一種各向異性有機薄膜及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及薄膜制備【技術(shù)領(lǐng)域】,公開了一種各向異性有機薄膜及其制備方法。所述各向異性有機薄膜由液晶分子形成,所述制備方法通過分離離子液體薄膜中的正負離子,對可聚合材料薄膜的表面進行取向,并保持正負離子的分離,對可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具有取向的第二薄膜,從而固定住所述取向。然后去除離子液體薄膜,在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行聚合形成各向異性的有機薄膜。該制備方法具備工藝簡單、可大面積化、成本低廉等優(yōu)勢,制得的有機薄膜厚度較薄,由于沒有機械摩擦,也不存在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良。
【專利說明】一種各向異性有機薄膜及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及薄膜制備【技術(shù)領(lǐng)域】,特別是涉及一種各向異性有機薄膜及其制備方 法。
【背景技術(shù)】
[0002] 各向異性薄膜由于其具有物理性質(zhì)隨方向而變的特點,從而得到的應(yīng)用非常廣 泛,例如TFT-LCD面板中使用的偏光片、光增亮膜、取向膜、印刷電子中使用的介電薄膜(用 作絕緣保護等)、氣體傳感器用的滲透膜等。
[0003] -般地,各向異性薄膜可以通過機械拉伸、機械摩擦的加工方法來制備。機械拉伸 方法適用于各向異性薄膜為后期貼附的方式,薄膜厚度較厚,并且該貼附工藝對已加工的 電子元器件不會有破壞的效果。機械摩擦方法適用于加工面為平面的電子元器件,但對圖 形化的立體元器件存在陰影效應(yīng),且摩擦產(chǎn)生的顆粒會引起元器件的電學(xué)失效。在元器件 制備中,立體的元器件所占比例較高,并對薄膜的厚度要求較薄,因此通過現(xiàn)有的機械拉伸 和機械摩擦工藝均難以達到工藝要求。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 本發(fā)明提供一種各向異性有機薄膜及其制備方法,用以解決通過機械拉伸和機械 摩擦工藝制備各向異性薄膜時存在的上述技術(shù)問題。
[0005] 為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種各向異性有機薄膜的制備方法,包括:
[0006] 在一基板上形成第一薄膜,所述第一薄膜包括離子液體薄膜和液態(tài)的可聚合材料 薄膜,所述可聚合材料薄膜位于所述基板和離子液體薄膜之間;
[0007] 分離所述離子液體薄膜中的正負離子,對所述可聚合材料薄膜的表面進行取向;
[0008] 保持所述正負離子的分離,對所述可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具有取向 的第二薄膜;
[0009] 去除所述離子液體薄膜;
[0010] 在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行聚合形成有機 薄膜,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界面形成與所述第二薄膜的表面配合的取向, 形成各向異性的有機薄膜。
[0011] 如上所述的制備方法,優(yōu)選的是,所述離子液體包括一側(cè)鏈基團,所述側(cè)鏈基團與 空氣界面的作用力大于所述可聚合材料與空氣界面的作用力;
[0012] 在一基板上形成第一薄膜的步驟具體包括:
[0013] 制備包括離子液體和可聚合材料的均相混合溶液;
[0014] 空氣環(huán)境下,在所述基板上形成所述混合溶液的薄膜,在所述側(cè)鏈基團的作用下 使得離子液體位于可聚合材料的上方。
[0015] 如上所述的制備方法,優(yōu)選的是,所述側(cè)鏈基團為氟化基團。
[0016] 如上所述的制備方法,優(yōu)選的是,所述混合溶液還包括成膜劑。
[0017] 如上所述的制備方法,優(yōu)選的是,所述離子液體為液晶相離子液體;
[0018] 具體通過施加電場的方式來分離所述離子液體薄膜中的正負離子。
