專利名稱：涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法、及涂布膜形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在基板的表面形成涂布膜的技術(shù)，特別是涉及一種在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，使被涂布面保持向下姿勢的基板的該被形成面上形成的涂布膜加以干燥的技術(shù)。
背景技術(shù)：
以往，作為將感光性樹脂等的涂布液涂布到硅晶片類基板上的涂布裝置(涂布器)，主要是將涂布液向下滴到基板的中央，接著，通過高速回轉(zhuǎn)基盤，在離心力作用下，使涂布液外展，以在基板表面形成涂布膜的所謂的旋轉(zhuǎn)涂布。
此外，近年來，隨著圖型的微細(xì)化或液晶顯示裝置等的制造所使用的光掩模的大型化等，希望有形成的涂布膜的厚度更正確的技術(shù)。鑒于此，作為涂布裝置，還提供了例如如日本特開2001-62370號公報所公開的CAP涂布器。
該CAP涂布器為，在貯存涂布液的液槽中嵌入有毛細(xì)管狀間隙的噴嘴，將噴嘴提升到由吸盤使被涂布面保持成向下姿勢的基板上的該被涂布面附近，同時，通過毛細(xì)管狀間隙接收涂布液，接著，通過噴嘴在被涂布面上方來回噴掃以形成涂布膜，由于通過被涂布面與噴嘴前端的間隙就能夠可靠地調(diào)整涂布厚度，與旋轉(zhuǎn)涂布相比，具有能夠可靠地設(shè)定膜厚的效果。
另外，該CAP涂布器具有使吸盤在上下方向回轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)機構(gòu)，從而在設(shè)置基板之際，使吸盤回轉(zhuǎn)到吸著面向上的狀態(tài)，同時，在該吸著面上使被涂布面向上地方式放置基板，這樣一來，基板的設(shè)置一旦結(jié)束，就使吸盤再次回轉(zhuǎn)到吸著面向下的狀態(tài)來進(jìn)行涂布，非常便利。
該CAP涂布器雖然具有上述的便利，但另一方面來說，因回轉(zhuǎn)機構(gòu)的差動等，在涂布中吸盤也會微動，這將影響到薄膜的質(zhì)量。
為了避免這種現(xiàn)象，如在吸著面向下的狀態(tài)下固定吸盤，由于其通常被水平地保持，這樣確實避免了基板的晃動，進(jìn)而提高了生產(chǎn)效率。為此，希望實現(xiàn)如此技術(shù)。
但是，如此技術(shù)的實現(xiàn)存在著下面的技術(shù)問題。
即，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，如

圖16所示意示出的，向下吹送的氣流D由吸盤71的上表面遮住，遮住的氣流D回到吸著面71a側(cè)，在該場所形成漩渦，但在固定吸盤71使吸著面71a向下時，基板72的被涂布面72a通常成為向下的狀態(tài)，從而涂布膜成漩渦狀。因此，在涂布后任由向下吹風(fēng)干燥涂布膜之際，因漩渦使膜厚不勻。
本發(fā)明克服了上述的技術(shù)問題，其目的在于提供一種在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，將以被涂布面保持在向下姿勢的基板的被涂布面上形成的涂布膜不會被不勻干燥的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第1方案的涂布膜的干燥方法為，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)將被涂布面保持在向下姿勢的基板的所述被涂布面上形成的涂布膜干燥，其特征在于，在形成所述涂布膜后，在保持該基板的姿勢的狀態(tài)下，邊抑制所述向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上邊干燥所述涂布膜。
采用本發(fā)明的第1方案的涂布膜的干燥方法的話，由于是邊抑制向下吹風(fēng)回到被涂布面邊干燥涂布膜，從而在干燥之際涂布膜不會因向下吹風(fēng)產(chǎn)生漩渦。因此，可使涂布膜均勻地干燥。
本發(fā)明的第2方案的涂布膜的干燥方法為，在第1方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，形成在所述被涂布面上的所述涂布膜為，通過毛細(xì)管現(xiàn)象使貯存在所述被涂布面下方的涂布液上升，上升的涂布液經(jīng)噴嘴與前述被涂布面接觸的狀態(tài)下，通過該噴嘴在上升被涂布面上來回掃噴而成。
