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一種釉料隔離印彩陶瓷器的制備方法與流程

文檔序號:11427823閱讀:1051來源:國知局

本發(fā)明涉及一種彩陶瓷器的制備方法,具體涉及一種物美價廉的釉料隔離印彩陶瓷器的制備方法,屬于陶瓷制備技術(shù)領(lǐng)域。



背景技術(shù):

陶瓷器的品種較多,如餐具的盤、碗、碟等,通常都是在成型的胎體上施用瓷釉加以裝飾。瓷釉可以處理成顏色釉,有些顏色釉可以通過燒成的溫度處理形成窯變,使釉面產(chǎn)生不規(guī)則的圖紋或結(jié)晶圖案。目前,在行業(yè)中采用顏色釉裝飾中,花紋圖案不夠清晰和美觀,達不到設(shè)計的精細化要求,而且成本較高且生產(chǎn)效率低。而采用顏色料手工彩繪或印制成花紙,對陶瓷器進行裝飾,不具備顏色釉裝飾的效果。

近期以來,行業(yè)中已采用移印機對陶瓷器進行彩印,速度快、生產(chǎn)效率高。但是移印機彩印是采用顏色料,彩繪后再進行施釉,在陶瓷器上體現(xiàn)的是平整的圖案,釉面層只是起到保護層作用;而且顏色料的光澤度較差,未能達到顏色釉的裝飾效果。

如何采用轉(zhuǎn)移印彩技術(shù)和設(shè)備,應(yīng)用于顏色釉的裝飾,使顏色釉的圖案能達到設(shè)計的精細效果,制備出有別于傳統(tǒng)釉面裝飾的瓷器,是目前行業(yè)中工程技術(shù)人員和產(chǎn)品設(shè)計人員共同研究和創(chuàng)新的課題。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種釉料隔離印彩陶瓷器的制備方法,采用本發(fā)明方法制備的產(chǎn)品表面釉層整體形成有輕微凹凸面的、帶有顏色的花紋圖案,立體效果好;釉料隔離印彩陶瓷器外觀規(guī)整,釉面光滑,釉面中線條形狀的花紋圖案清晰;且該方法效率高,成本低。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下:

一種釉料隔離印彩陶瓷器的制備方法,包括以下生產(chǎn)步驟:

(1)基礎(chǔ)釉粉制備:將基礎(chǔ)釉粉原料混和后加清水進行濕法球磨,經(jīng)球磨原料通過除鐵機進行除鐵,過320目篩,然后過濾去水份后進行烘干,制備出基礎(chǔ)釉粉;

(2)表層釉料制備:取步驟(1)制備的基礎(chǔ)釉粉86-92重量份和色基料8-14重量份作為表層釉料的原料,混和后加清水進行濕法球磨,過320目篩,然后用清水調(diào)配成濃度為42波美度的表層釉料備用;

(3)底層釉料制備:取步驟(1)制備的基礎(chǔ)釉粉58-62重量份、色基料8-14重量份,經(jīng)混和后加清水進行濕法球磨,過320目篩,過濾去水份后烘干制成干粉;然后加入皂土4-6重量份、隔離劑12-16重量份、植物膠2-4重量份、煤油6-8重量份混和并攪拌均勻,制備出底層釉料;

(4)陶瓷器胎體制備:采用日用陶瓷器常規(guī)的坯料和成型方法、修坯方法,制作出泥質(zhì)胎體;經(jīng)制成的泥質(zhì)胎體存放于通風處自然干燥,使泥質(zhì)胎體的含水率達到1-1.5%;

(5)印彩:采用日用陶瓷常規(guī)使用的轉(zhuǎn)移印彩機,選用上述的底層釉料,對上述的泥質(zhì)胎體進行表面的印彩,印制出線條狀構(gòu)成的花紋圖案;

(6)烘干:采用烘干爐對經(jīng)印彩的制品進行烘干,存放于干燥處;

(7)浸釉:采用日用陶瓷常規(guī)的手工浸釉方法,采用上述的表層釉料,對經(jīng)彩印及烘干的制品進行浸釉,經(jīng)浸釉制品存放于通風干燥處8-16小時;

(8)燒成:采用日用陶瓷生產(chǎn)的燒成窯爐,將經(jīng)施釉的制品進行燒成,制備出釉料隔離印彩的陶瓷器。

步驟(1)所述的基礎(chǔ)釉粉原料為鉀長石24-28重量份、石英28-32重量份、高嶺土10-12重量份、方解石16-18重量份、燒滑石8-10重量份、硅酸鋯6-8重量份、氧化鋅2-4重量份。

步驟(5)所述的印彩的線條寬度為1-2mm,厚度為0.3-0.5mm。

步驟(6)所述的烘干溫度為80-90℃,烘干時間為1-3小時。

步驟(7)所述的制品在表層釉料釉液中停留時間為3-5秒鐘,制品表面吸附釉層厚度為0.3-0.5mm。

步驟(8)所述的燒成氣氛為氧化氣氛,燒成最高溫度為1290-1330℃,燒成時間為12-14小時。

本發(fā)明的有益效果是:

(1)制品裝飾采用的是釉料,不同于常規(guī)彩繪用的顏色料。釉料分為底層釉料和面層釉料,主要成份都是基礎(chǔ)釉料,可使底層釉料和面層釉料在燒成中能親和,形成一個釉層整體,并與制品胎體表面良好結(jié)合。

