輸送速度提高了的情況下，也能夠最終獲得均勻涂覆的表面。實例VII(實例71、72，對比例71至74)在鋁片材上根據(jù)普通方法對其一側(cè)表面實施噴砂處理，然后對噴砂處理表面實施陽極氧化處理，從而獲得了載體片材W。
作為制版層形成液實例的感光層形成液利用圖14所示的涂覆裝置100涂覆在載體片材W上。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 150m/minc.感光層形成液的粘著量50cc/min(涂覆段2)15cc/min(涂層調(diào)節(jié)段4)d.涂桿直徑10mm(第一涂桿22和第二涂桿42均是)e.第一涂桿22的轉(zhuǎn)速(圓周速度)130m/min(正轉(zhuǎn))f.第二涂桿42的轉(zhuǎn)速(圓周速度)16m/min(正轉(zhuǎn))g.感光層形成液的粘度5至50mPa.s結(jié)果顯示于表7中。
表7

如表7所示，在涂層調(diào)節(jié)段4中，在從上游塊46上的面對著涂桿42的表面至涂桿42的外周表面的最短距離t1和上游塊46的上端與載體片材W的運行表面T之間的距離t2為3mm或以下時，即使載體片材W的輸送速度高達150m/min，感光層形成液也能夠均勻涂覆。
另一方面，在距離t1和t2中的至少一個超過3mm的情況下，如果攔截件26的高度低于涂桿22的最低點的高度，則會產(chǎn)生液珠條紋。
然而，由于上述距離t1和t2的優(yōu)選范圍可以根據(jù)前述涂覆條件a至g而對表7中所示的范圍作出改變，因此即使是在距離t1和t2根據(jù)涂覆條件a至g而超過3mm的情況下，也有獲得均勻涂覆的表面的可能性。
根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，可以提供出這樣的涂覆裝置和涂覆方法，其能夠獲得均勻涂覆的表面，即使是在基片的輸送速度較高的情況下。第八個實施例圖18中示出了根據(jù)本發(fā)明第八個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)。
根據(jù)第八個實施例的涂覆裝置300是這樣一種涂覆裝置，其用于向作為本發(fā)明的帶狀件實施例的載體片材W上涂覆作為本發(fā)明的涂覆液實施例的制版層形成液，其中載體片材以其噴砂處理表面Sg面向下方，并且沿著圖18中的箭頭a連續(xù)運行。
如圖18所示，涂覆裝置300包括一個涂桿302，其垂直于載體片材W的輸送方向a布置；一個支承座304，其為從下方支承涂桿的板狀件，并且在其頂表面上形成了用于支承涂桿302的V形涂桿支承槽304A；一個主側(cè)攔截件306和一個輔助側(cè)攔截件308。主側(cè)攔截件306相對于輸送方向a布置在涂桿302和支承座304的上游，其平行于涂桿302并且面對著涂桿302和支承座304。輔助側(cè)攔截件308相對于輸送方向a布置在涂桿302和支承座304的下游，其平行于涂桿302并且面對著涂桿302和支承座304。
作為涂桿302，可以采用前述光桿、帶槽桿和繞線桿中的任何一種。如圖18所示，涂桿302可以沿著與載體片材W的輸送方向a相反的方向被驅(qū)動，并且可以處在停止狀態(tài)。另外，它也可以沿著與載體片材W的輸送方向a相同的方向被驅(qū)動，具體地講，它可以從動于載體片材W并且旋轉(zhuǎn)。
主側(cè)攔截件306具有大致L形的橫斷面，其上端部分向著涂桿302彎折。一個面對著涂桿302的豎直表面306A形成在主側(cè)攔截件306的上端部分上的與涂桿302相面對的一側(cè)表面上，一個相對于輸送方向a向著下游呈坡面上升的傾斜表面306B形成在與豎直表面306A相反的一側(cè)上。一個向著下游側(cè)彎曲的彎曲表面形成在豎直表面306A下面，第二豎直表面306C形成在彎曲表面下面并且與彎曲表面相連貫。
一個上游側(cè)狹縫312形成在涂桿302與豎直表面306A之間。上游側(cè)狹縫312沿輸送方向a的寬度，換言之是厚度d2，也可以稱作是從涂桿302至主側(cè)攔截件306的豎直表面306A的距離。上游側(cè)狹縫312的所述厚度d2優(yōu)選在2mm或以下的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為1mm或以下，最優(yōu)選在0.05至1mm的范圍內(nèi)。
一個涂覆液儲存腔314形成在上游側(cè)狹縫312下面并且與上游側(cè)狹縫312連通，也就是說，形成在支承座304與主側(cè)攔截件306之間。
輔助側(cè)攔截件308設(shè)在與主側(cè)攔截件306相面對的位置上，支承座304夾在它們之間，所述輔助側(cè)攔截件具有大致L形的橫斷面，而且其上端部分向著涂桿302彎折。輔助側(cè)攔截件308的高度低于主側(cè)攔截件306的高度。
一個豎直表面308A形成在輔助側(cè)攔截件308的上端部分上的與涂桿302相面對的一側(cè)表面上，并且是與涂桿302相面對著的豎直表面；一個相對于輸送方向a向著上游呈坡面上升的傾斜表面308B形成在與豎直表面308A相反的一側(cè)上。一個向著上游側(cè)彎曲的彎曲表面形成在豎直表面308A下面，第二豎直表面308C形成在彎曲表面下面并且與彎曲表面相連貫。