采用本發(fā)明的第2方案的涂布膜的干燥方法的話，由于可由噴嘴與被涂布面的間隔來設(shè)定涂布膜的厚度，可使形成的涂布膜的厚度正確。
本發(fā)明的第3方案的涂布膜的干燥方法為，在第1或第2方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，通過從形成所述涂布膜的所述被涂布面的下方向該涂布膜供給凈化空氣，可抑制所述向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上。
采用本發(fā)明的第3方案的涂布膜的干燥方法的話，從形成涂布膜的被涂布面的下方向該被涂布膜供給的凈化氣體與涂布膜接觸時沿著該涂布膜向其周緣方向流動。并且，由于沿著該被涂布面的凈化氣體的流動和向下吹風(fēng)在被涂布面的周緣附近碰撞，從而可抑制向下吹風(fēng)回到被涂布面上。由此，阻止了漩渦的發(fā)生，從而可使涂布膜均勻地干燥。
本發(fā)明的第4方案的涂布膜的干燥方法為，在第1或第2方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，通過用遮擋板將形成所述涂布膜的所述被涂布面的周緣部分中的所述向下吹風(fēng)遮擋，以抑制該向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上。
采用本發(fā)明的第4方案的涂布膜的干燥方法的話，形成涂布膜的被涂布面的周緣部分中的向下吹風(fēng)由于被遮擋板遮住，從而在被涂布面下方不會發(fā)生漩渦。即，由于只在遮擋板的里側(cè)產(chǎn)生漩渦，可阻止被涂布面上產(chǎn)生漩渦。因此，可使涂布膜均勻地干燥。
本發(fā)明的第5方案的涂布膜的干燥方法為，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，將貯存在被涂布面以向下姿勢保持著的基板的所述被涂布面下方的涂布液在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下上升，上升的所述涂布液經(jīng)噴嘴與所述被涂布面接觸的狀態(tài)下，通過該噴嘴在所述被涂布面上來回掃噴，以將所述涂布液涂布到所述被涂布面上而成涂布膜，其特征在于，在掃噴所述噴嘴之際，追隨著該噴嘴地方式使局部干燥所述涂布膜的干燥裝置掃射。
采用本發(fā)明的第5方案的涂布膜的干燥方法的話，使噴嘴掃噴之際，由于是將局部干燥涂布膜的干燥機構(gòu)追隨著該噴嘴的方式掃射，從而在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下從噴嘴流出的涂布液直接由干燥機構(gòu)強制干燥。因此，假如被涂布面因向下吹風(fēng)產(chǎn)生漩渦，由于涂布膜已經(jīng)干燥，因而也不會產(chǎn)生受該漩渦影響的不勻。
本發(fā)明的第6方案的涂布膜的干燥方法為，在第5方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述干燥裝置為熱板。
本發(fā)明的第7方案的涂布膜的干燥方法為，在第1～第7方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述涂布膜為保護(hù)膜。
本發(fā)明的第8方案的涂布膜的干燥方法為，在第1～第7方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述基板為在透光性基板的一面形成遮光膜而成的光掩模板。
本發(fā)明的第9方案的涂布膜的形成方法的特征在于，按照權(quán)利要求1～8任一所述的涂布膜的干燥方法干燥所述涂布膜后，解除所述基板的保持，接著，將該基板與導(dǎo)電性部件接觸。
采用本發(fā)明的第9方案的涂布膜的形成方法的話，在基板與導(dǎo)電性部件接觸時，該基板上帶電的電荷會緩緩地流向?qū)щ娦圆考?。因此，防止了因靜電破壞導(dǎo)致的涂布膜破損現(xiàn)象，可提高有效利用率。
本發(fā)明的第10方案的光掩模的制造方法的特征在于，使用權(quán)利要求8所述的涂布膜的干燥方法，包含有在所述光掩模的所述遮光膜上形成作為所述涂布膜的保護(hù)膜的工序。
