一種具有抗電磁波oca光學(xué)膠膜的液晶顯示屏及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及0CA光學(xué)膠膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有抗電磁波0CA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場(chǎng)上提供的手機(jī)保護(hù)膜種類繁多，其一般都是依靠黏膠貼在屏幕上的透明薄膜，較易脫落起泡，抗刮抗震性能差，使用壽命較短。而新型的鋼化玻璃保護(hù)膜則很好解決了上述缺點(diǎn)，并且貼合容易且緊密，具有較高的堅(jiān)韌度。
[0003]然而，目前應(yīng)用于鋼化玻璃的0CA光學(xué)膠膜功能單一，不具有市面上普通保護(hù)膜的抗電磁波功能，導(dǎo)致其使用和保護(hù)性能不佳，使得采用鋼化玻璃后的液晶顯示屏也不具有抗電磁波的功能，難以滿足用戶的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足，本發(fā)明的目的在于提供一種具有抗電磁波0CA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏，該液晶顯示屏具有較好的抗電磁波功能，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低，實(shí)用性強(qiáng)。
[0005]本發(fā)明的另一目的在于提供一種具有抗電磁波0CA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏的制備方法，該制備方法工藝簡(jiǎn)單，操作控制方便，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)效率高，生產(chǎn)成本低，適合大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
[0006]本發(fā)明的目的通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種具有抗電磁波0CA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏，包括屏幕、貼合于屏幕上表面的硅膠層、貼合于硅膠層上表面的抗電磁波高黏膠層、以及貼合于抗電磁波高黏膠層上表面的鋼化玻璃。
[0007]本發(fā)明的液晶顯示屏通過(guò)采用抗電磁波0CA光學(xué)膠膜，具有較好的抗電磁波功能，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低，實(shí)用性強(qiáng)。
[0008]優(yōu)選的，所述抗電磁波高黏膠層為含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層。本發(fā)明通過(guò)采用含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層，抗電磁波效果好，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。
[0009]所述硅膠層的原料為有機(jī)硅膠。本發(fā)明通過(guò)采用有機(jī)硅膠作為硅膠層，其粘合效果好。
[0010]所述抗電磁波高黏膠層的厚度為30-50 μπι。本發(fā)明通過(guò)將抗電磁波高黏膠層的厚度控制在30-50 μ m，抗電磁波效果好，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。更為優(yōu)選的，所述抗電磁波高黏膠層的厚度為40 μπι。
[0011]所述硅膠層的厚度為20-40 μ mo本發(fā)明通過(guò)將硅膠層的厚度控制在20-40 μ m，粘合性能好，與抗電磁波高黏膠層粘貼緊密。更為有優(yōu)選的，所述硅膠層的厚度為30 μπι。
[0012]優(yōu)選的，所述抗電磁波高黏膠層的原料為添加有抗電磁波材料的高黏膠，抗電磁波材料與高黏膠的重量比為1-5:100，抗電磁波材料包括如下重量份的原料:
納米銀顆粒 20-35份增稠劑4-5.5份
分散劑3-5份
溶劑46-70份。
[0013]本發(fā)明的抗電磁波高黏膠層通過(guò)采用上述原料，并嚴(yán)格控制各原料的重量份，抗電磁波效果好，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。
[0014]更為優(yōu)選的，所述抗電磁波材料與高黏膠的重量比為2-4:100，抗電磁波材料包括如下重量份的原料:
納米銀顆粒 24-32份增稠劑4.4-5.2份
分散劑3.5-4.5份
溶劑52-64份。
[0015]更為優(yōu)選的，所述抗電磁波材料與高黏膠的重量比為3:100，抗電磁波材料包括如下重量份的原料:
納米銀顆粒 28份增稠劑4.8份
分散劑4份
溶劑58份。
[0016]優(yōu)選的，所述高黏膠為丙烯酸類高黏膠、有機(jī)硅類高黏膠和聚氨酯類高黏膠中的任意一種。本發(fā)明通過(guò)采用丙烯酸類高黏膠、有機(jī)硅類高黏膠和聚氨酯類高黏膠中的任意一種作為高黏膠，其粘合效果好。
[0017]優(yōu)選的，所述納米銀顆粒為粒徑在200-600nm的納米銀顆粒。本發(fā)明通過(guò)采用粒徑在200-600nm的納米銀顆粒，抗電磁波效果好。
[0018]優(yōu)選的，所述增稠劑為維卡軟化點(diǎn)在135-155 V、熔點(diǎn)在165-185 V、相對(duì)密度1.06-1.18g/cm3的乙基纖維素。本發(fā)明通過(guò)采用維卡軟化點(diǎn)在135-155 °C、熔點(diǎn)在165-185°C、相對(duì)密度1.06-1.18g/cm3的乙基纖維素作為增稠劑，可以改善和增加抗電磁波高黏膠的粘稠度，增強(qiáng)穩(wěn)定性。
