專(zhuān)利名稱(chēng)：：電磁波屏蔽膜及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及電磁波屏蔽膜。更詳細(xì)地說(shuō)，本發(fā)明是涉及在絕緣基板上形成底層，在該底層上形成金屬層而構(gòu)成的電磁波屏蔽膜及該底層用的涂料組合物隨著高度信息化社會(huì)急速發(fā)展的同時(shí)，近年，以多通路信息系統(tǒng)和攜帶電話等移動(dòng)通訊范疇為中心，各種頻帶電磁波的利用也急劇增加。若開(kāi)始實(shí)用化的PHS(personalhandyfonesystem)和無(wú)線LAN等進(jìn)一步普及的話，可預(yù)想這種潮流將更加發(fā)展。另一方面，家用電腦及載帶微波的民用電子裝置類(lèi)等已經(jīng)廣泛普及，加上這些裝置放射的電波，由此可以預(yù)想到電波環(huán)境將多樣化，復(fù)雜化，進(jìn)而將走向高頻帶化。因此，由這樣的電子裝置類(lèi)發(fā)生的電磁波干擾和/或無(wú)線頻率干擾引起的其他電子裝置、電子部件、計(jì)算機(jī)、工作機(jī)械等的誤動(dòng)作、情報(bào)的泄漏、或電視、收音機(jī)的噪聲等所謂的電磁波和/或無(wú)線頻率干擾障礙年年增加，擔(dān)心今后會(huì)進(jìn)一步增大。特別是電子裝置、電子部件等的外殼由塑料構(gòu)成時(shí)，對(duì)于外界電磁波和/或無(wú)線頻率干擾等于沒(méi)有防御。因此，這樣的裝置或部件等，對(duì)于外界電磁波和/或無(wú)線頻率干擾要采取各種各樣對(duì)策。對(duì)于這類(lèi)電磁波障礙對(duì)策，通常使用電磁波屏蔽膜及電磁波吸收體。電磁波屏蔽膜是通過(guò)反射，防止電磁波進(jìn)入內(nèi)部及防止向外部放射的裝置。另一方面，電磁波吸收體是將入射來(lái)的電磁波轉(zhuǎn)換成熱能，使透過(guò)或反射的電磁波的強(qiáng)度大大地降低。對(duì)于電磁波吸收材料，大多使用鐵氧體和碳，燒結(jié)鐵氧體對(duì)于VHF頻帶類(lèi)比較低的頻率是有效的，另一方面，碳對(duì)于比較高的頻率是有效的?？梢詫㈣F氧體和碳分散在橡膠、塑料等有機(jī)物中，以混合物的形式使用，此時(shí)，可通過(guò)利用電磁波吸收材料的含有率和多個(gè)電磁波吸收材料等控制電磁波吸收特性。碳系的電磁波吸收材料，大多作為這樣混合物使用，使用碳黑粒子和/或石墨粒子的電磁波吸收體被實(shí)際應(yīng)用著。可是，使用碳黑粒子和/或石墨粒子的碳系電磁波吸收體的電磁波吸收特性，還不能說(shuō)達(dá)到了滿(mǎn)意的水平，要求進(jìn)一步提高性能。例如鐵氧體對(duì)于數(shù)百M(fèi)Hz左右的頻率的電磁波的吸收是有效的，但對(duì)于今后預(yù)想到的增大利用的GHz帶頻率的電磁波就不能充分適應(yīng)了。另一方面，碳黑雖對(duì)于GHz帶的頻率電磁波也可以適應(yīng)，但具有吸收區(qū)域狹窄等缺點(diǎn)。鋁、鉛、鋅、鈦、鋰、不銹鋼、銀、銅或纖維也可用于電磁波吸收。特別是PZT(鉛、鋅、鈦)及PLZT(鉛、鋰、鋅、鈦)等可吸收GHz帶頻率的電磁波，但是可分散添加在塑料材料中的量，受到了使用的塑料材料的熔融粘度、材料加工性、由該金屬分散添加塑料材料形成的纖維、被膜、膜片等成形物的機(jī)械強(qiáng)度、脆性、附著力等各種重要因素的限制。另外，若導(dǎo)電性金屬的添加量少時(shí)，也具有不能得到充分的電磁波吸收特性的缺點(diǎn)。因此，作為對(duì)于用塑料構(gòu)成電子裝置、電子部件等外殼時(shí)的外界電磁波和/或?qū)τ跓o(wú)線頻率干擾的防御手段，代替電磁波吸收體，而廣泛使用電磁波屏蔽膜。作為在塑料制外殼的適當(dāng)表面上形成電磁波屏蔽膜的方法，例如，可使用導(dǎo)電性涂料的涂敷、電弧金屬吹涂、真空金屬?lài)婂儭⑿纬山饘僬翦兡?、粘貼金屬箔及鍍金屬層(電解鍍及非電解鍍兩種)等。但是，在塑料制外殼外面上形成電磁波屏蔽膜也不是容易的事。例如，為了在塑料表面上確實(shí)被復(fù)電磁波屏蔽膜，必須將塑料表面進(jìn)行預(yù)處理(例如，表面粗糙化處理)。通過(guò)這樣預(yù)處理，有可能使塑料表面本身破壞。因此，代替這樣的機(jī)械預(yù)處理，采用涂敷等離子涂料，形成底層，在該底層的上面，形成電磁波屏蔽膜的方法。但是，眾所周知，以往使用的等離子涂料，例如，由于在涂料形成成分中使用金屬粉，所以該金屬粉與大氣中的水分反應(yīng)，由于生成金屬氧化物，膨潤(rùn)了涂膜，發(fā)生剝離，或者由于使用有機(jī)溶劑系溶劑，發(fā)生涂膜剝離(例如，參照特許公表，昭62-50034號(hào)公報(bào))。另外，也有由于成形引起的微裂使涂膜剝離。其結(jié)果，形成在底層上的電磁波屏蔽膜也一起被破壞，喪失了對(duì)外界電磁波和/或無(wú)線頻率干擾的防護(hù)能力。因此，本發(fā)明的目的在于提供由設(shè)在電子裝置、電子部件等塑料外殼的適當(dāng)表面的底層及金屬層構(gòu)成的電磁波屏蔽膜。本發(fā)明另一個(gè)目的，在于提供為形成上述底層的適宜的涂料組合物。本發(fā)明又一個(gè)目的，在于提供在上述涂料組合物中使用的適宜的新的金屬成分。通過(guò)電磁波屏蔽膜，可解決上述課題，該電磁波屏蔽膜的特征是，由在構(gòu)成能受到電波障礙的電子裝置類(lèi)外殼的絕緣體基板的至少一面上形成的底層和在該底層表面上形成的金屬層構(gòu)成的電磁波屏蔽膜，上述底層是由10～60wt％的復(fù)合金屬氧化物水合物和40-90％wt％的粘合劑構(gòu)成，上述金屬層是通過(guò)非電解鍍銅和/或鎳而構(gòu)成。