本發(fā)明的第11方案的涂布裝置為，設(shè)置在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，具有將基板保持在其被涂布面面朝下的姿勢的保持機構(gòu)，在由所述保持機構(gòu)保持的所述基板的所述被涂布面上涂布涂布液的涂布機構(gòu)，其特征在于，還具有抑制所述向下吹風(fēng)回到由所述涂布機構(gòu)涂布上所述涂布液的所述被涂布面上的抑制機構(gòu)。
采用本發(fā)明的第11方案的涂布裝置的話，由于通過抑制機構(gòu)，抑制了向下吹風(fēng)回到被涂布面上，從而在由保持機構(gòu)保持基板的狀態(tài)下干燥涂布膜之際，該涂布膜不會因向下吹風(fēng)產(chǎn)生漩渦。因此，可使涂布膜均勻地干燥。
本發(fā)明的第12方案的涂布裝置為，設(shè)置在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，具有將基板保持在其被涂布面面朝下的姿勢的保持機構(gòu)，配置在由所述保持機構(gòu)保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，貯存在所述液槽中的涂布液在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下被上升到所述被涂布面的同時液體與所述被涂布面接觸的噴嘴，和通過將所述噴嘴在所述被涂布面上來回掃噴以將所述涂布液涂布到所述被涂布面上的掃噴機構(gòu)，其特征在于，還具有局部干燥所述涂布膜的干燥機構(gòu)，同時，所述干燥機構(gòu)的結(jié)構(gòu)為追隨所述噴嘴的掃噴而在所述被涂布面下掃射。
采用本發(fā)明的第12方案的涂布裝置的話，由于在噴嘴掃噴之際，追隨著該噴嘴的方式，局部干燥涂布膜的干燥機構(gòu)也掃射，從而在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下從噴嘴流出的涂布液直接由干燥機構(gòu)強制干燥。因此，在由保持機構(gòu)保持基板的狀態(tài)下干燥涂布膜之際，即使假如被涂布面因向下吹風(fēng)產(chǎn)生漩渦，由于涂布膜已經(jīng)干燥，從而不會產(chǎn)生受該漩渦影響的不勻。
附圖簡述圖1為本發(fā)明第1實施例的涂布裝置的左側(cè)視圖，圖2為第1實施例的涂布裝置的主視圖，圖3為說明吸盤構(gòu)造的剖視圖，圖4為示出吸盤吸著面的視圖，圖5為示出涂布機構(gòu)主要部分的透視圖，圖6為示出涂布機構(gòu)主要部分的主視圖，圖7為沿著圖6的X-X線的剖視圖，圖8為液槽示意地剖視圖，圖9為液槽示意地剖視圖，圖10為說明保護(hù)膜液的循環(huán)形式的模式圖，圖11為說明干燥時光掩模板周圍的氣流流動的模式圖，
圖12為說明從吸盤上剝離光掩模板的工序的模式圖，圖13為說明光掩模板帶電的電荷流動的模式圖，圖14為說明本發(fā)明第2實施例的模式圖，圖15為說明第3實施例的模式圖，圖16為說明以往技術(shù)的技術(shù)問題的視圖。
符號說明10、涂布裝置 12、支承塊 14、移動框架16、螺桿 17、馬達(dá)19、吸盤20、光掩模板 21、氣流發(fā)生裝置22、涂布機構(gòu)47、噴嘴 64、遮擋板 65、熱板(干燥機構(gòu))具體實施方式
下面，參照圖1～圖5說明本發(fā)明的涂布裝置。該涂布裝置是在感光性樹脂的制造工序中使用的裝置，設(shè)置在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，是一種在感光性樹脂的被涂布面(主表面)上涂布保護(hù)膜的裝置。
第1實施例圖1為涂布裝置的左側(cè)視圖，圖2為涂布裝置的主視圖。
正如圖1和圖2所示，該涂布裝置10以設(shè)置在水平的地板面上的基座11為基礎(chǔ)而構(gòu)成，在該基座11上設(shè)有左右一對支承塊12，12和可在線性道路13，13上沿前后方向(在圖1中為左右方向)移動的左右一對移動框架14，14。
支承塊12，12均由高導(dǎo)電性的樹脂構(gòu)成，由此構(gòu)成導(dǎo)電性部件。如圖2所示，支承塊12，12具有大致三角形的斷面，沿前后方向(圖1中左右方向)延伸地設(shè)置在基座11上的適當(dāng)位置。更詳細(xì)地說，這些支承塊以相互隔開比后述的光掩模板20的寬度稍窄的間隙而平行設(shè)置。