[0019] 如上所述的制備方法,優(yōu)選的是,所述可聚合材料為光聚合型材料。
[0020] 本發(fā)明還提供一種各向異性有機薄膜,包括:
[0021] 表面具有取向的第二薄膜,形成在一基板上;
[0022] 有機薄膜,形成在所述第二薄膜表面上,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界 面具有與所述第二薄膜的表面配合的取向,形成各向異性的有機薄膜,所述有機薄膜為液 晶高分子薄膜。
[0023] 本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
[0024] 上述技術(shù)方案中,各向異性有機薄膜由液晶分子形成,具體的制備方法為:在液態(tài) 的可聚合材料薄膜表面上形成離子液體薄膜,通過分離離子液體薄膜中的正負離子,可以 對可聚合材料薄膜的表面進行取向,并保持正負離子的分離,對可聚合材料薄膜進行聚合, 形成表面具有取向的第二薄膜,從而固定住所述取向。然后去除離子液體薄膜,在所述第二 薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行聚合形成有機薄膜,所述有機薄膜 與所述第二薄膜接觸的界面形成與所述第二薄膜的表面配合的取向,形成各向異性的有機 薄膜。該制備方法具備工藝簡單、可大面積化、成本低廉等優(yōu)勢,制得的各向異性有機薄膜 厚度較薄,由于沒有機械摩擦,也不存在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0025] 為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可 以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0026] 圖1表示本發(fā)明實施例中各向異性有機薄膜的制備方法流程圖;
[0027] 圖2表示本發(fā)明實施例中各向異性有機薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0028] 圖3-圖9表示本發(fā)明實施例中各向異性有機薄膜的制備過程示意圖。
【具體實施方式】
[0029] 為了制備膜厚不同的各向異性有機薄膜,現(xiàn)有技術(shù)中的工藝包括機械拉伸和機械 摩擦,但是機械拉伸形成的薄膜厚度較厚,機械摩擦形成的薄膜存在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致 的不良。
[0030] 本發(fā)明針對上述技術(shù)問題,提供一種各向異性有機薄膜的制備方法,制得的有機 薄膜具有較薄的厚度,且不存在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良,尤其適用于立體元器件的薄 月吳制備中。
[0031] 所述制備方法利用液晶分子(有機化合物)能夠按一定方向取向的特點,通過液 晶分子來制備各向異性有機薄膜。所述制備方法包括:在液態(tài)的可聚合材料薄膜表面上形 成離子液體薄膜,通過分離離子液體薄膜中的正負離子,可以對可聚合材料薄膜的表面進 行取向,并保持正負離子的分離,對可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具有取向的第二薄 膜,從而固定住所述取向。然后去除離子液體薄膜,在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜, 并對所述液晶分子薄膜進行聚合形成有機薄膜,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界面 形成與所述第二薄膜的表面配合的取向,形成各向異性的有機薄膜。該制備方法具備工藝 簡單、可大面積化、成本低廉等優(yōu)勢,制得的有機薄膜厚度較薄,由于沒有機械摩擦,也不存 在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良。
[0032] 需要說明的是,本發(fā)明中的各向異性是指物理性質(zhì)隨方向而不同的現(xiàn)象。
[0033] 在對本發(fā)明的技術(shù)方案進行詳細描述之前,先對本發(fā)明涉及的專業(yè)術(shù)語進行解 釋。