底層是通過(guò)由復(fù)合金屬氧化物水合物10～60wt％、丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨樹(shù)脂涂料25～89wt％，以及樹(shù)脂珠1～15wt％組成的涂料組合物A或由復(fù)合金屬氧化物水合物10-60wt％、多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物40-90wt％組成的涂料組合物B構(gòu)成，在此，上述多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物，是由多元醇涂料對(duì)聚異氰酸酯硬化劑的重量比10∶1～10∶10的比率而構(gòu)成。適于使用本發(fā)明的電磁波屏蔽膜的電子裝置類(lèi)，是家用電腦、無(wú)線電機(jī)、攜帶電話、收音機(jī)、電視、微波爐、照像機(jī)、攝像機(jī)、工作機(jī)械、測(cè)定器、機(jī)械人等受到外干擾電磁波影響的電子裝置類(lèi)。本發(fā)明的電磁波屏蔽膜，不僅防止向裝置內(nèi)部侵入對(duì)干擾電磁波，而且也防止向裝置外部放射電磁波。向外部放射電磁波的電子裝置，例如有電動(dòng)機(jī)或變壓器等。因此，本發(fā)明的電磁波屏蔽膜，一般，在上述電子裝置類(lèi)外殼表面至少一面上形成。本說(shuō)明書(shū)使用的電磁波屏蔽術(shù)語(yǔ)在廣義概念上被使用，除了3000GHz以下頻率部分的電磁波之外，還包括其他頻帶域的電磁波及無(wú)線頻率的所有電磁波。電子裝置類(lèi)的外殼，一般是由塑料等絕緣體基板成形的。適于這類(lèi)目的的塑料，熱塑性樹(shù)脂及熱硬化性樹(shù)脂中任何一種都可以。熱塑性樹(shù)脂例如有由PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PS(聚苯乙烯)、PP(聚丙烯)、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)、AS(丙烯腈-苯乙烯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PVA(聚醋酸乙烯)、PVDC(聚偏氯乙烯)、PPO(聚亞苯基氧化物)、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)組成的組中選擇的通用塑料；由PA(聚酰胺)、POM(聚縮醛)、PC(聚碳酸酯)、PPE(改性聚苯醚)、PBT(聚對(duì)苯二酸丁二醇酯)、GF-PET(玻璃纖維增強(qiáng)聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、UHPE(超高分子量聚乙烯)組成的組中選擇的通用工程塑料；由PSF(聚砜)、PES(聚醚砜)、PPS(聚苯亞硫酸酯)、PAR(多芳基化合物)、PAI(聚酰胺亞胺)、PEI(聚醚亞胺)、PEEK(聚醚醚酮)、PI(聚亞胺)、氟樹(shù)脂組成的組中選擇的超級(jí)工程塑料等。熱硬化性樹(shù)脂，例如是苯酚、尿素、密胺、醇酸樹(shù)脂、不飽和聚酯、環(huán)氧乙烷、對(duì)苯二酸二丙烯酯、聚氨酯、有機(jī)硅等。根據(jù)需要，只要是能成形為電子裝置類(lèi)外殼的合成樹(shù)脂就完全可以使用。另外，例如橡膠、陶瓷、玻璃、木材、纖維強(qiáng)化塑料、陶磁器、纖維、紙等具有能透過(guò)電磁波可能性的絕緣基板，用于電子裝置類(lèi)外殼，也完全能形成本發(fā)明的電磁波屏蔽膜。在將本發(fā)明的涂料組合物A或涂料組合物B，涂敷在塑料等絕緣基板表面上時(shí)，一般不需要基板表面的預(yù)處理。但是，根據(jù)需要，也可進(jìn)行藥品洗凈、噴砂、電暈放電、等離子放電、紫外線照射或火焰處理等預(yù)處理。在將本發(fā)明的涂料組合物A或涂料組合物B涂敷在塑料等絕緣基板表面上時(shí)，對(duì)其涂敷方法不作特別的限制。完全可以使用毛刷涂敷、吹涂、浸漬、輥涂、靜電沉積等常用涂敷方法。將涂料組合物A或涂料組合物B涂敷在塑料等絕緣基板表面上，干燥后形成的底層，優(yōu)選的是使用由10-60wt％的復(fù)合金屬氧化物水合物和40-90wt％的粘合劑構(gòu)成。底層中的復(fù)合金屬氧化物水合物的含量小于1Owt％時(shí)，產(chǎn)生鍍層粘結(jié)不牢等的問(wèn)題。另一方面，底層中的復(fù)合金屬氧化物水合物的含量，超過(guò)60wt％時(shí)，產(chǎn)生粘著不良或破壞凝集等問(wèn)題。對(duì)于在塑料等絕緣基板表面形成的由本發(fā)明涂料組合物A或涂料組合物B組成的底層的膜厚沒(méi)有特別的限制。一般，干燥后的底層的膜厚為3-25μm范圍內(nèi)，在涂料組合物為A時(shí)，膜厚優(yōu)選的是在5-15μm范圍內(nèi)，在涂料組合物為B時(shí)，膜厚優(yōu)選的是在10-20μm范圍。涂料組合物A中使用的丙烯酸樹(shù)脂涂料及氨基甲酸乙酯樹(shù)脂涂料是公知的，一般是由ゼネカ社等以ネオクリル、ネオレッツ等商品名市售。對(duì)于丙烯酸樹(shù)脂涂料及氨基甲酸乙酯樹(shù)脂涂料，根據(jù)需要，也可加入增粘劑、濕潤(rùn)劑、增膜劑、充填劑等其他適當(dāng)?shù)妮o助添加劑?？捎糜谠撃康脑稣硠缬啸单螗违抓成缰频腟Nシツク產(chǎn)-系列等。濕潤(rùn)劑例如有3M社制的フロラドFC-430等。增膜劑有異丙醇、異丁醇、丁基纖維溶劑、二丙酮醇、丙二醇類(lèi)等醇系有機(jī)溶劑等。