一個下游側(cè)狹縫316形成在涂桿302與豎直表面308A之間。
一個涂覆液儲存腔318形成在下游側(cè)狹縫316下面并且與下游側(cè)狹縫316連通，也就是說，形成在支承座304與輔助側(cè)攔截件308之間。
主側(cè)攔截件306、支承座304和輔助側(cè)攔截件308通過諸如螺栓等固定裝置(未示出)固定在一個淺箱形的底座320上，該淺箱形底座的上表面是敞開的。
一個升降裝置322設(shè)在底座320的下表面上，用于在涂覆制版層形成液時將底座320支承在圖18中的實線所示抬升位置上。在所述抬升位置，涂桿302與載體片材W相接觸。相反，在未實施涂覆制版層形成液的操作時，底座320被升降裝置322從圖18中的實線所示位置下降，從而保持在圖18中的雙點劃線所示降低位置上。在這一降低位置，涂桿302與載體片材W分開。
根據(jù)這種升降裝置322，可以在抬升位置調(diào)節(jié)底座320從降低位置開始的抬升高度。因此，包容角θ，即載體片材W包圍在涂桿302上的角度可以設(shè)置。也就是說，在升降裝置322中，通過增大底座320距離降低位置的抬升高度，包容角θ會加大。相反，通過降低底座320距離降低位置的抬升高度，包容角θ會減小。
在底座320底表面上的涂覆液儲存腔314和涂覆液儲存腔318的下方，分別設(shè)有用于向涂覆液儲存腔314供應制版層形成液的第一供液管320A和用于向涂覆液儲存腔318供應制版層形成液的第二供液管320B。此外，在底座320中，設(shè)有第一排液管320C，其用于將向下流入底座320的上游側(cè)壁與主側(cè)攔截件306之間的空間中的制版層形成液排出，以及第二排液管320D，其用于將向下流入輔助側(cè)攔截件308與底座320的下游側(cè)壁之間的空間中的制版層形成液排出。
在作為載體片材W運行路徑的運行表面T的上方，一個用于向下按壓載體片材W的壓輥330和一個用于沿著輸送方向a輸送載體片材W的輸送輥332分別設(shè)在涂桿302的上游側(cè)和下游側(cè)。
下面解釋涂覆裝置300的操作。
在涂覆時，制版層形成液從第一供液管320A供應到涂覆液儲存腔314中，以便向上游溢流通過上游側(cè)狹縫312，并且在主側(cè)攔截件306的傾斜表面306B上向下流向底座320。
載體片材W被保持在其噴砂處理表面Sg面向下方的狀態(tài)，并且被壓輥330和輸送輥332沿輸送方向a輸送，而底座320被升降裝置322抬升而升高。在底座320被抬高后，載體片材W的噴砂處理表面Sg接觸到所述從上游側(cè)狹縫312開始跨過主側(cè)攔截件306的頂部沿傾斜表面306B向下流動的制版層形成液，這樣，從上游側(cè)狹縫312溢流出的制版層形成液會粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上。
通過涂桿302的刮削和涂覆操作，粘著在噴砂處理表面Sg上的制版層形成液被計量調(diào)節(jié)到預定的厚度。通過改變從上游側(cè)狹縫312噴出的制版層形成液量以及涂桿302的旋轉(zhuǎn)方向和旋轉(zhuǎn)速度，可以調(diào)節(jié)制版層形成液的涂覆厚度。
在這里，由于上游側(cè)狹縫312具有2mm或以下的寬度，因此制版層形成液能夠沿著載體片材W的寬度方向從上游側(cè)狹縫312中連續(xù)噴出。接下來，涂桿302在上游側(cè)狹縫312附近從下游側(cè)向上游側(cè)旋轉(zhuǎn)。因此，在從上游側(cè)狹縫312噴出并且粘著在載體片材W的噴砂處理表面上的制版層形成液中，有一部分被涂桿302向著主側(cè)攔截件306刮除，從而流過主側(cè)攔截件306的頂部，并且沿著傾斜表面306B向下流向底座320。
這樣，由于可以在主側(cè)攔截件306的頂部上方形成均勻且連續(xù)的制版層形成液液流，因此可以防止制版層形成液在主側(cè)攔截件306的頂部干燥和形成固體成分。向下流入底座320的上游側(cè)壁與主側(cè)攔截件306之間的空間中的制版層形成液將通過第一排液管320C而被收集。
制版層形成液將粘著在涂桿302的表面上，隨著涂桿302的旋轉(zhuǎn)而向支承座304輸送，再流經(jīng)涂桿302與支承座304之間的間隙，從而到達涂桿302的底側(cè)。這樣，由于制版層形成液會在涂桿302的下游側(cè)表面上形成薄膜，因此除非涂覆液或類似物連續(xù)供應到涂桿302的下游側(cè)，否則就會因制版層形成液中的溶劑蒸發(fā)而容易形成固體成分。
然而，涂桿302的下游側(cè)表面可以通過向上溢流的制版層形成液而保持在恒定的潤濕狀態(tài)，所述制版層形成液從第二供液管320B供應到涂覆液儲存腔318中并且從下游側(cè)狹縫316流出，以使液體粘著在涂桿302的下游側(cè)表面上。因此，可以防止涂桿302的下游側(cè)表面出現(xiàn)制版層形成液干燥。