[0034] 離子液體:由帶正電的離子(正離子)和帶負電的離子(負離子)組成,對有機和 無機物都有良好的溶解性能,具有良好的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,易與其它物質(zhì)分離,可以 循環(huán)利用。1996年BonhoteP.和DiasA.采用固定陰離子,即改變咪唑分子上不同的取代 基的方法,系統(tǒng)的合成了一系列離子液體。
[0035] 液晶:是相態(tài)的一種。液晶相要具有特殊形狀分子組合才會產(chǎn)生,它們可以流動, 又擁有結(jié)晶的光學(xué)性質(zhì),而且對電磁場敏感。液晶的組成物質(zhì)是一種有機化合物,也就是以 碳為中心所構(gòu)成的化合物。
[0036] 下面將結(jié)合附圖和實施例,對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實 施例用于說明本發(fā)明,但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0037] 如圖1所示,本發(fā)明實施例中各向異性有機薄膜的制備方法包括:
[0038] 步驟S1、在一基板上形成第一薄膜,所述第一薄膜包括離子液體薄膜和液態(tài)的可 聚合材料薄膜,所述可聚合材料薄膜位于所述基板和離子液體薄膜之間;
[0039] 所述可聚合材料具體可以為光聚合型材料,如:感光樹脂或感光單體。
[0040] 步驟S2、分離所述離子液體薄膜中的正負離子,對所述可聚合材料薄膜的表面進 行取向;
[0041] 步驟S3、保持所述正負離子的分離,對所述可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具 有取向的第二薄膜;
[0042] 其中,第二薄膜為高分子薄膜。
[0043] 步驟S4、去除所述離子液體薄膜;
[0044] 步驟S5、在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行聚合 形成有機薄膜,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界面形成與所述第二薄膜的表面配合 的取向,形成各向異性的有機薄膜。
[0045] 所述有機薄膜為液晶高分子薄膜。
[0046] 通過上述步驟制得的各向異性有機薄膜厚度較薄,由于沒有機械摩擦,也不存在 摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良。而且具備制作工藝簡單、實現(xiàn)大面積化各向異性有機薄膜的 制備、成本低廉等優(yōu)勢。
[0047] 如圖2所示,通過本發(fā)明的制備方法制得的各向異性有機薄膜包括依次形成在一 基板100上的第二薄膜103和有機薄膜105。有機薄膜105為液晶高分子薄膜。第二薄膜 103為高分子薄膜,表面具有取向,確保了形成在其上的液晶分子也具有取向,使得有機薄 膜105與第二薄膜103接觸的界面具有與第二薄膜103的表面配合的取向,形成各向異性 的有機薄膜105。
[0048] 在一個具體的實施例中,制備第一薄膜使用的離子液體包括一側(cè)鏈基團,如氟化 基團,所述側(cè)鏈基團與空氣界面的作用力大于可聚合材料與空氣界面的作用力,具體的原 理參見OkazakiΜ,KawataK,NishikawaΗ,NegoroM〇Polymerizablediscoticnematic triphenylenederivativesandtheirapplicationtoanopticallyanisotropicfilm。 PolymAdvTechnol2000。
[0049] 則在一基板上形成第一薄膜的步驟具體包括:
[0050] 制備包括離子液體和可聚合材料的均相混合溶液;
[0051] 空氣環(huán)境下,在所述基板上形成所述混合溶液的薄膜,在所述側(cè)鏈基團的作用下 使得離子液體位于可聚合材料的上方。
[0052] 為了有利于所述混合溶液的成膜,還可以在所述混合溶液中添加成膜劑。
[0053] 上述步驟通過一次成膜工藝直接形成所需的第一薄膜,S卩,第一薄膜的可聚合材 料薄膜位于基板和離子液體薄膜之間,簡化了第一薄膜的制作工藝。
[0054] 當(dāng)然,也可以先通過旋涂、印刷、轉(zhuǎn)印等成膜工藝在基板上形成可聚合材料薄膜, 然后再通過旋涂、印刷、轉(zhuǎn)印等成膜工藝在可聚合材料薄膜上形成離子液體薄膜,來形成所 需的第一薄膜。