充填劑可適于使用的是具有0.01μm-5μm范圍內(nèi)粒徑的碳酸鈣、二氧化硅、沸石、硫酸鋇或碳黑等。同樣，涂料組合物A使用的樹(shù)脂珠也是公知的，可適宜選擇使用丙烯酸、聚酯、氨基甲酸乙酯、尼龍及聚丙烯等的樹(shù)脂珠。例如丙烯酸樹(shù)脂珠一般是大日精化社等的以テブコロル商品名市售的。本發(fā)明的涂料組合物A中，適宜使用的樹(shù)脂珠的平均粒徑是5-30μm左右。也可使用其他平均粒徑的樹(shù)脂珠。涂料組合物B使用的多元醇涂料是公知的，一般是バイエル等的以デスモジユ-ル、バイヒドロ-ル等商品名市售的。對(duì)于多元醇，根據(jù)需要，也可加入與上述相同的增粘劑、濕潤(rùn)劑、增膜劑、充填劑等其他適宜的輔助添加劑。在涂料組合物B中，含有為硬化多元醇涂料的硬化劑。硬化劑的配合比率，可在從對(duì)于主劑的多元醇涂料1份，硬化劑為1份的比例到對(duì)于多元醇涂料10份，硬化劑1份的比例的大范圍中使用。優(yōu)選的是，對(duì)于聚醇涂料4份，硬化劑為1份的比例。對(duì)于多元醇涂料，若硬化劑過(guò)少，難以發(fā)生充分的硬化反應(yīng)。另一方面，若硬化劑過(guò)多，硬化反應(yīng)飽和，所以不僅不經(jīng)濟(jì)，而且也未產(chǎn)生追加的任何效果。作為硬化劑，優(yōu)選的是聚異氰酸酯等。聚異氰酸酯的硬化反應(yīng)通過(guò)加熱而促進(jìn)。此時(shí)的加熱溫度，優(yōu)選的是在40-180℃范圍內(nèi)。本發(fā)明涂料組合物A及B中使用的復(fù)合金屬氧化物水合物，是由Pd或Ag金屬和Si、Ti或Zr金屬形成的。由于正確的結(jié)構(gòu)式還未能確認(rèn)，所以不能推測(cè)其具體范圍，但是一般認(rèn)為可由下述通式表示。M1x·M2O3·n(H2O)(式中，M1是Pd或Ag，M2是Si、Ti或Zr，M1是Pd時(shí)，x是1，M1是Ag時(shí)，X是2，n是整數(shù))。Pd或Ag中，特別優(yōu)選的是鈀。其理由，是由于鈀的鹵化物(特別是氯化物)，活性度高，容易反應(yīng)。Si、Ti或Zr，可使用氧化物、水合物、鹵化物等任意化合物形式。但是，優(yōu)選的是氧化物(例如SiO2、TiO2、ZrO2)。在形成本發(fā)明的復(fù)合金屬氧化物水合物時(shí)使用的Si、Ti或Zr化合物的粒徑，沒(méi)有特別限制，但一般優(yōu)選的是平均粒徑為0.001-5μm范圍內(nèi)。若粒徑小，反應(yīng)性高，可提高收得率。按如以下步驟生成本發(fā)明涂料組合物A及B使用的復(fù)合金屬氧化物水合物。首先，將Pd或Ag的化合物(例如，氯化鈀)溶解在鹽酸中，接著，在該溶液中，加入Si、Ti或Zr的氧化物(例如，氧化鈦)的水合物，加熱，然后中和，中和后再加熱，洗凈生成的沉淀物。例如可通過(guò)以下反應(yīng)方程式表示這一系列反應(yīng)。(1)(2)(3)(4)在將涂料組合物A涂敷在塑料等的絕緣體基板上，形成底層時(shí)，優(yōu)選的是用常用的方法，將涂料組合物A，涂敷3-20μm范圍的厚度，在40-180℃范圍內(nèi)的溫度下，干燥20-60分鐘，干燥后的膜厚優(yōu)選為5-15μm范圍內(nèi)。另一方面，涂料組合物為B時(shí)，優(yōu)選的是涂敷10-40μm范圍內(nèi)的厚度，在40-180℃范圍內(nèi)的溫度下干燥20-60分鐘，干燥后的膜厚優(yōu)選為10-20μm范圍內(nèi)。加熱溫度，可考慮所使用的絕緣體基板的耐熱溫度適宜地決定。圖1是通過(guò)在絕緣基板上涂敷涂料組合物A形成的底層模式的剖視圖。在基板1的一方的面上，以與基板表面相接的方式存在樹(shù)脂珠3。復(fù)合金屬氧化物水合物的粒子5，以完全復(fù)蓋住該樹(shù)脂球3的外表面而存在其上面。從而經(jīng)常用復(fù)合金屬氧化物水合物蓋住底層7的最外表面。在底層7上，樹(shù)脂球3給與規(guī)定的膜厚，同時(shí)，用復(fù)合金屬氧化物水合物的粒子5復(fù)蓋以增大表面積。丙烯酸樹(shù)脂涂料及氨基甲酸樹(shù)脂涂料起到提高復(fù)合金屬氧化物水合物粒子5的分散性、形成均勻的被復(fù)的作用。如圖所示，由于在底層7的最外表面被復(fù)了復(fù)合金屬氧化物水合物，所以以后的鍍層處理容易。圖2是通過(guò)在絕緣基板上涂敷涂料組合物B，形成的底層的模式的剖視圖。如圖2所示，對(duì)于底層7，在用聚異氰酸酯硬化的聚氨酯樹(shù)脂層9內(nèi)，均勻地分散復(fù)合金屬氧化物水合物粒子5。在圖1及圖2所示的底層表面上形成金屬層。通過(guò)常用的非電解鍍法可形成金屬層。根據(jù)需要，在該非電解鍍層上，也可進(jìn)一步重疊電解鍍層。在鍍層前，優(yōu)選的是用酸(例如硫酸、氫氟酸、鹽酸等)加速處理底層。由此使底層中的復(fù)合金屬氧化物水合物活化，提高與非電解鍍形成的金屬層的密接性。在經(jīng)過(guò)加速處理的底層表面上，非電解鍍銅及鎳等金屬成分。鍍銅后，進(jìn)行非電解鍍鎳，是為了防止非電解鍍銅表面上產(chǎn)生綠青色。這樣的非電解鍍金屬的方法本身，是操作者周知的方法。鍍層后，優(yōu)選的是進(jìn)行中和處理。由于非電解鍍中使用的氫氧化鈉進(jìn)入底層及非電解銅的內(nèi)部，所以為了將其中和而進(jìn)行中和處理。通過(guò)該中和處理，提高底層和非電解鍍層(即金屬層)的密接性，使使用中的電磁波屏蔽膜難以發(fā)生剝離。通過(guò)非電解鍍形成的電磁波屏蔽金屬層的膜厚，由應(yīng)屏蔽對(duì)象的電磁波的頻率而決定，但一般優(yōu)選的是在0.5-4μm范圍內(nèi)。