如前所述，根據(jù)第八個實施例中的涂覆裝置300，可以通過將涂桿302的下游側(cè)表面維持在恒定的潤濕狀態(tài)而防止涂桿302的下游側(cè)表面出現(xiàn)制版層形成液干燥，因此，可以防止涂桿302的下游側(cè)表面因制版層形成液蒸發(fā)而形成固體成分。
因此，在根據(jù)第八個實施例的涂覆裝置300中，由于不會因制版層形成液蒸發(fā)而在主側(cè)攔截件306的頂部和涂桿302的下游側(cè)表面上形成固體成分，因此可以有效地防止因固體成分而造成涂覆表面質(zhì)量缺陷，例如涂覆條紋、固體成分粘著在載體片材W的噴砂處理表面Sg上和涂層加厚。
另外，由于制版層形成液本身用作本發(fā)明中的干燥防止液，因此即使是在連續(xù)操作中循環(huán)和重復使用通過第一排液管320C和第二排液管320D收集的制版層形成液，制版層形成液在使用了長時間之后也幾乎不會變化。
此外，由于涂覆液儲存腔314形成在上游側(cè)狹縫312下面，因此即使是在制版層形成液供應量波動的情況下，制版層形成液也能夠以穩(wěn)定的噴射量從上游側(cè)狹縫312噴出并溢流。第九個實施例圖19中示出了根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的涂覆裝置的示意性結(jié)構(gòu)。在圖19中，與圖18中相同的附圖標記表示與圖18中相同的元件。
如圖19所示，根據(jù)第九個實施例的涂覆裝置3102包括一個相對于載體片材W的輸送方向a布置在上游的上游側(cè)涂覆段310A和一個相對于輸送方向a布置在下游的下游側(cè)涂覆段310B。
上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B與根據(jù)第八個實施例的涂覆裝置300的結(jié)構(gòu)和操作相同。因此，可以防止因涂覆液在涂桿302下游側(cè)干燥并產(chǎn)生固體成分而導致涂覆液粘著在主側(cè)攔截件306的頂部并產(chǎn)生各種涂覆表面質(zhì)量缺陷。
用于在上游側(cè)涂覆段310A涂覆的涂覆液A和用于在下游側(cè)涂覆段310B涂覆的涂覆液B可以是相同的涂覆液，例如制版層形成液，或者可以是不同的涂覆液。因此，作為示例，可以在上游側(cè)涂覆段310A中涂覆作為涂覆液A的熱敏層形成液，并且在游側(cè)涂覆段310B中涂覆作為涂覆液B的光熱轉(zhuǎn)化層形成液，從而可以形成激光曝光型制版層。另外，可以在上游側(cè)涂覆段310A中涂覆作為涂覆液A的感光層形成液，并且在游側(cè)涂覆段310B中涂覆作為涂覆液B的隔氧層形成液，從而可以形成感光層。
上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B固定在箱形底座340上，該底座的上表面是敞開的。
在底座340的底表面上，用于向上游側(cè)涂覆段310A的涂覆液儲存腔314供應涂覆液A的第一供液管340A和用于向上游側(cè)涂覆段310A的涂覆液儲存腔318供應涂覆液A的第二供液管340B分別設(shè)在上游側(cè)涂覆段310A的下面。此外，用于向下游側(cè)涂覆段310B的涂覆液儲存腔314供應涂覆液B的第三供液管340C和用于向下游側(cè)涂覆段310B的涂覆液儲存腔318供應涂覆液B的第四供液管340D分別設(shè)在下游側(cè)涂覆段310B的下面。
另外，在底座340的底表面上還設(shè)有下列元件第一排液管路徑340E，其用于將在底座的上游側(cè)壁與主側(cè)攔截件之間向下流動的涂覆液收集并排放到外側(cè)；第二排液管路徑340F，其用于將在位于底座340中的上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B之間向下流動的涂覆液收集并排放到外側(cè)；以及第三排液管路徑340G，其用于將在底座340的下游側(cè)壁與輔助側(cè)攔截件之間向下流動的涂覆液收集并排放到外側(cè)。然而，在涂覆液A和涂覆液B彼此不同的情況下，優(yōu)選利用攔截件或類似物將底座340中的上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B彼此隔離，并且為每個涂覆段分別設(shè)置排液管，從而防止收集的涂覆液A和涂覆液B混合。
推壓式輸送輥350、352、354被設(shè)置得用于將載體片材W壓向上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B中的涂桿302，并沿輸送方向輸送載體片材，所述輥布置在載體片材W上的與上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B相反的一側(cè)上，以使作為載體片材W運行路徑的運行表面T夾在所述輥與所述涂覆段之間。推壓式輸送輥350設(shè)在上游側(cè)涂覆段310A的上游，推壓式輸送輥352設(shè)在上游側(cè)涂覆段310A的下游和下游側(cè)涂覆段310B的上游，推壓式輸送輥354設(shè)在下游側(cè)涂覆段310B的下游。