[0055] 在形成第一薄膜后,通過分離離子液體薄膜中的正負離子來對可聚合材料薄膜的 表面進行取向。優(yōu)選的,所述離子液體可以為液晶相離子液體,由于液晶對電磁場敏感,則 可以通過施加電場的方式來分離所述離子液體薄膜中的正負離子,易于實現(xiàn)正負離子的分 離。
[0056] 相應(yīng)地,可以保持所述電場,進而保持可聚合材料表面的取向,并對可聚合材料薄 膜進行聚合,形成表面具有取向的第二薄膜,從而固定住所述取向。其中,所述第二薄膜為 高分子薄膜。
[0057] 結(jié)合圖3-圖5,本發(fā)明實施例中各向異性有機薄膜的制備過程為:
[0058] 步驟200、如圖3所示,制備包括離子液體和可聚合材料的均相混合溶液,所述離 子液體為液晶相尚子液體,包括正尚子1和負尚子2。所述可聚合材料為感光樹脂。所述尚 子液體還具有氟化基團,所述氟化基團與空氣界面的作用力大于所述可聚合材料與空氣界 面的作用力;
[0059] 步驟201、空氣環(huán)境下,在一基板100上形成所述混合溶液的薄膜,在所述側(cè)鏈基 團的作用下使得離子液體位于可聚合材料的上方,形成第一薄膜。所述第一薄膜包括離子 液體薄膜102,和位于基板100和離子液體薄膜102之間的可聚合材料薄膜101,如圖4所 示;
[0060] 具體可以通過旋涂、印刷或轉(zhuǎn)印等成膜工藝在基板100上形成均相混合溶液的薄 膜,所述混合溶液包括離子液體、可聚合材料和成膜劑。所述離子液體具有氟化基團,在所 述氟化基團的作用下使得離子液體位于可聚合材料的上方,形成第一薄膜。所述第一薄膜 包括離子液體薄膜102和位于離子液體薄膜102和基板100之間的可聚合材料薄膜101。
[0061] 步驟202、施加一定方向的電場,分離離子液體薄膜102中的正離子1和負離子2, 對可聚合材料薄膜101表面進行取向,如圖5所示;
[0062] 步驟203、保持所述電場,用紫外線照射可聚合材料薄膜101,對可聚合材料進行 聚合,形成第二薄膜103,結(jié)合圖6和圖7所示;
[0063] 步驟204、通過溶劑去除離子液體薄膜102,結(jié)合圖6和圖7所示。
[0064] 本步驟比較關(guān)鍵,對于某些用于絕緣功能的有機薄膜,離子液體的殘留將使得絕 緣性能劣化。
[0065] 洗下來的離子液體去除溶劑后,原理上還可重復(fù)利用。
[0066] 步驟205、在第二薄膜103上形成液晶分子薄膜104,并用紫外線照射液晶分子薄 膜104,對液晶分子薄膜104進行聚合,形成有機薄膜105,結(jié)合圖8和圖9所示。其中,有 機薄膜105與第二薄膜103接觸的界面形成與第二薄膜103的表面配合的取向,形成各向 異性的有機薄膜105。有機薄膜105為液晶高分子薄膜。
[0067] 通過上述步驟即可制備厚度較薄的各向異性有機薄膜。
[0068] 可以采用光學(xué)二向色性(UV/IR/可見光)對本發(fā)明制備的有機薄膜的各向異性進 行驗證,具體如下:
[0069] 對本發(fā)明制備的各向異性有機薄膜,通過其UV吸收光譜強度作為量化指標(biāo),獲 取各向異性有機薄膜在平行和垂直于其取向方向上UV吸收光譜強度比,該比值典型地在I. 0?1. 2之間,具有較好的各向異性特性。
[0070] 對于底柵底接觸有機薄膜晶體管,其工作狀態(tài)下,載流子在溝道的傳導(dǎo)區(qū)域集中 于柵極絕緣層與源漏電極接觸的十幾到幾十個分子層寬度內(nèi)。因此,柵極絕緣層的質(zhì)量好 壞直接影響了有機薄膜晶體管的性能。通過將本發(fā)明制備的各向異性有機薄膜作為底柵底 接觸有機薄膜晶體管的柵絕緣層,可以引導(dǎo)載流子的傳輸方向,使有機薄膜晶體管的工作 電流增大1?2個數(shù)量級。
[0071] 底柵底接觸有機薄膜晶體管的具體制備方法包括:
[0072] 步驟300、制備包括離子液體和可聚合材料的均相混合溶液,所述離子液體為液晶 相離子液體,包括正離子和負離子。所述可聚合材料為感光樹脂。所述離子液體還具有氟 化基團,所述氟化基團與空氣界面的作用力大于所述可聚合材料與空氣界面的作用力;
[0073] 步驟301、空氣環(huán)境下,在形成有柵電極的基板上形成所述混合溶液的薄膜,在所 述氟化基團的作用下使得離子液體位于可聚合材料的上方,形成第一薄膜。所述第一薄膜 包括離子液體薄膜,和位于柵電極和離子液體薄膜之間的可聚合材料薄膜;