該金屬層的膜厚小于0.5μm時(shí)，得不到充分的電磁波屏蔽效果。另一方面，膜厚超過(guò)4μm時(shí)，電磁波屏蔽效果飽和，造成不經(jīng)濟(jì)。圖3是在圖1的底層表面上，通過(guò)電解鍍，形成金屬層的本發(fā)明電磁波屏蔽膜的模式的剖視圖。圖4是在圖2的底層表面上，通過(guò)非電解鍍，形成金屬層的本發(fā)明的電磁波屏蔽膜的模式剖視圖。圖中的符號(hào)11表示發(fā)揮電磁波屏蔽效果的金屬層。非電解鍍后，可通過(guò)電解鍍，進(jìn)一步重疊1種或2種以上鎳、鋅、銅、錫等金屬成分。通過(guò)非電解鍍的金屬層可發(fā)揮電磁波屏蔽效果，但電解鍍層不僅可提高金屬層的電磁波屏蔽效果，而且可提高金屬層的裝飾性。對(duì)于該電解鍍層的膜厚沒(méi)有特別的限制。一般只要是3μm～60μm就可以。以下，通過(guò)實(shí)施例，對(duì)于本發(fā)明的電磁波屏蔽膜的制造方法及其電磁波屏蔽效果，進(jìn)一步加以說(shuō)明。實(shí)施例1復(fù)合金屬氧化物水合物的制造首先，對(duì)于本發(fā)明的復(fù)合金屬氧化物水合物的制造加以說(shuō)明。但是，下述說(shuō)明的制造例，其目的是為了舉例，本發(fā)明不受下述說(shuō)明方法的限制。(1)將氯化鈀(PdCl2)溶解在濃度12N的鹽酸(HCl)中。(2)對(duì)于氧化鈦(TiO2)的微粒子粉末，進(jìn)行紫外線照射、微波加熱、可見(jiàn)光線照射以提高能級(jí)的預(yù)處理，將該預(yù)處理完畢的微粒子粉末化合物加入到上述(1)的溶液中，進(jìn)而加入直徑2-3mm左右的玻璃珠，一邊攪拌，一邊在60-100℃下，加熱10-60分鐘。這是為了使TiO2充分分散而進(jìn)行的。因此，若成為均勻的漿液，就停止加熱及攪拌。(3)用氫氧化鈉(NaOH)或碳酸鈉(Na2CO3)進(jìn)行中和。若pH達(dá)到7-10，停止中和。(4)將中和混合物在60-100℃溫度下，加熱1-4小時(shí)，優(yōu)選的是在70-80℃下，加熱2-3小時(shí)，進(jìn)行固體化反應(yīng)。(5)分離由固體化反應(yīng)生成的沉淀固形物。首先通過(guò)傾析器，除去上清液，得到沉淀固態(tài)物。重復(fù)2-3次該種水洗。通過(guò)傾析器全部除去洗凈上清液。水洗終了后，再加入純水洗凈，通過(guò)傾析器除去上清液。用純水洗凈，是為除去沉淀固態(tài)物中的雜離子而進(jìn)行的。(6)用純水洗凈后，將該純水和沉淀固態(tài)物的漿液狀混合物，原狀不動(dòng)地保存。該漿液狀混合物的固態(tài)份額為約50-60％左右。若靜置漿液狀混合物，固態(tài)物向下沉淀，液體被復(fù)在上面。若液體被復(fù)在上面，可在非氧化狀態(tài)下不變地保存固態(tài)物復(fù)合金屬氧化物水合物[PdTiO3·n(H2O)]，該生成物在以后的使用中，非常理想。另外，若漿液狀原狀不動(dòng)地保存，由于固形物復(fù)合金屬氧化物水合物的分散性?xún)?yōu)良，所以可大幅度地提高以后使用時(shí)的混合操作性。本發(fā)明的復(fù)合金屬氧化物水合物，若與大氣中的空氣接觸，就氧化、性能變差。例如即使與空氣隔斷，以粉末狀保存，以后使用時(shí)的混合攪拌，需要更多的時(shí)間(例如，10幾個(gè)小時(shí))。因此，本發(fā)明的復(fù)合金屬氧化物水合物，優(yōu)選的是以漿液狀保存。該漿液中的復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑為1-100μm范圍內(nèi)。實(shí)施例2涂料組合物A的制造調(diào)制由下述成分組成的粘合劑。ネオクリルA-640350份(ゼネカ社制)ネオレッツR-960250份(ゼネカ社制)丁基溶纖劑120份フロラ-ドFC-4301份(3M社制)SNシツクナ-61230份(サンケ-コ社制)純ラブコロ-ル50份(大日精化社制)離子交換水199份合計(jì)1000份在粘合劑7份中加入用實(shí)施例1制作的漿液狀復(fù)合金屬氧化物水合物3份，在室溫下混合，直到均勻地分散。這樣就得到涂料組合物A。實(shí)施例3涂料組合物B的制造調(diào)制由下述成分組成的粘合劑。バイヒドロ-ルTPLS2940E800份(貝爾社制)フロラ-ドFC-4301份(3M社制)ユマルシフアイセ-WN5份(貝爾社制)丁基溶纖劑20份プライマルRM85(份(R&amp;H社制)BYK0233份(BYK社制)離子交換水166份合計(jì)1000份在該主劑混合物中，作為硬化劑，添加100份スミジユ-ルN-75(住友貝爾社制)，將主劑對(duì)硬化劑的比率作成10∶1的比例。在該粘合劑7份中，加入用實(shí)施例1制作的漿液狀復(fù)合金屬氧化物水合物3份，在室溫下混合直到均勻地分散。這樣，得到涂料組合物B。實(shí)施例4形成底層(1)作為基板，使用厚度為3mm的ABS樹(shù)脂，用噴漿器將涂料組合物A，吹涂在ABS樹(shù)脂基板表面上，涂敷厚度20μm。在70℃下，干燥30分鐘，形成膜厚10μm的底層。實(shí)施例5形成底層(2)作為基板，使用厚度3mm的ABS，用噴漿器將涂料組合物B，吹涂在ABS樹(shù)脂基板表面上，涂敷厚度20μm。在70℃下干燥30分鐘。形成膜厚10μm的底層。實(shí)施例6形成金屬層(1)在實(shí)施例4中形成的底層上，通過(guò)非電解鍍法，形成金屬層。首先，用45-55℃的溫水，將底層表面洗凈2分鐘。然后，作為活化劑，使用溫度為45-55℃的濃度為1-5vol％硫酸，將底層表面進(jìn)行活化處理5分鐘。這是為了活化底層中的氫氧化鈀。然后，水洗2次?；罨幚砗?