[0019]優(yōu)選的，所述分散劑為相對(duì)密度在0.984-0.988、折射率在1.46-1.50、脂肪酸含量在85%-90%的山梨醇酐三油酸酯。本發(fā)明通過(guò)采用相對(duì)密度在0.984-0.988、折射率在
1.46-1.50、脂肪酸含量在85%-90%的山梨醇酐三油酸酯作為分散劑，能將納米銀顆粒充分分散，防止納米銀顆粒沉降和凝聚，形成穩(wěn)定的抗電磁波高黏膠。
[0020]優(yōu)選的，所述溶劑是由松油醇和無(wú)水乙醇以體積比1:15-25組成的混合物。本發(fā)明通過(guò)采用松油醇和無(wú)水乙醇作為溶劑，并控制其重量比為1-5:45-65，溶解性好，有利于原料的溶解和分散。
[0021]本發(fā)明的另一目的通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種具有抗電磁波0CA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏的制備方法，包括如下步驟:
(1)制備復(fù)合膜A:
取重離型膜，在重離型膜的一面進(jìn)行電暈處理后涂布一層抗電磁波高黏膠，高溫固化，形成抗電磁波高黏膠層，在抗電磁波高黏膠層的另一面貼合第一輕離型膜，制得復(fù)合膜A ;
(2)制備復(fù)合膜B:
取中離型膜，在中離型膜的一面進(jìn)行電暈處理后涂布一層硅膠，高溫固化，形成硅膠層，在硅膠層的另一面貼合第二輕離型膜，制得復(fù)合膜B ;
(3)制備抗電磁波OCA光學(xué)膠膜:
將復(fù)合膜A撕去第一輕離型膜，將復(fù)合膜B撕去第二輕離型膜，將復(fù)合膜A的抗電磁波高黏膠層與復(fù)合膜B的硅膠層貼合，制得抗電磁波OCA光學(xué)膠膜；
(4)制備具有抗電磁波OCA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏:
取一鋼化玻璃，將抗電磁波OCA光學(xué)膠膜一面的重離型膜撕去，與鋼化玻璃貼合；然后取一液晶顯示屏，撕去抗電磁波OCA光學(xué)膠膜另一面的中離型膜，將抗電磁波OCA光學(xué)膠膜的硅膠層與液晶顯示屏貼合，制得具有抗電磁波OCA光學(xué)膠膜的液晶顯示屏。
[0022]本發(fā)明的制備方法工藝簡(jiǎn)單，操作控制方便，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)效率高，生產(chǎn)成本低，適合大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
[0023]所述重離型膜為剝離力在8_15g的重離型膜。本發(fā)明通過(guò)采用剝離力在8_15g的重離型膜，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本發(fā)明的0CA光學(xué)膠膜。剝離力的測(cè)試采用剝離強(qiáng)度測(cè)試儀，樣品大小25mm*300mm，2KG力壓接30min后，以1.2m/min, 180°剝離(對(duì)玻璃)。
[0024]所述重離型膜為表面經(jīng)過(guò)電暈處理的PET重離型膜。電暈處理其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表面電暈放電(高頻交流電壓高達(dá)5000-15000V/m2)，而產(chǎn)生低溫等離子體，使塑料表面產(chǎn)生游離基反應(yīng)而使聚合物發(fā)生交聯(lián).表面變粗糙并增加其對(duì)極性溶劑的潤(rùn)濕性-這些離子體由電擊和滲透進(jìn)入被印體的表面破壞其分子結(jié)構(gòu)，進(jìn)而將被處理的表面分子氧化和極化，離子電擊侵蝕表面，以致增加承印物表面的附著能力。電暈處理使承印物表面分子結(jié)構(gòu)重新排列，產(chǎn)生更多的極性部位，有利于附著外物。
[0025]所述中離型膜為剝離力在3-10g的中離型膜。本發(fā)明通過(guò)采用剝離力在3-10g的中離型膜，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本發(fā)明的0CA光學(xué)膠膜。剝離力的測(cè)試采用剝離強(qiáng)度測(cè)試儀，樣品大小25mm*300mm，2KG力壓接30min后，以1.2m/min, 180°剝離(對(duì)玻璃)。
[0026]所述中離型膜為表面經(jīng)過(guò)電暈處理的PET中離型膜、PE中離型膜、0ΡΡ中離型膜、Β0ΡΕΤ中離型膜或Β0ΡΡ中離型膜。電暈處理使承印物表面分子結(jié)構(gòu)重新排列，產(chǎn)生更多的極性部位，有利于附著外物。
[0027]所述重離型膜的厚度為23-100 μπι。本發(fā)明通過(guò)將重離型膜的厚度控制在23-100 μπι，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本發(fā)明的光學(xué)膜。更為優(yōu)選的，所述重離型膜的厚度為75 μπι。
[0028]所述中離型膜的厚度為23-100 μπι。本發(fā)明通過(guò)將中離型膜的厚度控制在23-100 μπι，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本發(fā)明的光學(xué)膜。更為優(yōu)選的，所述中離型膜的厚度為75 μπι。
[0029]優(yōu)選的，所述步驟(1)和所述步驟(2 )中，涂布方式采用凹版涂布、刮刀涂布、擠出涂布和狹縫涂布中的任意一種。本發(fā)明通過(guò)采用上述涂布方式，涂布均勻，涂布效果好。更為優(yōu)選的，所述涂布方式采用刮刀涂布。
[0030]所述步驟(1)和