[0074] 其中,形成柵電極的步驟包括:
[0075] 提供一基板,在所述基板上形成由柵金屬層組成的柵電極的圖案。其中,所述基板 可為玻璃基板、石英基板或有機樹脂基板。
[0076] 具體地,可以采用濺射或熱蒸發(fā)的方法在所述基板上沉積一層厚度為 2500-16000A的柵金屬層,柵金屬層可以是Cu,Al,Ag,Mo,Cr,Nd,Ni,Mn,Ti,Ta,W等金 屬以及這些金屬的合金,柵金屬層可以為單層結(jié)構(gòu)或者多層結(jié)構(gòu),多層結(jié)構(gòu)比如Cu\Mo,Ti\Cu\Ti,M〇\Al\M〇等。在柵金屬層上涂覆一層光刻膠,采用掩膜板對光刻膠進行曝光,顯影, 使光刻膠形成光刻膠不保留區(qū)域和光刻膠保留區(qū)域,其中,光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)于柵電極 的所在區(qū)域,光刻膠不保留區(qū)域?qū)?yīng)于其他區(qū)域;通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠不保留 區(qū)域的柵金屬薄膜,剝離剩余的光刻膠,形成柵電極。
[0077] 形成柵電極后,通過旋涂、印刷或轉(zhuǎn)印等成膜工藝在所述基板上形成均相混合溶 液的薄膜,所述混合溶液包括離子液體、可聚合材料和成膜劑。所述離子液體具有氟化基 團,在所述氟化基團的作用下使得離子液體位于可聚合材料的上方,形成第一薄膜。所述第 一薄膜包括離子液體薄膜和位于離子液體薄膜和柵電極之間的可聚合材料薄膜。
[0078]步驟302、施加一定方向的電場,分離離子液體薄膜中的正離子和負離子,對可聚 合材料薄膜表面進行取向;
[0079] 步驟303、保持所述電場,用紫外線照射可聚合材料薄膜,對可聚合材料進行聚合, 形成第二薄膜,所述第二薄膜為高分子薄膜;
[0080] 步驟304、通過溶劑去除離子液體薄膜,。
[0081] 本步驟比較關(guān)鍵,對于某些用于絕緣功能的有機薄膜,離子液體的殘留將使得絕 緣性能劣化。
[0082] 洗下來的離子液體去除溶劑后,原理上還可重復(fù)利用。
[0083] 步驟305、在第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并用紫外線照射液晶分子薄膜,對液 晶分子薄膜進行聚合,形成有機薄膜。其中,所述有機薄膜與第二薄膜接觸的界面形成與第 二薄膜的表面配合的取向,形成各向異性的有機薄膜。所述有機薄膜為液晶高分子薄膜。
[0084] 所述有機薄膜的取向與有機薄膜晶體管在工作狀態(tài)下的載流子傳輸方向一致。
[0085] 步驟306、在有機薄膜上形成源電極和漏電極。
[0086] 具體地,可以在經(jīng)過步驟305的基板上采用磁控濺射、熱蒸發(fā)或其它成膜方法沉 積一層厚度約為2000-6000A的源漏金屬層,源漏金屬層可以是Cu,Al,Ag,Mo,Cr,Nd,Ni, Mn,Ti,Ta,W等金屬以及這些金屬的合金。源漏金屬層可以是單層結(jié)構(gòu)或者多層結(jié)構(gòu),多層 結(jié)構(gòu)比如Cu\Mo,Ti\Cu\Ti,Μο\Α1\Μο等。
[0087] 在源漏金屬層上涂覆一層光刻膠,采用掩膜板對光刻膠進行曝光,顯影,使光刻膠 形成光刻膠不保留區(qū)域和光刻膠保留區(qū)域,其中,光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)于源電極和漏電極 的所在區(qū)域,光刻膠不保留區(qū)域?qū)?yīng)于其他區(qū)域;通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠不保留 區(qū)域的源漏金屬薄膜,剝離剩余的光刻膠,形成源電極和漏電極。
[0088] 步驟307、在有機薄膜、源電極和漏電極上形成有機半導(dǎo)體層圖案。
[0089] 具體地,可以在經(jīng)過步驟306的基板上采用磁控濺射、熱蒸發(fā)或其它成膜方法沉 積一層厚度約為300-1500A的有機半導(dǎo)體層,其中,有機半導(dǎo)體層的材料可以為并五苯、 三苯基胺等有機小分子,也可以為聚乙炔型、聚芳型等有機高分子。