，用由鈀60-90ppm、HCl110-20ml/l的混合物組成的，溫度為25-35℃的活化器處理1分鐘。然后，水洗2次。再在銅1.5-2.5g/l組成的，溫度40-50℃的觸擊鍍銅浴中進(jìn)行5分鐘非電解鍍銅，進(jìn)而，用銅1.7-2.0g/l、EDTA15-30g/l、NaOH5.0-9.0g/l、HCHO2.0-4.0g/l、2，2-ジプリジル及KCN5-10mg/l組成的，溫度為40-50℃的化學(xué)銅浴中，非電解鍍銅55分鐘，然后水洗2次。然后，用HCl80-100ml/l的溫度為20-30℃的酸性水溶液，中和處理4分鐘。該中和處理是為集凝底層中的丙烯酸乳液和除去進(jìn)入底層表面及非電解鍍銅中的殘留NaOH而使用的。通過(guò)除去該NaOH，可提高底層和非電解鍍銅的密接性。中和處理后，在鎳2.5-7.5g/l及次亞磷酸鈉10-40g/l組成的，溫度為35-45℃的化學(xué)鍍鎳浴中，非電解鍍鎳8分鐘。進(jìn)行2次水洗，用pH8.7-9.0的，溫度為45-55℃的熱水，洗凈2分鐘，然后，用純水洗凈2次。最后進(jìn)行干燥。通過(guò)該非電解鍍形成的銅層的膜厚為1.5μm，鎳層的膜厚為0.5μm。因此，通過(guò)非電解鍍形成的金屬層的總厚度為2μm。實(shí)施例7；形成金屬層(2)在實(shí)施例5形成的底層上，與實(shí)施例6所述方法相同，通過(guò)非電解鍍法，形成金屬層。通過(guò)該非電解鍍形成的銅層膜厚為1.5μm，鎳層膜厚為0.5μm。因此，通過(guò)無(wú)電解電鍍形成的金屬層的總厚度為2μm。實(shí)施例8電磁波屏蔽膜的性能測(cè)定(1)測(cè)定由實(shí)施例6及實(shí)施例7制作的各試樣的電磁波屏蔽膜的性能。測(cè)定是按照ASTMES.7.83法(別名傳輸線法)進(jìn)行的。在EMC.TECHNOLOGT1985.Vol1，No.5中公開(kāi)了該方法詳細(xì)的說(shuō)明。其結(jié)果歸納為如下所示。頻率(MHz)301003001000dB62615862實(shí)施例9電磁波屏蔽膜的性能測(cè)定(2)在實(shí)施例4形成的底層上，用與實(shí)施例6所述方法相同的方法，進(jìn)行非電解鍍，形成金屬層。在該實(shí)施例中，將非電解鎳膜的膜厚設(shè)定為一定值0.25μm，使非電解銅膜的膜厚在1μm、2μm及4μm變化。測(cè)定得到的各試樣在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中的屏蔽效果。通過(guò)アドバン試驗(yàn)法進(jìn)行測(cè)定。アドバン試驗(yàn)法的構(gòu)成是用150mm或200mm方塊，將厚度±5mm以下的試樣在10MHz-1000MHz(電場(chǎng)是1MHz-1000MHz)下，設(shè)定在アドバン試驗(yàn)專(zhuān)用夾具上(TR17301A)，用40dB以上的動(dòng)態(tài)范圍測(cè)定。其結(jié)果歸納如表1所示。表1</tables>由上述結(jié)果表明，電場(chǎng)中的屏蔽效果，不受銅的膜厚限制，大致是一定的。與此相反，磁場(chǎng)中的屏蔽效果，隨著銅的膜厚的增大而增大。實(shí)施例10除了使用氯化銀(AgCl)代替氯化鈀(PdCl2)之外，采用與實(shí)施例1所述相同的方法，制作Ag和Ti的復(fù)合金屬氧化物水合物[Ag2TiO3·n(H2O)]。復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑是1-100μm范圍內(nèi)。實(shí)施例11除了使用二氧化硅(SiO2)代替氧化鈦(TiO2)之外，采用與實(shí)施例1所述相同方法，制作Pd和Si的復(fù)合金屬氧化物化合物[PdSiO3·n(H2O)]。復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑為1-100μm范圍內(nèi)。實(shí)施例12除了使用二氧化鋯(ZrO2)代替氧化鈦(TiO2)之外，采用與實(shí)施例1相同方法，制作Pd和Zr的復(fù)合金屬氧化物水合物[PdZrO3·n(H2O)]。復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑為1-100μm范圍內(nèi)。實(shí)施例13將由實(shí)施例10制作的復(fù)合金屬氧化物水合物[Ag2TiO3·n(H2O)]3份，加入到實(shí)施例2所述的粘合劑7份中，在室溫下混合，直到均勻分散，得到涂料組合物A。接著，使用厚度為3mm的ABS樹(shù)脂作為基板，用噴漿器將該涂料組合物A、涂吹在ABS樹(shù)脂基板表面上，涂敷厚度為20μm。在70℃下干燥30分鐘，形成膜厚10μm的底層。然后，按照實(shí)施例6所述的方法，在該底層上形成金屬層。在本實(shí)施例中，Ni膜的膜厚作成0.25μm的一定厚度，Cu膜的膜厚在1μm、1.5μm及2.0μm3個(gè)種類(lèi)中變化。測(cè)定這樣得到的試樣在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中的屏蔽效果。其結(jié)果如下述表2所示。表2從上述結(jié)果表明，在電場(chǎng)中的屏蔽效果與銅的膜厚無(wú)關(guān)，大致一定。與此相對(duì)照，磁場(chǎng)中的屏蔽效果，隨著銅的膜厚的增大而增大。實(shí)施例14將由實(shí)施例11制作的復(fù)合金屬氧化物水合物[PdSiO3·n(H2O)]3份，加入到實(shí)施例3所述的粘合劑7份中，在室溫下混合，直到均勻分散，得到涂料組合物B。