下面解釋涂覆裝置3102的操作。
在載體片材W移過上游側(cè)涂覆段310A上方時，涂覆液A被涂覆在噴砂處理表面Sg上，而在載體片材W移過下游側(cè)涂覆段310B上方時，涂覆液B被進一步涂覆在涂覆液A上。
這樣，在涂覆液A和涂覆液B是相同涂覆液例如制版層形成液的情況下，則即使在上游側(cè)涂覆段310A中有未涂覆上涂覆液A的未涂覆部分產(chǎn)生在噴砂處理表面Sg上，所述未涂覆部分也會在下游側(cè)涂覆段310B中通過再次涂覆與涂覆液A相同的涂覆液B而被消除。
此外，在涂覆液A和涂覆液B是不同涂覆液的情況下，通過使載體片材W移動通過上游側(cè)涂覆段310A和下游側(cè)涂覆段310B，可以獲得具有多層結(jié)構(gòu)的涂層。
根據(jù)第九個實施例中的涂覆裝置3102，除了具有第八個實施例的涂覆裝置的特征以外，還具有以下特征，即在涂覆液A和涂覆液B相同的情況下，能夠防止產(chǎn)生未涂覆部分，而在涂覆液A和涂覆液B不同的情況下，能夠利用一個涂覆裝置制作出具有多層結(jié)構(gòu)的制版層。實例VIII(實例81至84，對比例81)在鋁片材上根據(jù)普通方法對其一側(cè)表面實施噴砂處理，然后對噴砂處理表面實施陽極氧化處理，從而獲得了載體片材W。
作為制版層形成液實例的感光層形成液利用圖18所示的涂覆裝置3102涂覆在載體片材W上。
感光層形成液的涂覆條件如下所述。
a.載體片材W的厚度 0.3mmb.載體片材W的輸送速度 100m/minc.涂桿302的直徑10mmd.涂桿302的轉(zhuǎn)數(shù)-50rpm(反轉(zhuǎn))e.上游側(cè)狹縫的寬度 如表8所示f.感光層形成液的粘度 20mPa·sg.感光層形成液的供液量 2.01/minh.涂桿302計量后的感光層形成液涂覆量20cc/m2i.壓輥30的直徑 50mmj.壓輥30與涂桿302的中心距 30mm結(jié)果顯示于表8中。
表8

如表8所示，在感光層形成液在前述條件下涂覆時，如果上游側(cè)狹縫312的寬度為2mm或以下，由于感光層形成液能夠連續(xù)在寬度方向上均勻地溢流通過主側(cè)攔截件306，因此沒有觀察到因制版層形成液固化而在主側(cè)攔截件306的頂部產(chǎn)生固體成分，也沒有觀察到因固體成分而造成涂覆表面質(zhì)量缺陷。
根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，可以提供出不會產(chǎn)生涂覆表面質(zhì)量缺陷的涂覆裝置和涂覆方法。
權(quán)利要求
1.一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，包括涂覆站，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及涂層調(diào)節(jié)站，其沿基片輸送方向布置在涂覆站的下游，用于將液劑量調(diào)節(jié)到預定厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站用于在涂覆站涂覆在基片上的液劑干燥之前調(diào)節(jié)涂覆的液劑量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站包括桿狀件，其帶有光滑成形的表面，并且平行于基片表面布置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站包括桿狀件，其帶有沿圓周方向形成在其表面上的槽，并且平行于基片表面布置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆裝置，其特征在于，桿狀件以不大于500rpm的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆裝置，其特征在于，桿狀件以不大于500rpm的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，所述涂覆站包括涂桿，其與基片接觸并且旋轉(zhuǎn)，其中涂桿上的被接觸的圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；以及供液器具，其沿所述預定方向布置在涂桿上游，用于向涂桿和基片之間供應液劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站以與基片表面分離的狀態(tài)向基片上涂覆液劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂覆裝置，其特征在于，所述涂覆站包括具有光滑表面的光滑涂桿，所述光滑涂桿平行于基片的運行表面布置；以及供液器具，其用于沿預定輸送方向在光滑涂桿上游向光滑涂桿和基片之間供應液劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂覆裝置，其特征在于，所述涂覆站包括擠出式涂覆機，其具有狹縫形噴液口，所述擠出式涂覆機向著作為基片運行路徑的運行表面敞開，用于橫跨基片的寬度方向噴射涂覆液，并且在基片和噴液口之間形成涂覆液的交叉耦合。
