定涂布的膜的厚 度后，將經(jīng)過涂布的娃片浸潰在丙二醇單甲酸乙酸醋中1分鐘。1分鐘后，完全去除丙二醇單 甲酸乙酸醋后測(cè)定厚度的結(jié)果為，實(shí)施例4和5的組合物中均沒有觀察到厚度上的變化?；?于運(yùn)種結(jié)果，可W說明所制得的組合物在涂布后在烘賠工序中完全被固化，由此可W確認(rèn)， 在材料的涂布工序中不會(huì)與其它膜質(zhì)發(fā)生相互混合(intermixing)等。
[0。引[實(shí)驗(yàn)例2]耐熱性的測(cè)定(TG)
[0136]將在所述實(shí)施例4、5中制得的組合物分別旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上，并在200°C的熱板上 烘賠60秒，W及在400°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)后，為了確認(rèn)耐熱性，選取經(jīng)過涂布 的組合物并實(shí)施熱重(TG)分析直到400°C為止。將其結(jié)果示于圖1中，并確認(rèn)了實(shí)施例4和5 的兩個(gè)組合物直到400°C為止所產(chǎn)生的熱量損失均在1%W下，并且可W知道由于耐熱性 高，因此熱穩(wěn)定性高。
[0。7][實(shí)驗(yàn)例3]剝離試驗(yàn)
[0138]將在所述實(shí)施例6、7中制得的組合物旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在240°C的熱板上烘賠 60秒而使其交聯(lián)，從而形成碳膜。測(cè)定涂布的膜的厚度后，將經(jīng)過涂布的娃片浸潰在丙二醇 單甲酸乙酸醋中1分鐘。1分鐘后，完全去除丙二醇單甲酸乙酸醋后測(cè)定厚度的結(jié)果為，實(shí)施 例6和7的組合物中均沒有觀察到厚度上的變化。基于運(yùn)種結(jié)果，可W說明所制得的組合物 在涂布后的烘賠工序中完全被固化，由此可W確認(rèn)，在材料的涂布工序中不會(huì)與其它膜質(zhì) 發(fā)生相互混合等。
[0。9][實(shí)驗(yàn)例4]收縮率試驗(yàn)
[0140] 將在所述實(shí)施例4、5中制得的組合物分別旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在200°C的熱板上 烘賠60秒后，測(cè)定膜的厚度。然后在340°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成碳膜后， 測(cè)定(科天公司化LA_Tencor公司），SPECTRA FX100)膜的厚度，從而確認(rèn)經(jīng)過涂布的薄膜的 收縮率。其結(jié)果如表1中所示。
[0141] 表1
[0142]
[0143] 參見表1，可W知道由實(shí)施例5的組合物形成的碳薄膜比由實(shí)施例4的組合物形成 的碳薄膜顯示出低的收縮率。
[0144] [實(shí)驗(yàn)例引耐蝕刻性試驗(yàn)
[0145] 將在所述實(shí)施例4、5中制得的組合物分別旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在200°C的熱板上 烘賠60秒，W及在340°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成碳薄膜。
[0146] 接著，使用Ar/N2/化混合氣體對(duì)所述薄膜進(jìn)行干式蝕刻15秒后，測(cè)定薄膜的厚度。 另外，使用CF4/ArA)2混合氣體對(duì)所述薄膜進(jìn)行干式蝕刻15秒后，測(cè)定薄膜的厚度。其結(jié)果如 表2中所示。
[0147]表2
[014 引
[0149]
[0150] *蝕刻率:（初期薄膜厚度-蝕刻后的薄膜厚度)/蝕刻時(shí)間(秒）
[0151] 參見表2,可W知道由實(shí)施例5的組合物形成的碳薄膜比由實(shí)施例4的組合物形成 的碳薄膜具有高的耐蝕刻性。
[0礎(chǔ)[實(shí)驗(yàn)例6]耐蝕刻性試驗(yàn)
[0153] 將在所述實(shí)施例6、7中制得的組合物分別旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在240°C的熱板上 烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成碳薄膜。
[0154] 接著，使用Ar/N2/化混合氣體對(duì)所述薄膜進(jìn)行干式蝕刻30秒后，測(cè)定薄膜的厚度。 另外，使用CF4/ArA)2混合氣體對(duì)所述薄膜進(jìn)行干式蝕刻30秒后，測(cè)定薄膜的厚度。其結(jié)果如 表3中所示。
[0155] 表3
[0156]
[0157] *蝕刻率:（初期薄膜厚度-蝕刻后的薄膜厚度)/蝕刻時(shí)間(秒）
[0158] 參見表3,可W知道由實(shí)施例6的組合物形成的碳薄膜和由實(shí)施例7的組合物形成 的碳薄膜均具有高的耐蝕刻性。
[0159] [實(shí)驗(yàn)例7]碳含量的確認(rèn)
[0160] 將在所述實(shí)施例4中制得的組合物旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在200°C的熱板上烘賠60 秒，W及在340°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成薄膜。然后，用AES深度化epth)裝 備（美國(guó)熱電集團(tuán)（Thermo Electron coloration)，MICR0LAB 350)測(cè)定C、N及0元素的含 量。并將其結(jié)果示于圖2中，并且可W確認(rèn)形成了碳含量非常高的膜質(zhì)，其中，C含量為 90.5%，0含量為9.5%。
[0161] [實(shí)驗(yàn)例引接觸角的測(cè)定
[0162] 將在所述實(shí)施例4、5中制得的組合物分別旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在200°C的熱板上 烘賠60秒，W及在340°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成薄膜。用克呂± WRUSS)公 司(FM40Easy drop)的接觸角測(cè)定儀測(cè)定所述薄膜的接觸角。其結(jié)果如表4中所示。