接著，使用厚度3mm的ABS樹(shù)脂作為基板，用噴漿器將該涂料組合物B吹涂在ABS樹(shù)脂基板表面上，涂敷厚度為20μm。在70℃下干燥30分鐘，形成膜厚10μm的底層。然后，按照實(shí)施例6所述的方法，在其底層上形成金屬層。在本實(shí)施例中，Ni膜的膜厚作成0.25μm的一定厚度，Cu膜的膜厚在1μm、1.5μm及2.0μm3種中變化。測(cè)定這樣得到的試樣在電場(chǎng)及磁場(chǎng)中的屏蔽效果。其結(jié)果如下述表3所示。表3<tablesid="table3"num="003"><tablewidth="853">膜厚(μm)電場(chǎng)中的屏蔽效果(dB)30MHz100MHz200MHz300MHz磁場(chǎng)中的屏蔽效果(dB)30MHz100MHz200MHz300MHzCuNi1.01.52.00.250.250.25557070695671727056707270213038452536414732424650</table></tables>從上述結(jié)果表明，在電場(chǎng)中的屏蔽效果，與銅的膜厚無(wú)關(guān)，大致是一定的。相反，在磁場(chǎng)中的屏蔽效果，隨著銅的膜厚的增大而增大。實(shí)施例15將由實(shí)施例12制作的復(fù)合金屬氧化物[PdZrO3·n(H2O)]3份，加入到實(shí)施例2所述的粘合劑7份中，在室溫下混合至均勻地分散，得到涂料組合物A。接著，使用厚度為3mm的ABS作為基板，用噴漿器將該涂料組合物A吹涂在ABS樹(shù)脂基板表面上，涂敷厚度為20μm。在70℃下，干燥30分鐘，形成膜厚10μm的底層。然后，按照實(shí)施例6所述的方法，在該底層上形成金屬層，在未實(shí)施例中，將Ni膜的膜厚作成0.25μm的一定厚度，Cu膜的膜厚在1μm、1.5μm及2.0μm3種中變化。測(cè)定這樣得到的試樣在電場(chǎng)及磁場(chǎng)中的屏蔽效果。其結(jié)果如表4所示。表4從上述結(jié)果表明，在電場(chǎng)中的屏蔽效果，與銅的膜厚無(wú)關(guān)，大致是一定的。相反，在磁場(chǎng)中的屏蔽效果，隨著銅的膜厚的增大而增大。在用試片進(jìn)行屏蔽效果測(cè)定時(shí)，由近領(lǐng)域(NearField)和遠(yuǎn)領(lǐng)域(FarField)兩方面進(jìn)行。近領(lǐng)域有電場(chǎng)和磁場(chǎng)，遠(yuǎn)領(lǐng)域呈水平波。近領(lǐng)域，通過(guò)アドバン試驗(yàn)法測(cè)定，遠(yuǎn)領(lǐng)域通過(guò)傳輸線法測(cè)定。電磁波(頻率為30MHz-1000MHz)碰到屏蔽膜時(shí)，進(jìn)行反射或吸收，變成熱能及電能而衰減。屏蔽效果，有以下三要素，用下式表示。S(總屏蔽效果)＝R(反射效果)+A(吸收效果)+B(內(nèi)部效果)由于B小，實(shí)際上屏蔽效果由R和A決定。R由下式計(jì)算出。R(dB)＝168+10log(β/f)A由下式計(jì)算出。A(dB)＝3.34t√fβμ其中，式中β是介電率(/m)，f是頻率(MHz)，μ是透磁率(/m)，t是膜厚(mil)，1mil＝25.4μm。因此，電磁波的頻率越高，反射越少，若電磁波的頻率增加，吸收效果增加。另外，若導(dǎo)電率增加，反射效果及吸收效果增加，反射效果與金屬的膜厚沒(méi)有關(guān)系，若屏蔽鍍膜的膜厚增加，吸收效果增加。屏蔽效果是以電波入射側(cè)和透過(guò)側(cè)能量(力/磁場(chǎng))的比率為基礎(chǔ)而計(jì)算，通常用分貝(dB)表示。非電解鍍的屏蔽效果，用最高的方法時(shí)，顯示與3mm的鋁板相同的屏蔽效果。實(shí)施例16剝離試驗(yàn)用在ASTMD-3359中規(guī)定的劃格膠帶試驗(yàn)法，試驗(yàn)由實(shí)施例6、7、13～15得到的金屬膜和底層的密接性。使用各實(shí)施例的金屬膜檢測(cè)體3個(gè)，對(duì)于膠帶，使用由美國(guó)3M社的スコ-ツチ(登記商標(biāo))醋酸纖維素膠帶No.710組成的寬25mm的半透明感壓帶(粘結(jié)力為40±2.8g/mm)。清凈金屬層表面后，將帶貼在金屬層表面上，從貼上到90±30秒以?xún)?nèi)，捆住帶端，在盡可能接近180°的角度下，瞬時(shí)間剝開(kāi)帶。然后，用肉眼觀察金屬層的剝離狀態(tài)。在同一金屬膜檢測(cè)體的其他位置，通過(guò)貼帶，反復(fù)進(jìn)行2次該試驗(yàn)。其結(jié)果，由實(shí)施例6、7、13～15得到的各3個(gè)金屬膜檢測(cè)體，完全是ASTMD-3359規(guī)定的劃格膠帶試驗(yàn)法的密接性評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的4B(剝離比例小于5％)或5B(剝離比例0％)。另外，該剝離試驗(yàn)的合格標(biāo)準(zhǔn)為4B水平以上。與以往的有機(jī)溶劑系底層相比，由于本發(fā)明的底層，是非有機(jī)溶劑系的，所以沒(méi)有由于成形應(yīng)變而吸收溶劑等現(xiàn)象。另外，與有機(jī)溶劑系底層比較，本發(fā)明的底層在鍍層施工后表面硬度非常高。進(jìn)而，與以往的有機(jī)溶劑系底層比較，本發(fā)明底層的耐藥性?xún)?yōu)良。其結(jié)果，按照本發(fā)明，由于從構(gòu)成電子裝置外殼的絕緣基板上難以剝離底層，所以在其上形成的金屬層可長(zhǎng)時(shí)間地發(fā)揮非常優(yōu)良的電磁波屏蔽效果。