左右一對移動框架14，14靠梁15連接成一體。這些移動框架14，14通過馬達(dá)17帶動位于基座11的左側(cè)面上的螺桿16回轉(zhuǎn)而沿著線性道路13，13移動。即，在左側(cè)的移動框架14上設(shè)有移動部18，移動部18具有與螺桿16螺紋連接的內(nèi)螺紋部，該移動部18通過隨著螺桿16的回轉(zhuǎn)而螺旋進(jìn)給，帶動移動框架14在前后方向移動。
這些移動框架14，14、螺桿16和馬達(dá)17構(gòu)成掃噴機構(gòu)。
在兩端靠移動框架14，14支承的梁15的中央裝有作為保持機構(gòu)的吸盤19。該吸盤19被固定成其吸著面19a在向下姿勢下就不能回轉(zhuǎn)。通過吸盤19吸著基板的光掩模板20而將其保持著。并且，吸盤19在保持光掩模板20的正常狀態(tài)下，隨著移動框架14，14的移動，而與之成一體地沿前后方向移動。
在此，光掩模板20是在通過精密研磨石英玻璃等而獲得的透光性基板的一面上成形的由鉻(Cr)等構(gòu)成的遮光膜的構(gòu)件，為將微細(xì)圖案轉(zhuǎn)印到半導(dǎo)體晶片之際使用的光掩模為基礎(chǔ)的原板。
下面，說明吸盤19的吸著構(gòu)造。圖3為示出吸盤19周圍的剖視圖，圖4示出吸盤19的里面即吸著面19a。如圖3所示，吸著面19a上開有多個吸著孔191，這些吸著孔191有規(guī)則且均勻地遍布吸盤19的整個表面地方式配置。另外，在吸盤19的內(nèi)部設(shè)有劃分成多個區(qū)間的吸著空間192。
具體為，如圖4所示，第1區(qū)間由設(shè)置在吸著面19a的面前側(cè)中央的4個吸著空間192構(gòu)成，各吸著空間192由較細(xì)的空氣路徑193連通。并且，這4個吸著空間192的各部分分別開有4個吸著孔191。
構(gòu)成第1區(qū)間的吸著空間192如圖3所示，與吸入空氣的吸管194連通，該吸管194經(jīng)手動閥195而穿入梁15的內(nèi)部。并且，該穿通的吸管194從左方的移動框架14的左側(cè)伸出而與真空泵196相連。
吸盤19的第2區(qū)間如圖4所示，設(shè)置成將第1區(qū)間圍成コ字形，并且由6個吸著空間192構(gòu)成。這些吸著空間192也通過空氣路徑203而相互連通，同時，經(jīng)吸管194與真空泵196相連。同樣，可構(gòu)成第3區(qū)間、第4區(qū)間等等。
再參照圖1，在基座11的內(nèi)部設(shè)有作為抑制裝置的氣流發(fā)生裝置21和作為涂布裝置的涂布機構(gòu)22。
氣流發(fā)生裝置21是在與凈化室的向下吹風(fēng)相反的方向上即向上供給凈化氣體的。具體為，氣流發(fā)生裝置21具有產(chǎn)生向上氣流的風(fēng)扇和設(shè)置在該風(fēng)扇上方的空氣過濾器。在此，作為空氣過濾器，最好使用HEPA過濾器(High Efficency Particulate Airfillter)。
作為這種氣流發(fā)生裝置21。例如可采用エアテツク的“SS-MAC-10FR”。
下面，對涂布機構(gòu)22進(jìn)行說明。圖5為涂布機構(gòu)22的透視圖，圖6為涂布機構(gòu)22的主視圖，圖7為沿著圖6中的X-X線的剖視圖。
如圖5至圖7所示，涂布機構(gòu)22以設(shè)置在基座11的左右方向上的基板23為基礎(chǔ)而成?；?3的上表面設(shè)有左右一對移動栓24，25。
右側(cè)的移動栓25可沿著以左右方向配置在基板23的上表面上的線性道路26移動。另外，移動栓25的上表面成為向左傾斜的斜面25a。在該斜面25a上也設(shè)有線性道路27。
左側(cè)的移動栓24也同樣相對基板23可在左右方向沿著線性道路28移動，另外，斜面24a上設(shè)有線性道路29。
這些移動栓24，25由連接軸30貫穿。連接軸30的外周面上刻設(shè)外螺紋槽，同時，移動栓24，25的貫穿部分刻設(shè)內(nèi)螺紋槽，這些螺紋槽螺紋連接。因此，通過伺服馬達(dá)31轉(zhuǎn)動連接軸30，移動栓24，25各自就沿著線性道路28，26在左右方向上螺旋進(jìn)給。
在移動栓24，25的上方設(shè)有支承板32。該支承板32具有L字形的斷面，由平行于基板23設(shè)置的第1支承板33和垂直于該第1支承板33設(shè)置的第2支承板34構(gòu)成。
在第1支承板33的里面設(shè)有左右一對支承腳35，36。支承腳35，36的下表面成斜面，可分別沿著線性道路29，27滑動。
另外，上下移動用的引導(dǎo)軸37設(shè)置成從第1支承板33的里面中央部跨到基板23的上表面。支承板32只能沿著該引導(dǎo)軸37上下移動。