11.一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，包括第一涂桿，其用于向基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及第二涂桿，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿的下游，用于將液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑的涂覆量。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂覆裝置，其特征在于，第一涂桿和第二涂桿的布置使得，基片從其被第一涂桿涂覆液劑的涂覆位置開始移至被第二涂桿調(diào)節(jié)液劑的調(diào)節(jié)位置所需的時間間隔為0.25秒或以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的涂覆裝置，還包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，用于以不同于基片運行速度的圓周速度帶動第一涂桿和第二涂桿中的至少一個旋轉(zhuǎn)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂覆裝置，其特征在于，基片移過第一涂桿后涂覆在基片上的液劑涂覆量與基片移過第二涂桿后涂覆在基片上的液劑涂覆量之間的涂覆量比率為0.8至4.0。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂覆裝置，還包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，用于以不同于基片運行速度的圓周速度帶動第一涂桿和第二涂桿中的至少一個旋轉(zhuǎn)。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，用于向基片表面上涂覆液劑，所述涂桿在旋轉(zhuǎn)時使得其一側(cè)圓周表面面對著基片并且沿著與基片輸送方向相同的方向移動，其中涂桿圓周速度為基片輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，第一涂桿的圓周速度為基片輸送速度的1/15至3/4。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，第一涂桿的圓周速度為基片輸送速度的1/10至1/2。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站用于在涂覆站粘著在基片上的液劑干燥之前將液劑調(diào)節(jié)到預定厚度。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站包括第二涂桿，其用于將涂覆在基片表面上的液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑量。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，第二涂桿具有圓周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動。
22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，基片是用于形成平印版前體基片的載體片材。
23.根據(jù)權(quán)利要求16所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆所用的液劑是用于形成平印版前體制版層的制版層形成液。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；以及攔截件，其具有一定的高度，并且沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，而且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠，其中攔截件的頂表面高度等于或高于第一涂桿圓周表面的最低點，并且比第一涂桿圓周表面的最高點低1mm或以上。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站包括第一涂桿，其具有圓周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；以及攔截件，其具有一定的高度，并且沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，而且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠，其中攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂覆裝置，其特征在于，攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的涂覆裝置，其特征在于，攔截件上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的間隔為3mm至30mm。