[016；3]表 4
[0164]
[0165] 如表4中所示，可W知道由實(shí)施例4的組合物形成的碳薄膜和由實(shí)施例5的組合物 形成的碳薄膜的接觸角彼此相似。
[016引[實(shí)驗(yàn)例9]除氣(Out gas)量的測(cè)定
[0167]將所述實(shí)施例4中制得的組合物旋轉(zhuǎn)涂布于娃片上后，在200°C的熱板上烘賠60 秒，W及在340°C的熱板上烘賠60秒而使其交聯(lián)，從而形成薄膜。將涂布有所述薄膜的娃片 切成1cmX 1cm的試片后，利用普發(fā)真空（Pfeiffer vacuum)公司（QMA-200)的質(zhì)量分析裝置 測(cè)定除氣(Out gas)量。并將其結(jié)果示于圖3中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種聚合物，其特征在于，所述聚合物用下述化學(xué)式1或下述化學(xué)式2來表示： [化學(xué)式1]所述化學(xué)式1及化學(xué)式2中， A或財(cái)目互獨(dú)立地為(C6-C20)亞芳基或(C3-C20)雜亞芳基； C為（C1-C20)亞烷基或（C6-C20)亞芳基； 所述A或B的亞芳基及雜亞芳基和C的亞芳基可W進(jìn)一步被徑基、面素、（C1-C20)烷基、 (C1-C20)烷氧基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C6-C20)芳基及(C3-C20)雜芳基取代； 所述P、q及r為0~5的整數(shù)，但是P和q不同時(shí)為0; m及η為1~1000的整數(shù)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述聚合物用下述化學(xué)式3~4來表示： [化學(xué)式3][化學(xué)式3~4中， A或財(cái)目互獨(dú)立地為(C6-C20)亞芳基或(C3-C20)雜亞芳基； 所述A或B的亞芳基及雜亞芳基可W進(jìn)一步被徑基、面素、（C1-C20)烷基、（C1-C20)燒氧 基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C6-C20)芳基及(C3-C20)雜芳基取代； 所述P及q為1~5的整數(shù)； η為1~1000的整數(shù)。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的聚合物，其特征在于，所述A或Β相互獨(dú)立地選自下述結(jié)構(gòu) 式：所述結(jié)構(gòu)式中， 化~R4為氨、面素、徑基、（C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述C選自下述結(jié)構(gòu)式：所述結(jié)構(gòu)式中，Rii~化3為氨、面素、徑基或(C1-C20)烷基。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述A為B為 ' 76. -種組合物，其特征在于，所述組合物包含下述化學(xué)式1或下述化學(xué)式2所示的聚合 物： [化學(xué)式1]所述化學(xué)式1及化學(xué)式2中， A或財(cái)目互獨(dú)立地為(C6-C20)亞芳基或(C3-C20)雜亞芳基； C為（C1-C20)亞烷基或（C6-C20)亞芳基； 所述A或B的亞芳基及雜亞芳基和C的亞芳基可W進(jìn)一步被徑基、面素、（C1-C20)烷基、 (C1-C20)烷氧基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C6-C20)芳基及(C3-C20)雜芳基取代； 所述P、q及r為0~5的整數(shù)，但是P和q不同時(shí)為0; m及η為1~1000的整數(shù)。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物，其特征在于，所述組合物進(jìn)一步包含交聯(lián)劑及酸催化 劑。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其特征在于，所述組合物包含1~40重量％的聚合物、 0.1~40重量％的交聯(lián)劑、0.001~10重量％的酸催化劑及余量的溶劑。9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其特征在于，所述交聯(lián)劑選自蜜胺樹脂、氨基樹脂、甘 脈化合物及雙環(huán)氧化合物中的一種W上。10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其特征在于，所述酸催化劑選自對(duì)甲苯橫酸一水合 物（p-toluenesulfonic acid mono hydrate)、對(duì)甲苯橫酸R比晚鹽及由諸如對(duì)甲苯橫酸Ξ 乙胺鹽(p-toluenesolfonic acid hiethylamine salt)的對(duì)甲苯橫酸胺鹽組成的化合物 或2,4,4,6-四漠環(huán)己二締酬、苯偶姻甲苯橫酸醋及2-硝基芐基甲苯橫酸醋中的一種W上。11. 根據(jù)選自權(quán)利要求6~10中的任一項(xiàng)所述的組合物，其特征在于，所述組合物用于 間隙填充、雙重圖形曝光或硬掩膜。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種可以以多種用途來使用的新型聚合物及包含其的組合物，本發(fā)明的聚合物和組合物在機(jī)械、光學(xué)特性非常優(yōu)異的半導(dǎo)體裝置的制備中非常有用。
【IPC分類】C08L65/00, C08G61/10, C08G61/02
【公開號(hào)】CN105555829
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480046577
【發(fā)明人】樸柱鉉, 金銘云, 李相益, 卞泰錫, 孫丞, 權(quán)容熙, 鄭仁京, 柳俊城
【申請(qǐng)人】Dnf有限公司, Skc株式會(huì)社, 樸柱鉉
【公開日】2016年5月4日
【申請(qǐng)日】2014年8月22日
【公告號(hào)】US20160200853