在第2支承板34的上端部分，如圖7所示，固定著貯存有作為涂布液的保護(hù)膜液的液槽38。將在后面說明該液槽38。
另外，第2支承板34通過各自朝左右方向延伸的左右一對線性道路39，39而與左右移動板40連接。左右移動板40與氣缸41相連，隨著該氣缸41的驅(qū)動，該左右移動板40只能沿著線性道路39，39朝左右方向移動。
左右移動板40通過各自向右傾斜的左右一對線性道路42，42而與上下移動板43連接。該上下移動板43不能在左右方向移動，只能沿著直立設(shè)置在第1支承板33的上表面上的左右一對引導(dǎo)軸44，44在上下方向上移動。
從上下移動板42的左端部和右端部分別向上延伸出噴嘴支承軸45，46。通過左右一對噴嘴支承軸45，46支承著噴嘴47。
下面，對前述液槽38周圍的構(gòu)造進(jìn)行說明。圖8和圖9示出液槽38的剖視圖，圖10示意地示出液槽38內(nèi)的循環(huán)方式。
在第2支承板34的上端部分朝左右方向延伸的液槽38如圖8和圖9所示，具有基本上為梯形的斷面。并且，其上端部形成朝左右方向延伸的狹縫48。該狹縫48可由設(shè)置在液槽38外方的蓋件49封閉。
在液槽38的內(nèi)部內(nèi)藏噴嘴47。該噴嘴47由隔開在左右方向延伸的毛細(xì)管狀間隙50而對置的成前后一對的前噴嘴部件471和后噴嘴部件472構(gòu)成。這些前噴嘴部件471和后噴嘴部件472的形狀為前后對稱形狀，成為越向上越尖成鳥嘴狀的斷面形狀。
在噴嘴47的左端部和右端部固定著前述的左右一對噴嘴支承軸45，46。這些支承軸45，46穿過形成在液槽38的底面上的左右一對貫通孔51，52。為了使保護(hù)膜液(涂布液)不會從貫通孔51，52漏出，將圍住各噴嘴支承軸45，46的蛇腹?fàn)畹姆忾]部件53，54設(shè)置成從噴嘴47的底面遍布到液槽38的底面。由此，即使噴嘴支承軸45，46上下動作，因蛇腹?fàn)畹姆忾]部件53，54隨之在上下方向伸縮，從而保護(hù)膜液也不會從貫通孔51，52中漏出。
此外，如圖10所示，來自貯存保護(hù)膜液的箱55中的保護(hù)膜液通過泵56泵出，泵出的保護(hù)膜液通過過濾器57從在液槽38的側(cè)面開口的供給口58流出。并且，在液槽38的底面開有循環(huán)口59，保護(hù)膜液從該循環(huán)口59循環(huán)回箱55中。
此外，在液槽38的側(cè)面上部形成貫通孔60，由此突出L字形的高度調(diào)整管61。在該高度調(diào)整管61的上端開口。并且，在高度調(diào)整管61的外部側(cè)面上設(shè)有檢測保護(hù)膜液的液高的傳感器62。
即，在液槽38中貯滿保護(hù)膜液時，在高度調(diào)整管61中貯滿與之同高的保護(hù)膜液，此時的液高由傳感器62檢測出，并將檢測結(jié)果傳送到由微型計算機構(gòu)成的馬達(dá)控制部63。馬達(dá)控制部63根據(jù)傳感器62的檢測結(jié)果驅(qū)動泵56的馬達(dá)64，以將涂布液向液槽38供給到預(yù)先設(shè)定的高度。
盡管圖中未示出，但該涂布裝置10還具有輸入部、和根據(jù)來自該輸入部的輸入信號以全面管理前述的馬達(dá)17、氣流發(fā)生裝置21、真空泵206、伺服馬達(dá)31和氣缸41的動作的控制部。
下面，對涂布裝置10的動作進(jìn)行說明。
其前提是，液槽38中貯滿達(dá)到規(guī)定高度的保護(hù)膜液的同時，噴嘴47成為完全嵌入保護(hù)膜液中的狀態(tài)。
首先，圖中未示出的控制部根據(jù)操作者的操作驅(qū)動馬達(dá)17，在將吸盤19處于圖1中的基材位置A的同時，驅(qū)動真空泵206。在此，操作者使被涂布面向下的狀態(tài)下將光掩模板20吸附到吸著面19a上。由此，光掩模板20由吸盤19保持著。
另外，作為在此的被涂布面為在基板的表面中涂布了涂布液的表面。具體為，光掩模板20的被涂布面為光掩模板20的表面中涂布了保護(hù)膜液的表面，即形成鉻膜的表面。
接著，控制部再次驅(qū)動馬達(dá)20，在前后方向移動吸盤19，以使噴嘴47的前端位于被涂布面的涂布開始位置上。
之后，控制部將封閉狹縫48的蓋件49開啟，通過驅(qū)動伺服馬達(dá)31，使左右一對移動栓24，25在斜面24a，25a傾斜的方向(在圖6中為左方向)上移動。隨之，限制其在左右方向移動的支承板3 2沿著線性道路29，27向上移動。由此，固定在支承板32上的液槽38被上升到光掩模板20的下方。
