用于形成坡道的樹(shù)脂組合物和用于磁盤裝置的坡道的制作方法
【專利說(shuō)明】用于形成坡道的樹(shù)脂組合物和用于磁盤裝置的坡道 發(fā)明領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及一種樹(shù)脂組合物，其適合作為用于磁盤裝置，如硬盤驅(qū)動(dòng)器的坡道 (ramp)的材料，并且進(jìn)一步涉及由所述樹(shù)脂組合物制成的、用于磁盤裝置的坡道。
【背景技術(shù)】
[0002] 如圖1和2中所示出的，磁盤裝置如硬盤驅(qū)動(dòng)器（HDD)被設(shè)計(jì)成包括用于在停止 驅(qū)動(dòng)器的操作或者非讀/寫操作中使磁頭從磁盤中移出的加載/卸載系統(tǒng)1。在加載/卸 載系統(tǒng)1中，在懸架5的末端形成的接頭5a移動(dòng)到位于磁盤3的外周邊之外的坡道4上， 由此使得磁頭2從磁盤中移出。坡道4通常包括：傾斜表面4a，接頭5a在其上滑動(dòng)；水平 表面4c，接頭5a在其上滑動(dòng)；待機(jī)部分4d，當(dāng)驅(qū)動(dòng)器不工作時(shí)磁頭2在其中待機(jī)；相對(duì)表面 4b，該相對(duì)表面4b面向數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在其上的磁盤3的主表面并確保用于允許磁盤3的外周邊 在對(duì)其無(wú)妨礙的情況下旋轉(zhuǎn)的空間；和固定部分4e，其用于將坡道4固定到HDD主體。對(duì) 坡道4的要求是容易制造和具有高的耐磨耗性，并因此通常由樹(shù)脂或樹(shù)脂組合物制成。
[0003] 在磁盤3與坡道4末端的相對(duì)表面4b之間的間隙被設(shè)成相當(dāng)?shù)匦。员闶勾蓬^2 能夠順利地在磁盤3與坡道4之間移動(dòng)。因此，如果向磁盤裝置上施加沖擊，則磁盤3和坡 道4可能彼此碰撞。磁盤3和坡道4相互之間的碰撞導(dǎo)致它們二者均受損和/或變形或產(chǎn) 生灰塵，從而對(duì)磁盤裝置的性能施加有害的影響。
[0004] 在磁盤中的讀/寫數(shù)據(jù)操作中的錯(cuò)誤例如是由于下列原因（a)至（c)造成的。 [0005](a)因包含在添加劑中的硬材料等在磁盤表面上所產(chǎn)生的傷痕而造成的讀/寫錯(cuò) 誤。
[0006] (b)由粘附到HDD中的存儲(chǔ)盤的表面和/或粘附到從盤中讀取數(shù)據(jù)和將數(shù)據(jù)寫入 盤中的磁頭的樹(shù)脂削肩造成的讀/寫錯(cuò)誤，該樹(shù)脂削肩是當(dāng)接頭在坡道表面上滑動(dòng)時(shí)，在 坡道與位于懸架末端處的接頭（由金屬制成）之間的破壞性磨耗所產(chǎn)生的。
[0007] (C)在讀/寫數(shù)據(jù)操作時(shí)，由夾在盤與磁頭之間的樹(shù)脂削肩造成的讀/寫錯(cuò)誤。
[0008] 作為制成坡道的樹(shù)脂，聚甲醛樹(shù)脂被普遍使用。聚甲醛樹(shù)脂的耐摩擦/磨耗性優(yōu) 越。然而，如果坡道僅由聚甲醛樹(shù)脂制成，則所產(chǎn)生的坡道缺乏在其上滑動(dòng)移動(dòng)的性能。出 于該原因，當(dāng)坡道由聚甲醛樹(shù)脂制成時(shí)，通常選擇由添加了潤(rùn)滑劑的聚甲醛樹(shù)脂組成的樹(shù) 脂組合物。
[0009] 作為被添加到樹(shù)脂組合物的潤(rùn)滑劑，低分子量潤(rùn)滑劑如脂肪酸酯和聚乙二醇是常 規(guī)選擇的。然而，由于磁盤的坡道是在已經(jīng)用其中含有表面活性劑的溶劑或純水來(lái)清洗之 后使用的，并且因此，包含在制成坡道的樹(shù)脂組合物中的低分子量潤(rùn)滑劑在清洗坡道時(shí)被 從坡道去除掉，導(dǎo)致了用于允許另一部件在其上滑動(dòng)的坡道的性能在用溶劑清洗坡道之后 顯著惡化的問(wèn)題。
[0010] 專利文件1至3建議了將即使用溶劑清洗也不可去除的特定的聚合物潤(rùn)滑劑加入 作為制成坡道的材料來(lái)使用的聚甲醛樹(shù)脂中的方法。然而，由于這些聚合物潤(rùn)滑劑是昂貴 的，因此不可避免地提高了制成坡道的材料的單價(jià)。
[0011] 專利文件4公開(kāi)了將無(wú)機(jī)填料加入聚甲醛樹(shù)脂以由此改進(jìn)耐摩擦/磨耗性的方 法。所示出的實(shí)施例中，將二氧化鈦或碳化硅作為無(wú)機(jī)填料加入聚甲醛樹(shù)脂。然而，這些實(shí) 施例顯示出對(duì)滑動(dòng)移動(dòng)阻力的改進(jìn)不足。
[0012] 現(xiàn)有摶術(shù)f件
[0013] 專利f件
[0014] 專利文件1:日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)2006-63107
[0015] 專利文件2:日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)2008-214471