28.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂覆裝置，其特征在于，第一涂桿被旋轉(zhuǎn)，以使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動，其中涂桿圓周速度為基片輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
29.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站包括第二涂桿，其用于將涂覆在基片表面上的液劑均化到預定厚度，從而調(diào)節(jié)液劑量。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的涂覆裝置，其特征在于，第二涂桿具有圓周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相反的方向移動。
31.根據(jù)權(quán)利要求29所述的涂覆裝置，其特征在于，第二涂桿具有圓周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動。
32.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂覆裝置，其特征在于，基片的輸送速度為100m/min或以上。
33.根據(jù)權(quán)利要求24所述的涂覆裝置，其特征在于，基片是用于形成平印版前體基片的載體件。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆所用的液劑是用于形成平印版前體制版層的制版層形成液。
35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站包括第一涂桿，其基本上平行于基片表面布置并且具有圓周表面，所述圓周表面的一側(cè)面對著基片，所述第一涂桿用于向基片表面上涂覆液劑，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動；攔截件，其沿基片輸送方向布置在第一涂桿上游，并且面對著第一涂桿，用以在第一涂桿和基片之間形成液劑的液珠；以及整流件，其布置在攔截件和第一涂桿之間，用于形成沿著第一涂桿的表面上升的液劑流。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件是具有末端部分的板狀件，其平行于攔截件布置，而且在末端部分上形成了向著第一涂桿彎折的彎折部分。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的彎折部分平行于與第一涂桿的一個部位相接觸的切面，所述部位面對著彎折部分。
38.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的最短距離為1mm或以下。
39.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分至基片表面的距離為3mm或以下。
40.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的最短距離為1mm或以下，而且整流件的末端部分至基片表面的距離為3mm或以下。
41.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的最短距離為0.05至1mm。
42.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分至基片表面的距離為0.05至3mm。
43.根據(jù)權(quán)利要求36所述的涂覆裝置，其特征在于，整流件的末端部分上的面對著第一涂桿的一側(cè)表面與第一涂桿圓周表面之間的最短距離為0.05至1mm，而且整流件的末端部分至基片表面的距離為0.05至3mm。
44.根據(jù)權(quán)利要求35所述的涂覆裝置，其特征在于，基片是用于形成平印版前體基片的載體片材。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆所用的液劑是用于形成平印版前體制版層的制版層形成液。
46.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)站包括桿，其基本上平行于基片表面布置，用于將涂覆在基片上的液劑均化和調(diào)節(jié)到預定厚度；以及塊，其沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，用于在桿和基片之間形成液劑的液珠。