接下來，控制部一旦停止液槽38的上升，就只是噴嘴47從液槽38中突出。
詳細(xì)地講，控制部通過驅(qū)動氣缸41，使左右移動板40在線性道路42的傾斜方向(在圖6中為右方向)上移動。這樣，由于上下移動板43被限制了在左右方向上的移動，只能沿著線性道路42的傾斜面導(dǎo)引著上升。隨之，因固定在上下移動板43上的噴嘴支承軸45，46上升，從而由其支承的噴嘴47也上升。
在此，因噴嘴47完全嵌入保護(hù)膜液中，從而在毛細(xì)管狀間隙50中就充滿了保護(hù)膜液。即，噴嘴47是在充滿保護(hù)膜的狀態(tài)下上升到毛細(xì)管狀間隙50的前端。
然后，控制部通過只停止噴嘴47上升而使液槽38再次上升，以在光掩模板20的被涂布面上接觸上保護(hù)膜液。即，控制部使充滿噴嘴47的毛細(xì)管狀間隙50中的保護(hù)膜液與被涂布面接觸。
在此，液槽38的上升速度和上升距離要求進(jìn)行相當(dāng)微妙的調(diào)整，但正如前述，驅(qū)動伺服馬達(dá)31時，因支承板32沿著移動栓24，25的斜面24a，25a上下動作，從而能夠可靠且容易地進(jìn)行這種微妙的調(diào)整。另外，由于是在左右方向為水平狀態(tài)下使液槽38上升，保護(hù)膜的膜厚在左右方向就不會變化。
接著，控制部使保護(hù)膜液與光掩模板20的被涂布面液體接觸的狀態(tài)下，使液槽38與噴嘴47一同下降到涂布高度的位置上。即，很顯然，噴嘴47的前端與被涂布面的間隔成為了涂布厚度。
然后，通過控制部驅(qū)動馬達(dá)17，以在一定速度下移動吸盤19。由此，被涂布面上涂布上保護(hù)膜液。
此時，因吸盤19固定到梁15上，不會發(fā)生如差動那樣的晃動，能將光掩模板20的前后方向的姿勢和左右后方的姿勢通常都維持在水平。
接著，控制部在吸盤19到達(dá)涂布結(jié)束位置時，使馬達(dá)17的驅(qū)動停止。在此，涂布結(jié)束的位置稱作保護(hù)膜液的涂布結(jié)束之際的吸盤19的位置。具體為，最好將氣流發(fā)生裝置21的附近作為涂布結(jié)束位置。在如此將涂布結(jié)束位置處于氣流發(fā)生裝置21的正上方時，在涂布結(jié)束后，可直接轉(zhuǎn)換成保護(hù)膜的干燥。
之后，控制部驅(qū)動氣流發(fā)生裝置21。由此，可實現(xiàn)保護(hù)膜無不勻的干燥。
參照圖11說明其原理。在圖11中，符號D所示的箭頭表示向下吹風(fēng)流，符號U所示的箭頭表示由氣流發(fā)生裝置21供給的凈化氣體流。如圖11所示，由氣流發(fā)生裝置21從光掩模板20的下方向該保護(hù)膜供給向上的凈化氣體觸及被涂布面時，就沿著該被涂布面向其周緣方向流動。因此，沿著該被涂布面的凈化氣體流與向下吹風(fēng)在光掩模板20的周緣部分碰撞，從而可抑制向下吹風(fēng)回流向保護(hù)膜。由此，阻止了漩渦的發(fā)生，從而可均勻地干燥保護(hù)膜。
然后，控制部在驅(qū)動氣流發(fā)生裝置21經(jīng)過規(guī)定的時間后，就停止驅(qū)動該氣流發(fā)生裝置21，同時，切換真空泵206內(nèi)的圖中未示出的閥，以從吸著孔201排放出氣流。由此，如圖12所示，將光掩模板20從吸盤19上剝離，放置于左右一對支承塊12，12上。如此，結(jié)束一連串的涂布動作。
在此，因支承塊12，12由高導(dǎo)電性的樹脂構(gòu)成，在光掩模板20與支承塊12，12接觸之際，在光掩模板20上帶電的電荷會慢慢地流向支承塊12，12。由此，可防止靜電破壞。
即，如支承塊12，12由低導(dǎo)電性的原材料構(gòu)成時，在光掩模板20從吸盤19上剝離之際，如圖13(a)所示，光掩模板20上帶電的電荷會一同流向該支承塊，從而在光掩模板20與該支承塊的接觸場所就會發(fā)生靜電破壞。這樣一來，光掩模板20的鉻膜會被溶化，形成小洞。
而在支承塊由高導(dǎo)電性的原材料制造時，如圖13(b)所示，光掩模板20上帶電的電荷會緩緩地流向支承塊12，12，從而防止了靜電破壞，這樣可提高有效利用率。
采用以上說明的涂布裝置10的話，由于是在吸著面19a向下的狀態(tài)將吸盤19固定到梁15上的，吸盤19通常無論如何也不會晃動地維持在水平。因此，能夠可靠地避免涂布之際光掩模板20發(fā)生微動現(xiàn)象，提高了薄膜質(zhì)量，進(jìn)而提高了有效利用率。