[0016] 專利文件3:國(guó)際公開(kāi)2003/055945冊(cè)子
[0017] 專利文件4:日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)2002-197820

【發(fā)明內(nèi)容】

[0018] 本發(fā)_要解決的問(wèn)題
[0019] 鑒于上文提及的問(wèn)題，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種樹(shù)脂組合物，其適合作為制 成用于磁盤裝置的坡道的材料，并提供了允許另一部件在其上滑動(dòng)的優(yōu)越性能以及高的耐 摩擦/磨耗性，而其中不含聚合物潤(rùn)滑劑。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種由上文提及的 樹(shù)脂組合物制成的、用于磁盤裝置的坡道。
[0020] 針對(duì)I'n]題的解決方案
[0021] 為解決上文提及的問(wèn)題，本發(fā)明人進(jìn)行了研宄和調(diào)研，并發(fā)現(xiàn)向制成坡道的樹(shù)脂 中以優(yōu)選的量添加氧化鋅顆粒，即一種無(wú)機(jī)顏料，使得彈性模量變化，由此改進(jìn)了在樹(shù)脂產(chǎn) 品（坡道）表面上的耐磨耗性。
[0022] 具體地，本發(fā)明提供了：
[0023] 〈1> 一種制成用于磁盤裝置的坡道的樹(shù)脂組合物，
[0024] 所述樹(shù)脂組合物包含基礎(chǔ)聚合物和分散在基礎(chǔ)聚合物中的氧化鋅顆粒，并且特征 在于下列要求（A-1)和（A-2):
[0025] (A-1)氧化鋅顆粒在基礎(chǔ)聚合物中的含量為每100重量份的基礎(chǔ)聚合物1. 0重量 份至5.〇重量份，包括兩個(gè)端點(diǎn)；和
[0026] (A-2)氧化鋅顆粒的平均粒徑范圍為0. 01ym至3. 0ym，包括兩個(gè)端點(diǎn)。
[0027] 〈2>如〈1>中所述的樹(shù)脂組合物，其中該樹(shù)脂組合物進(jìn)一步的特征在于下列要求 (B)：
[0028] (B)在懸架末端處形成的、具有半弧形的截面并由金屬制成的接頭（Ra:算術(shù)平均 粗糙度=0.4ym)設(shè)置在由樹(shù)脂組合物制成的樣品坡道的水平表面（Ra:算術(shù)平均粗糙度 =0. 1ym)上，以使該接頭在其最低頂點(diǎn)處與水平表面形成長(zhǎng)度為50ym的線性接觸，
[0029] 進(jìn)行摩擦/磨耗測(cè)試，其中使接頭的最低頂點(diǎn)在溫度為5攝氏度、濕度等于或小于 10%RH、接觸負(fù)載為2. 4克且平均速度為200.Omm/s的條件下以1，200, 000循環(huán)在樣品坡 道的水平表面上滑動(dòng)，以及
[0030] 磨耗截面積等于或小于50ym2,該磨耗截面積是用在進(jìn)行摩擦/磨耗測(cè)試之前和 之后獲得的樣品坡道的高度輪廓之間的面積差來(lái)限定的，該高度輪廓是與接頭在樣品坡道 的水平表面上滑動(dòng)的方向垂直的截面。
[0031] 〈3>如〈1>中所述的樹(shù)脂組合物，其中基礎(chǔ)聚合物是其中包含聚甲醛的樹(shù)脂。
[0032] 〈4>如〈1>中所述的樹(shù)脂組合物，其中所述氧化鋅顆粒的平均粒徑范圍為0.03ym 至2. 0ym，包括兩個(gè)端點(diǎn)。
[0033] 〈5>如〈2>中所述的樹(shù)脂組合物，其中在要求（B)中限定的磨耗截面積等于或小于 30ym2〇
[0034] 〈6> -種用于磁盤裝置的坡道，樹(shù)脂由〈1>至〈5>中任一項(xiàng)所述的樹(shù)脂組合物制 成。
[0035] 本發(fā)_提供的優(yōu)點(diǎn)
[0036] 本發(fā)明提供了一種樹(shù)脂組合物，其適合作為制成用于磁盤裝置的坡道的材料，并 提供了允許另一部件在其上滑動(dòng)的優(yōu)越性能以及高的耐摩擦/磨耗性，而其中不含聚合物 潤(rùn)滑劑。由上文提及的樹(shù)脂組合物制成的、用于磁盤裝置的坡道提供了允許另一部件在其 上滑動(dòng)的優(yōu)越性能和高的耐摩擦/磨耗性，降低了磁盤裝置中的數(shù)據(jù)讀/寫操作中的錯(cuò)誤， 并且進(jìn)一步地可以用作實(shí)現(xiàn)低成本的坡道。
[0037] 附圖簡(jiǎn)沐
[0038] [圖1]圖1是待裝配于磁盤裝置中的加載/卸載系統(tǒng)的示意圖。
[0039] [圖2]圖2是顯示位于磁頭前端處的接頭與坡道形成接觸的示意圖。
[0040][圖3]圖3是待用于摩擦/磨耗測(cè)試中的樣品坡道的透視圖。
[0041] [圖4]圖4是待用于摩擦/磨耗測(cè)試中的接頭的透視圖。
[0042] [圖5]圖5是待用于摩擦/磨耗測(cè)試中的接頭的截面圖。
[0043] [圖6]圖6用于解釋摩擦/磨耗測(cè)試。
[0044][圖7]圖7是顯示當(dāng)觀察方向垂直于接頭在樣品坡道的水平表面上滑動(dòng)的方向 時(shí)，樣品坡道的水平表面與接頭之間的位置關(guān)