技術(shù)特征：

1.一種電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，其組成成分質(zhì)量配比為：

2.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的有機(jī)胺堿為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、3-丙醇胺、甲酰胺、乙酰胺、丙酰胺、丁酰胺、異丁酰胺中的一種或幾種組合。

3.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述特種無(wú)機(jī)鹽為硅酸鉀、硅酸鈉、硅酸鉀鈉中的一種或幾種組合。

4.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的助溶殺菌劑為乙醇、異丙醇、二丙二醇、二甘醇、丙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二丙二醇二甲醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚、二甘醇單甲醚、丙二醇甲醚、二甘醇乙醚、丙二醇單甲醚中的一種或幾種組合。

5.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的助溶增強(qiáng)劑為丁二酸二甲酯、戊二酸二甲酯、己二酸二辛酯、癸二酸二辛酯、芳香酸酯、醋酸丁酯、乳酸乙酯、已二酸二甲酯、丙二酸二乙酯中的一種或幾種組合。

6.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的表面活性劑為壬酚基聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、異辛基酚聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、十二烷基苯磺酸鈉中的一種或幾種組合。

7.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的緩蝕劑為2-苯甲咪唑、2-甲基咪唑、2-巰基并咪唑、甲基苯三氮唑中的一種或幾種組合。

8.根椐權(quán)利要求1所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑，其特征在于，所述的消泡劑為特種有機(jī)硅消泡劑SJ-200、SJ-210、SJ-215中的一種或幾種組合。

9.一種權(quán)利要求1-8任一所述的電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

在常溫常壓下，在帶有攪拌器的反應(yīng)釜中，加入去離子水開(kāi)始攪拌，先加入特種無(wú)機(jī)鹽完全溶解后，依次加入有機(jī)胺堿、助溶殺菌劑、助溶增強(qiáng)劑、表面活性劑、緩蝕劑、消泡劑持續(xù)攪拌至固體物料完全溶化，混合均勻合，停止攪拌；靜置過(guò)濾后即為完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑。

10.一種權(quán)利要求1-8任一所述電子工業(yè)用完全無(wú)鹵素?zé)oVOC水基清洗劑的使用方法，其特征在于，用去離子水與本清洗劑按1-5:1配制成清洗液進(jìn)行清洗，在50-70℃時(shí)用超聲波、浸泡或噴淋清洗。