附圖的簡(jiǎn)單說(shuō)明圖1是使用涂料組合物A在絕緣體基板上形成的底層的模式剖視圖。圖2是使用涂料組合物B，在絕緣基板上形成的底層的模式剖視圖。圖3是表示在使用涂料組合物A在絕緣基板上形成的底層上面，再形成金屬層的狀態(tài)的模式剖視圖。圖4是表示使用涂料組合物B在絕緣基板上形成的底層上面，再形成金屬層的狀態(tài)的模式剖視圖。符號(hào)說(shuō)明1絕緣基板3樹(shù)脂珠5復(fù)合金屬氧化物水合物7底層9硬化水系聚醇樹(shù)脂層11金屬層附圖4幅權(quán)利要求1.電磁波屏蔽膜，其特征是由在構(gòu)成受到電磁波障礙的電子裝置類(lèi)外殼的絕緣基板的至少一個(gè)面上形成的底層，和在該底層的表面形成的金屬層構(gòu)成的電磁波屏蔽膜，上述底層是10-60wt％的復(fù)合金屬氧化物水合物和40-90wt％的粘合劑構(gòu)成，上述金屬層是通過(guò)無(wú)電解鍍銅和/或鎳而構(gòu)成。2.權(quán)利要求1的電磁波屏蔽膜，其特征是上述復(fù)合金屬氧化物水合物用下述通式M1x·M2O3·n(H2O)(式中，M1是Pd或Ag，M2是Si、Ti或Zr，M1是Pd時(shí)，X是1，M1是Ag時(shí)，X是2，n是整數(shù))表示。3.權(quán)利要求2的電磁波屏蔽膜，其特征是上述M1是Pd、上述M2是Si、Ti或Zr。4.權(quán)利要求1的電磁波屏蔽膜，其特征是粘合劑由(1)丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨樹(shù)脂涂料及樹(shù)脂珠組成，或由(2)多元醇涂料及硬化劑組成。5.權(quán)利要求4的電磁波屏蔽膜，其特征是粘合劑通過(guò)由丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨酯樹(shù)脂涂料25-89wt％及樹(shù)脂珠1-15wt％組成的組合物形成。6.權(quán)利要求4的電磁波屏蔽膜，其特征是粘合劑通過(guò)由多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物40-90wt％組成的組合物形成，上述多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物，以多元醇涂料對(duì)聚異氰酸酯硬化劑的重量比為10∶1～10∶10的比率構(gòu)成。7.權(quán)利要求1的電磁波屏蔽膜，其特征是底層的膜厚為3-25μm的范圍內(nèi)。8.權(quán)利要求1的電磁波屏蔽膜，其特征是金屬層的膜厚為0.5-4μm的范圍內(nèi)。9.權(quán)利要求1的電磁波屏蔽膜，其特征是絕緣體基板是由PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PS(聚苯乙烯)、PP(聚丙烯)、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)、AS(丙烯腈-苯乙烯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PVA(聚醋酸乙烯)、PVDC(聚偏氯乙烯)、PPO(聚亞苯基氧化物)、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)組成的組中選擇的通用塑料；由PA(聚酰胺)、POM(聚縮醛)、PC(聚碳酸酯)、PPE(改性聚苯醚)、PBT(聚對(duì)苯二酸丁二醇酯)、GF-PET(玻璃纖維增強(qiáng)聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、UHPE(超高分子量聚乙烯)組成的組中選擇的通用工程塑料；由PSF(聚砜)、PES(聚醚砜)、PPS(聚苯亞硫酸酯)、PAR(多芳基化合物)、PAI(聚酰胺亞胺)、PEI(聚醚亞胺)、PEEK(聚醚醚酮)、PI(聚亞胺)、氟樹(shù)脂組成的組中選擇的超級(jí)工程塑料；由苯酚、尿素、密胺、醇酸樹(shù)脂、不飽和聚酯、環(huán)氧乙烷、對(duì)苯二酸二丙烯酯、聚氨酯、硅組成的組中選擇的熱硬化性樹(shù)脂；由橡膠、陶瓷、玻璃、玻璃纖維、木材、陶瓷器、纖維及紙組成的組中選擇的物質(zhì)。10.電磁波屏蔽膜的形成方法，其特征是由在構(gòu)成受到電磁波障礙的電子裝置類(lèi)的外殼的絕緣體基板的至少一個(gè)面上，涂敷由復(fù)合金屬氧化物水合物和粘合劑組成的涂料組合物，干燥該組合物，形成底層的步驟，和在底層的表面上，通過(guò)非電解鍍銅和/或鎳形成金屬層的步驟組成。11.權(quán)利要求10的方法，其特征是上述復(fù)合金屬氧化物水合物由下述通式，M1x·M2O3·n(H2O)(式中，M1是Pd或Ag，M2是Si、Ti或Zr，M1是Pd時(shí)，X是1，M1是Ag時(shí)，X是2，n是整數(shù))表示。12.權(quán)利要求11的方法，其特征是上述M1是Pd、上述M2是Si、Ti或Zr。13.權(quán)利要求10的方法，其特征是粘合劑是由(1)丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨酯樹(shù)脂涂料，及樹(shù)脂珠組成，或由(2)多元醇涂料及硬化劑組成。14.權(quán)利要求10的方法，其特征是底層是通過(guò)涂敷由復(fù)合金屬氧化物水合物10-60wt％，和丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨酯樹(shù)脂涂料25-89wt％，及樹(shù)脂珠1-15wt％組成的粘合劑組合物，在40-180℃溫度下，干燥該組合物而形成的。