此外，由于在被涂布面向下的狀態(tài)下可實現(xiàn)無不勻的保護(hù)膜的干燥，因此在涂布結(jié)束后，可具有不必搬運光掩模板20就可直接轉(zhuǎn)換成保護(hù)膜干燥的便利。
第2實施例第2實施例的涂布裝置的結(jié)構(gòu)與第1實施例的涂布裝置10的結(jié)構(gòu)相同，對于重復(fù)的部分采用同一符號加以說明。
第2實施例的涂布裝置是將在吸盤19的周緣部分裝有遮住向下吹風(fēng)的遮擋板64來取代所裝載的氣流發(fā)生裝置21。該遮擋板64在俯視圖中為從吸盤19整個周邊溢出地方式安裝到該吸盤19上。具體如圖14所示，遮擋板64在吸盤19的上表面的周緣部分與該吸盤19相平行地設(shè)置。
該遮擋板64構(gòu)成抑制機構(gòu)。
采用第2實施例的涂布裝置的話，由于通過吸盤19的周緣部分的向下吹風(fēng)由遮擋板64遮擋，因此在光掩模板20的下方不會發(fā)生漩渦。即，如圖14所示，由遮擋板64遮住的向下吹風(fēng)回到該遮擋板64的里面，只在該場所形成漩渦，可避免保護(hù)膜處形成漩渦。因此，可使保護(hù)膜無不勻地自然干燥。
另外，安裝遮擋板64的場所并沒有特別地限定。例如，可裝到吸盤19的側(cè)面。此外，在吸盤19的尺寸相對光掩模板20足夠大時，確保在該吸著面19a的周緣部分不設(shè)置吸著口的區(qū)域，也可獲得與上述同樣的效果。
可在涂布裝置上裝載有氣流發(fā)生裝置21和遮擋板64這兩者。此時，可進(jìn)一步可靠地防止干燥時保護(hù)膜發(fā)生不勻現(xiàn)象。
第3實施例第3實施例的涂布裝置的結(jié)構(gòu)與第1實施例的涂布裝置10相同，因此，對于重復(fù)部分用同一符號加以說明。
第3實施例的涂布裝置的特征為，裝載熱板來替代所裝載的氣流發(fā)生裝置21。
該熱板用于局部強制干燥保護(hù)膜，由此構(gòu)成干燥機構(gòu)。
該熱板設(shè)置成在基座11的左右方向以具有與光掩模板20的寬度大致相同的長度分布。另外，該熱板設(shè)置在比噴嘴47還靠近涂布時的吸盤19的移動方向側(cè)，并處于該噴嘴47的附近。
并且，由于使該熱板固定，所以在涂布時，熱板可與噴嘴47一同相對被涂布面相對移動。具體為，涂布時，熱板隨著噴嘴47的掃噴而在被涂布面下方來回掃射。
采用第3實施例的涂布裝置的話，如圖15所示，噴嘴47掃噴之際，由于熱板65追隨著該噴嘴47掃射，從而在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下，從噴嘴47流出的涂布液R中的溶劑被直接蒸發(fā)除去。因此，在將光掩模板20保持在吸盤19上的狀態(tài)下干燥保護(hù)膜之際，假如被涂布面因向下吹風(fēng)產(chǎn)生漩渦，由于該保護(hù)膜已經(jīng)干燥，不會受漩渦的影響而產(chǎn)生不勻現(xiàn)象。
另外，涂布裝置上可以裝有熱板65和氣流發(fā)生裝置21與遮擋板64的至少其中之一。此時，可進(jìn)一步可靠地防止干燥時產(chǎn)生的保護(hù)膜的不勻現(xiàn)象。
以上，對本發(fā)明的較佳實施例進(jìn)行了說明，但本發(fā)明的技術(shù)思想并不受此限制。例如，可由氣流發(fā)生裝置21供給暖風(fēng)或熱風(fēng)。此時，可快速干燥保護(hù)膜。
采用本發(fā)明的話，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，可將被涂布面以向下姿勢保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均勻地干燥。
權(quán)利要求
1.一種涂布膜的干燥方法，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，將被涂布面保持在向下姿勢的基板的所述被涂布面上形成的涂布膜干燥，其特征在于，在形成所述涂布膜后，在保持該基板的姿勢的狀態(tài)下，邊抑制所述向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上邊干燥所述涂布膜。
2.按照權(quán)利要求1所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，形成在所述被涂布面上的所述涂布膜為，通過毛細(xì)管現(xiàn)象使貯存在所述被涂布面下方的涂布液上升，上升的涂布液經(jīng)噴嘴與前述被涂布面接觸的狀態(tài)下，通過該噴嘴在上升被涂布面上來回掃噴而成。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，通過從形成所述涂布膜的所述被涂布面的下方向該涂布膜供給凈化空氣，可抑制所述向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上。