[0090] 在有機半導(dǎo)體層上涂覆一層光刻膠,采用掩膜板對光刻膠進行曝光,顯影,使光刻 膠形成光刻膠不保留區(qū)域和光刻膠保留區(qū)域,其中,光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)于有機半導(dǎo)體層 圖案的所在區(qū)域,光刻膠不保留區(qū)域?qū)?yīng)于其他區(qū)域;通過刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠不 保留區(qū)域的源漏金屬薄膜,剝離剩余的光刻膠,形成有機半導(dǎo)體層圖案。位于有機薄膜上的 有機半導(dǎo)體層具有與有機薄膜相同的取向,能夠提高載流子遷移率,提升有機薄膜晶體管 的性能。
[0091] 通過上述步驟即可制備性能良好的有機薄膜晶體管。
[0092] 本發(fā)明的技術(shù)方案中,各向異性有機薄膜由液晶分子形成,所述制備方法通過分 離離子液體薄膜中的正負離子,對可聚合材料薄膜的表面進行取向,并保持正負離子的分 離,對可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具有取向的第二薄膜,從而固定住所述取向。然 后去除離子液體薄膜,在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行 聚合形成各向異性的有機薄膜。該制備方法具備工藝簡單、可大面積化、成本低廉等優(yōu)勢, 制得的有機薄膜厚度較薄,由于沒有機械摩擦,也不存在摩擦產(chǎn)生的顆粒導(dǎo)致的不良。
[0093] 以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人 員來說,在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下,還可以做出若干改進和替換,這些改進和替換 也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種各向異性有機薄膜的制備方法,其特征在于,包括: 在一基板上形成第一薄膜,所述第一薄膜包括離子液體薄膜和液態(tài)的可聚合材料薄 膜,所述可聚合材料薄膜位于所述基板和離子液體薄膜之間; 分離所述離子液體薄膜中的正負離子,對所述可聚合材料薄膜的表面進行取向; 保持所述正負離子的分離,對所述可聚合材料薄膜進行聚合,形成表面具有取向的第 二薄膜; 去除所述離子液體薄膜; 在所述第二薄膜上形成液晶分子薄膜,并對所述液晶分子薄膜進行聚合形成有機薄 膜,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界面形成與所述第二薄膜的表面配合的取向,形 成各向異性的有機薄膜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述離子液體包括一側(cè)鏈基團,所述 側(cè)鏈基團與空氣界面的作用力大于所述可聚合材料與空氣界面的作用力; 在一基板上形成第一薄膜的步驟具體包括: 制備包括離子液體和可聚合材料的均相混合溶液; 空氣環(huán)境下,在所述基板上形成所述混合溶液的薄膜,在所述側(cè)鏈基團的作用下使得 離子液體位于可聚合材料的上方。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述側(cè)鏈基團為氟化基團。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述混合溶液還包括成膜劑。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述離子液體為液晶相離子液體; 具體通過施加電場的方式來分離所述離子液體薄膜中的正負離子。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述可聚合材料為光聚合型材料。
7. -種各向異性有機薄膜,其特征在于,包括: 表面具有取向的第二薄膜,形成在一基板上; 有機薄膜,形成在所述第二薄膜表面上,所述有機薄膜與所述第二薄膜接觸的界面具 有與所述第二薄膜的表面配合的取向,形成各向異性的有機薄膜,所述有機薄膜為液晶高 分子薄膜。
【文檔編號】C08J5/18GK104341605SQ201410505698
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月26日
【發(fā)明者】黃維 申請人:京東方科技集團股份有限公司