15.權(quán)利要求10的方法，其特征是底層是通過(guò)涂敷由復(fù)合金屬氧化物水合物10-60wt％，和多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物40-90wt％組成的粘合劑組合物，在40-180℃溫度下干燥該組合物而形成，上述多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物，是以多元醇醇涂料對(duì)聚異氰酸酯硬化劑的重量比為10∶1-10∶10的比率構(gòu)成的。16.權(quán)利要求10的方法，其特征是絕緣體基板是由PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PS(聚苯乙烯)、PP(聚丙烯)、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)、AS(丙烯腈-苯乙烯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PVA(聚醋酸乙烯)、PVDC(聚偏氯乙烯)、PPO(聚亞苯基氧化物)、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)組成的組中選擇的通用的塑料；由PA(聚酰胺)、POM(聚縮醛)、PC(聚碳酸酯)、PPE(改性聚苯醚)、PBT(聚對(duì)苯二酸丁二醇酯)、GF-PET(玻璃纖維增強(qiáng)聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、UHPE(超高分子量聚乙烯)組成的組中選擇的通用工程塑料；由PSF(聚砜)、PES(聚醚砜)、PPS(聚苯亞硫酸酯)、PAR(多芳基化合物)、PAI(聚酰胺亞胺)、PEI(聚醚亞胺)、PEEK(聚醚醚酮)、PI(聚亞胺)、氟樹(shù)脂組成的組中選擇的超級(jí)工程塑料；由苯酚、尿素、密胺、醇酸樹(shù)脂、不飽和聚酯、環(huán)氧乙烷、對(duì)苯二酸二丙烯酯、聚氨酯、硅組成的組中選擇的熱硬化性樹(shù)脂；由橡膠、陶瓷、玻璃、玻璃纖維、木材、陶瓷器、纖維及紙組中的組成選擇的物質(zhì)。17.權(quán)利要求10的方法，其特征是底層的膜厚為3-25μm的范圍內(nèi)。18.權(quán)利要求10的方法，其特征是金屬層的膜厚為0.5-4μm的范圍內(nèi)。19.權(quán)利要求10的方法，其特征是通過(guò)非電解鍍，形成金屬層后，進(jìn)一步通過(guò)電解鍍法重疊其他金屬鍍層的步驟。20.涂料組合物，其特征是由10-60wt％的復(fù)合金屬氧化物水合物和40-90wt％的粘合劑組成。21.權(quán)利要求20的涂料組合物，其特征是上述復(fù)合金屬氧化物水合物，用下述通式，M1x·M2O3·n(H2O)(式中，M1是Pd或Ag，M2是Si、Ti或Zr，M1是Pd時(shí)，X是1，M1是Ag時(shí)，X是2，n是整數(shù))表示。22.權(quán)利要求20的涂料組合物，其特征是上述M1是Pd、上述M2是Si、Ti或Zr。23.權(quán)利要求20的涂料組合物，其特征是粘合劑由(1)丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨酯樹(shù)脂涂料及樹(shù)脂珠組成，或由(2)多元醇涂料及硬化劑組成。24.權(quán)利要求23的涂料組合物，其特征是粘合劑是由丙烯酸樹(shù)脂涂料和/或聚氨酯樹(shù)脂涂料25-89wt％，及樹(shù)脂珠1-15wt％組成。25.權(quán)利要求23的涂料組合物，其特征是粘合劑由多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物40-90wt％組成的組合物形成，上述多元醇涂料和聚異氰酸酯硬化劑的混合物，以多元醇涂料對(duì)聚異氰酸酯硬化劑的重量比為10∶1-10∶10的比率構(gòu)成。26.復(fù)合金屬氧化物水合物的制造方法，其特征是由將由Pd及Ag的金屬化合物類(lèi)組成的組中選擇的1種金屬化合物溶解在鹽酸中，接著加入由Si、Ti及Zr組成的組中選擇的金屬氧化物進(jìn)行加熱，然后中和，中和后再加熱，洗凈生成的沉淀物組成。27.權(quán)利要求26的方法，其特征是進(jìn)一步包括對(duì)于由Si、Ti及Zr組成的組中選擇的金屬氧化物粉末，進(jìn)行紫外線照射、微波加熱或可見(jiàn)光線照射的預(yù)處理。28.權(quán)利要求26的方法，其特征是由將氯化鈀溶解在鹽酸中，接著加入經(jīng)過(guò)紫外線照射處理的氧化硅、氧化鈦或氧化鋯，中和，中和后進(jìn)行加熱，洗凈生成的沉淀物構(gòu)成。29.權(quán)利要求26的方法，其特征是60-100℃溫度下進(jìn)行加熱。30.權(quán)利要求26的方法，其特征是將沉淀生成物以漿液狀原樣保存。全文摘要本發(fā)明提供了優(yōu)良的電磁波屏蔽膜，該電磁波屏蔽膜的特征是由在構(gòu)成受到電磁波障礙的電子裝置類(lèi)的絕緣體基板至少一個(gè)面上形成的底層，和在該底層表面上形成的金屬層組成的電磁波屏蔽膜，上述底層由10-60wt％的復(fù)合金屬氧化物水合物和40-90wt的粘合劑構(gòu)成，上述金屬層通過(guò)非電解鍍銅或鎳而構(gòu)成。文檔編號(hào)C01G23/00GK1159733SQ9612270公開(kāi)日1997年9月17日申請(qǐng)日期1996年9月4日優(yōu)先權(quán)日1995年9月4日發(fā)明者永池一平,水口良藏,簗瀨正知申請(qǐng)人:吉野電化工業(yè)株式會(huì)社