47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，所述桿具有圓周表面，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向在與基片相面對著的一側(cè)移動。
48.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，所述上游塊包括末端部分，而且有彎折部分形成在末端部分上并且向著桿彎折。
49.根據(jù)權(quán)利要求48所述的涂覆裝置，其特征在于，彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面被成形得平行于一個與面對著彎折部分的桿部位相接觸的切面。
50.根據(jù)權(quán)利要求48所述的涂覆裝置，其特征在于，上游塊彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的最短距離為3mm或以下。
51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的涂覆裝置，其特征在于，所述最短距離在0.05至3mm的范圍內(nèi)。
52.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，上游塊的末端至基片表面的距離為3mm或以下。
53.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，上游塊的末端至基片表面的距離在0.1至3mm的范圍內(nèi)。
54.根據(jù)權(quán)利要求48所述的涂覆裝置，其特征在于，上游塊的末端至基片表面的距離為3mm或以下，而且上游塊彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的最短距離為3mm或以下。
55.根據(jù)權(quán)利要求48所述的涂覆裝置，其特征在于，上游塊彎折部分上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的最短距離在0.1至3mm的范圍內(nèi)，而且上游塊的末端至基片表面的距離在0.05至3mm的范圍內(nèi)。
56.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆站包括用于向基片上涂覆液劑的另一桿。
57.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，沿基片輸送方向從涂層調(diào)節(jié)站的上游塊的末端部分至桿的圓周表面的距離在1.2至11mm的范圍內(nèi)。
58.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，基片是用于形成平印版前體基片的載體片材。
59.根據(jù)權(quán)利要求46所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆所用的液劑是用于形成平印版前體制版層的制版層形成液。
60.一種用于向沿預定方向運行著的帶狀基片上涂覆液劑的涂覆裝置，包括桿，其基本上平行于基片的至少一個表面布置，用于將涂覆在基片表面上的液劑均化到預定的厚度；以及主側(cè)攔截件，其沿基片輸送方向布置在所述桿的上游并且面對著桿，用于在桿和基片之間形成涂覆液液劑的液珠；其特征在于，主側(cè)攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的間隔為2mm或以下。
61.根據(jù)權(quán)利要求60所述的涂覆裝置，其特征在于，所述桿具有圓周表面，而且其面對著基片的一側(cè)圓周表面以與基片輸送速度不同的速度移動。
62.根據(jù)權(quán)利要求60所述的涂覆裝置，其特征在于，第二涂桿具有圓周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動。
63.根據(jù)權(quán)利要求60所述的涂覆裝置，還包括潤濕液體涂覆器具，其用于涂覆潤濕液體，以使所述桿的下游表面濕潤。
64.根據(jù)權(quán)利要求63所述的涂覆裝置，其特征在于，所述潤濕液體涂覆器具包括輔助側(cè)攔截件，其高度低于主側(cè)攔截件，并且沿基片輸送方向布置在所述桿的下游，并且面對著桿，用于在輔助側(cè)攔截件與桿之間噴射潤濕液體，使之涂覆在桿的表面上。
65.根據(jù)權(quán)利要求63所述的涂覆裝置，其特征在于，所述潤濕液體是涂覆液。
66.根據(jù)權(quán)利要求61所述的涂覆裝置，其特征在于，基片是用于形成平印版前體基片的載體片材。
67.一種用于向帶狀基片上涂覆液劑的方法，所述涂覆方法包括以下步驟沿預定方向運行基片；在運行著的基片的至少一個表面上涂覆液劑；以及對涂覆的液劑實施涂層調(diào)節(jié)，使之達到預定厚度。