(2)底層釉料中加入隔離劑、煤油等油性物質(zhì),使底層釉料成為油性釉料;加入皂土、植物膠使釉料粘度提高且,適用于轉(zhuǎn)移印彩。底層釉料經(jīng)轉(zhuǎn)移印彩之后,在泥質(zhì)胎體表面形成占位性的花紋圖案線條,花紋圖案線條經(jīng)烘干之后,線條表面形成憎水性能。

(3)面層釉料在浸釉時,制品表面已存在的花紋圖案線條不會吸釉,而線條間隔空間部分能吸附釉,釉料自然地在花紋圖案線條的隔離空間處吸釉,近似于填彩。

(4)采用印彩和浸釉的結(jié)合方式,與傳統(tǒng)的彩繪后施釉方式有異曲同工之處,但其生產(chǎn)效率高,可應(yīng)用于自動化和機械化生產(chǎn)的轉(zhuǎn)移印彩,而且生產(chǎn)成本低,制品釉面具有獨特藝術(shù)效果。

(5)制品在燒成過程中,在窯溫達到800℃之前,底層釉料中的高分子材料和有機物質(zhì)(如隔離劑等)分解揮發(fā)并離開制品,在窯溫達到1100℃之后,底層釉料與面層釉料中的礦化物質(zhì)熔融連成一體。由于底釉釉料印刷的線條中部分物質(zhì)分解揮發(fā),線條厚度變小,面層釉料揮發(fā)物少,厚度較高,經(jīng)燒成制品釉層面形成線條淺、空間釉層高的立體感效果。

具體實施方式

下面通過實例對本發(fā)明做進一步詳細說明,這些實例僅用來說明本發(fā)明,并不限制本發(fā)明的范圍。

實施例1

一種釉料隔離印彩陶瓷器的制備方法,包括以下生產(chǎn)步驟:

(1)基礎(chǔ)釉粉制備:選取鉀長石26重量份、石英30重量份、高嶺土11重量份、方解石17重量份、燒滑石8重量份、硅酸鋯6重量份、氧化鋅2重量份作為基礎(chǔ)釉粉原料,將其混和后加清水進行濕法球磨,經(jīng)球磨原料通過除鐵機進行除鐵,過320目篩,然后過濾去水份后進行烘干,制備出基礎(chǔ)釉粉;

(2)表層釉料制備:取步驟(1)制備的基礎(chǔ)釉粉90重量份和色基料10重量份作為表層釉料的原料,混和后加清水進行濕法球磨,過320目篩,然后用清水調(diào)配成濃度為42波美度的表層釉料備用;

(3)底層釉料制備:取步驟(1)制備的基礎(chǔ)釉粉60重量份、色基料10重量份,經(jīng)混和后加清水進行濕法球磨,過320目篩,過濾去水份后烘干制成干粉;然后加入皂土5重量份、隔離劑14重量份、植物膠3重量份、煤油8重量份混和并攪拌均勻,制備出底層釉料;

(4)陶瓷器胎體制備:采用日用陶瓷器常規(guī)的坯料和成型方法、修坯方法,制作出泥質(zhì)胎體;經(jīng)制成的泥質(zhì)胎體存放于通風處自然干燥,使泥質(zhì)胎體的含水率達到1-1.5%;

(5)印彩:采用日用陶瓷常規(guī)使用的轉(zhuǎn)移印彩機,選用上述的底層釉料,對上述的泥質(zhì)胎體進行表面的印彩,印制出線條狀構(gòu)成的花紋圖案;印彩的線條寬度為1-2mm,厚度為0.3-0.5mm;

(6)烘干:采用烘干爐對經(jīng)印彩的制品進行烘干,烘干溫度為80℃,烘干時間為3小時,然后存放于干燥處;

(7)浸釉:采用日用陶瓷常規(guī)的手工浸釉方法,采用上述的表層釉料,對經(jīng)彩印及烘干的制品進行浸釉,制品在表層釉料釉液中停留時間為4秒鐘,制品表面吸附釉層厚度為0.4mm;經(jīng)浸釉制品存放于通風干燥處8小時;

(8)燒成:采用日用陶瓷生產(chǎn)的燒成窯爐,將經(jīng)施釉的制品進行燒成,燒成氣氛為氧化氣氛,燒成最高溫度為1300℃,燒成時間為14小時,制備出釉料隔離印彩的陶瓷器。

實施例2

根據(jù)本發(fā)明技術(shù)的制備方法,特進行了對比試驗,結(jié)果如下:

(1)與實施例不同的是,底層釉料中不加入隔離劑,經(jīng)印彩的圖紋線條不具備憎水性,導致制品燒成后釉面的圖紋線條不清晰,制品釉面不具備藝術(shù)效果。

(2)與實施例不同的是,底層釉料中不加入皂土,印制的線條不干整和有斷缺現(xiàn)象。

(3)與實施例不同的是,浸釉時制品在釉液中停留時間為2秒,經(jīng)浸釉制品吸附釉層厚度不足,使制品燒成后的釉面藝術(shù)效果下降。

(4)與實施例不同的是,制品的最高燒成溫度為1100℃,經(jīng)燒成制品的釉面光澤度差。

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