4.按照權(quán)利要求1或2所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，通過用遮擋板將形成所述涂布膜的所述被涂布面的周緣部分中的所述向下吹風(fēng)遮擋，以抑制該向下吹風(fēng)回到所述被涂布面上。
5.一種涂布膜的干燥方法，在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，將貯存在被涂布面以向下姿勢保持著的基板的所述被涂布面下方的涂布液在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下上升，上升的所述涂布液經(jīng)噴嘴與所述被涂布面接觸的狀態(tài)下，通過該噴嘴在所述被涂布面上來回掃噴，以將所述涂布液涂布到所述被涂布面上而成涂布膜，其特征在于，在掃噴所述噴嘴之際，追隨著該噴嘴地方式使局部干燥所述涂布膜的干燥裝置掃射。
6.按照權(quán)利要求5所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述干燥裝置為熱板。
7.按照權(quán)利要求1～6任一所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述涂布膜為保護(hù)膜。
8.按照權(quán)利要求1～7任一所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述基板為在透光性基板的一面形成遮光膜而成的光掩模板。
9.一種涂布膜的形成方法，其特征在于，按照權(quán)利要求1～8任一所述的涂布膜的干燥方法干燥所述涂布膜后，解除所述基板的保持，接著，將該基板與導(dǎo)電性部件接觸。
10.一種光掩模的制造方法，其特征在于，使用權(quán)利要求8所述的涂布膜的干燥方法，包含有在所述光掩模的所述遮光膜上形成作為所述涂布膜的保護(hù)膜的工序。
11.一種涂布裝置，設(shè)置在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，具有將基板保持在其被涂布面面朝下的姿勢的保持機構(gòu)，在由所述保持機構(gòu)保持的所述基板的所述被涂布面上涂布涂布液的涂布機構(gòu)，其特征在于，還具有抑制所述向下吹風(fēng)回到由所述涂布機構(gòu)涂布上所述涂布液的所述被涂布面上的抑制機構(gòu)。
12.一種涂布裝置，設(shè)置在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，具有將基板保持在其被涂布面面朝下的姿勢的保持機構(gòu)，配置在由所述保持機構(gòu)保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，貯存在所述液槽中的涂布液在毛細(xì)管現(xiàn)象作用下被上升到所述被涂布面的同時液體與所述被涂布面接觸的噴嘴，和通過將所述噴嘴在所述被涂布面上來回掃噴以將所述涂布液涂布到所述被涂布面上的掃噴機構(gòu)，其特征在于，還具有局部干燥所述涂布膜的干燥機構(gòu)，同時，所述干燥機構(gòu)的結(jié)構(gòu)為追隨所述噴嘴的掃噴而在所述被涂布面下掃射。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法以及涂布膜形成裝置。在構(gòu)成向下吹風(fēng)的凈化室內(nèi)，可將被涂布面以向下姿勢保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均勻地干燥。涂布裝置具有將基板(20)以其被涂布面向下的姿勢保持的吸盤(19)，和在由該吸盤(19)保持的基板(20)的被涂布面上涂布涂布液的涂布機構(gòu)(22)，還具有朝向被涂布面供給凈化空氣的氣流發(fā)生裝置(21)。
文檔編號B05D3/02GK1433849SQ0214309
公開日2003年8月6日 申請日期2002年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月3日
發(fā)明者元村秀峰 申請人:保谷株式會社