68.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆步驟是利用基本上平行于基片運行表面布置著的第一桿實施的，所述涂層調(diào)節(jié)步驟是利用基本上平行于基片運行表面布置著的第二桿實施的。
69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的涂覆方法，其特征在于，基片在涂覆步驟和涂層調(diào)節(jié)步驟之間的輸送時間為0.25秒或以下。
70.根據(jù)權(quán)利要求69所述的涂覆方法，其特征在于，第一桿和第二桿中的至少一個以與基片輸送速度不同的圓周速度旋轉(zhuǎn)。
71.根據(jù)權(quán)利要求69所述的涂覆方法，其特征在于，液劑中含有有機溶劑。
72.根據(jù)權(quán)利要求69所述的涂覆方法，其特征在于，第一和第二涂桿之間的外界溫度保持在30℃或以下。
73.根據(jù)權(quán)利要求68所述的涂覆方法，其特征在于，基片在剛剛經(jīng)過了涂覆步驟后的液劑涂覆量與其經(jīng)過了涂層調(diào)節(jié)步驟后的液劑涂覆量之間的涂覆量比率為0.8至4.0。
74.根據(jù)權(quán)利要求73所述的涂覆方法，其特征在于，第一桿和第二桿中的至少一個以與基片輸送速度不同的圓周速度旋轉(zhuǎn)。
75.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用桿向基片表面上涂覆液劑，所述桿基本上平行于基片表面布置，并且在旋轉(zhuǎn)時使其面對著基片的一側(cè)圓周表面沿著與基片輸送方向相同的方向移動，其中桿的圓周速度為基片輸送速度的至少1/15，但不超過該輸送速度。
76.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿向基片表面上涂覆液劑，在涂覆時需要借助于攔截件而在桿與基片之間形成液珠，所述攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，攔截件的頂表面高度至少與桿表面的最低點的高度相同，但比桿表面的最高點低1mm或以上，以使液劑從液珠涂覆到基片表面上。
77.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿向基片表面上涂覆液劑，在涂覆時需要借助于攔截件而在桿與基片之間形成液珠，所述攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿，攔截件的布置使得，攔截件上的面對著桿的一側(cè)表面與桿圓周表面之間的間隔為3mm或以上，以使液劑從液珠涂覆到基片表面上。
78.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟包括這樣一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿向基片表面上涂覆液劑，其中液劑是這樣涂覆在基片表面上的，即將攔截件沿基片輸送方向布置在桿的上游并使之面對著桿，以便在桿與基片之間形成液劑的液珠，并且在攔截件與桿之間布置整流件，用于使液珠形成向上流到桿表面上的液劑流。
79.根據(jù)權(quán)利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，涂層調(diào)節(jié)步驟包括一個分步，即利用基本上平行于基片表面布置的桿均化基片表面上的液劑，從而調(diào)節(jié)液劑，其中，通過沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿的上游塊在桿與基片之間形成液珠，以將涂覆的液劑均化到預定的厚度。
80.一種用在沿預定方向運行著的帶狀基片上的液劑涂覆方法，所述方法包含利用桿將涂覆在基片表面上的液劑調(diào)節(jié)到一定厚度的步驟，所述方法包括用于在桿與基片之間形成涂覆液液劑的液珠的步驟；以及用于將液劑從液珠涂覆到基片上的步驟，其中沿基片輸送方向布置在桿的上游并且面對著桿的主側(cè)攔截件的表面與桿的外圓周表面之間的間隔為2mm或以下。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種涂覆裝置和一種涂覆方法。涂覆裝置包括一個涂覆站，其用于向連續(xù)運行的帶狀基片上涂覆涂覆液，以及一個涂層調(diào)節(jié)站，其布置在涂覆站下游，用于調(diào)節(jié)基片上的涂覆液，以使涂覆液層以預定厚度涂覆在基片上。涂覆站和涂層調(diào)節(jié)站分別包括用于涂覆和計量調(diào)節(jié)涂覆液的第一和第二桿。涂覆液可以以均勻和穩(wěn)定的方式涂覆，即使涂覆操作是在基片高速運行的條件下實施的。
文檔編號B05C1/08GK1408483SQ0214370
公開日2003年4月9日 申請日期2002年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月28日
發(fā)明者市川和紀, 金子修芳, 西野剛 申請人:富士膠片株式會社