本發(fā)明涉及玻璃工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種導(dǎo)電玻璃的制造方法。
背景技術(shù)：
玻璃是由二氧化硅和其他化學(xué)物質(zhì)熔融在一起形成的(主要生產(chǎn)原料為：純堿、石灰石、石英)。在熔融時(shí)形成連續(xù)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，冷卻過程中粘度逐漸增大并硬化致使其結(jié)晶的硅酸鹽類非金屬材料，現(xiàn)在廣泛應(yīng)用在建筑、科技和電子產(chǎn)品之中，然而普通玻璃并不能導(dǎo)電不能作為導(dǎo)電物質(zhì)使用，無法應(yīng)用于更精密的部件運(yùn)作，所以現(xiàn)在市面上需要一種導(dǎo)電玻璃。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種可以導(dǎo)電的導(dǎo)電玻璃的制造方法，以解決背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，所述玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，所述導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，所述鎳粉的體積百分比為20％-25％、胺基材料的體積百分比為22％-40％、銅粉18％-33％、鉻粉7％-12％和抗氧劑5％-10％。
優(yōu)選的，所述玻璃基層制造方法包括以下步驟：
(1)配料：按照設(shè)計(jì)好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；
(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，所述池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1300℃-1600℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；
(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，所述玻璃成型過程中溫度大約在800℃-1150℃之間，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；
(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，所述退火過程持續(xù)進(jìn)行5-7min，所述退火爐溫度控制在570℃-590℃之間。
優(yōu)選的，所述導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，將所述鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑按照比例置溶化混合形成液體物質(zhì)，所述導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，所述導(dǎo)電膜層噴灑層數(shù)為5層，所述導(dǎo)電膜層每層的厚度應(yīng)小于10nm。
本發(fā)明采用完整的玻璃生產(chǎn)機(jī)制保證了玻璃基層的完整，而多種導(dǎo)電物質(zhì)混合形成的導(dǎo)電膜層混合成分保證了玻璃導(dǎo)電的效果，增強(qiáng)了玻璃的導(dǎo)電性能，可以使玻璃應(yīng)用在各種不同的領(lǐng)域。
具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
實(shí)施例一：
一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，鎳粉的體積百分比為32％、胺基材料的體積百分比為23％、銅粉22％、鉻粉14％和抗氧劑9％。
玻璃基層制造方法包括以下步驟：
(1)配料：按照設(shè)計(jì)好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；
(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1500℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；
(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，玻璃成型過程中溫度設(shè)置為1100℃，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；
(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，退火過程持續(xù)進(jìn)行6min，退火爐溫度控制在580℃。
導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，將鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑按照比例置溶化混合形成液體物質(zhì)，導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，導(dǎo)電膜層噴灑層數(shù)為5層，導(dǎo)電膜層每層的厚度為8nm。
將加工好的導(dǎo)電玻璃進(jìn)行通電試驗(yàn)，通電效果良好，符合標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)施例二：
一種導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括玻璃基層制造方法和導(dǎo)電膜層，玻璃基層制造方法包括配料、溶制、成型和退火，導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，鎳粉的體積百分比為23％、胺基材料的體積百分比為30％、銅粉28％、鉻粉11％和抗氧劑8％。
玻璃基層制造方法包括以下步驟：
(1)配料：按照設(shè)計(jì)好的料方單，將各種原料稱量后按照一定比例在混料機(jī)內(nèi)混合均勻；
(2)溶制：將混合好的配料投入池窯內(nèi)，池窯內(nèi)部溫度設(shè)置為1550℃，將配好的原料經(jīng)過高溫加熱，形成均勻無氣泡的玻璃液；
(3)成型：將溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一種形態(tài)，玻璃成型過程中溫度設(shè)置為1000℃，熱膨脹系數(shù)5.0X10-7；
(4)退火：將已經(jīng)成型的玻璃基層由退火爐的入口放入，由退火爐出口取出，退火過程持續(xù)進(jìn)行5.5min，退火爐溫度控制在590℃。
導(dǎo)電膜層的組成材料包括鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑，將鎳粉、胺基材料、銅粉、鉻粉和抗氧劑按照比例置溶化混合形成液體物質(zhì)，導(dǎo)電膜層通過平面磁控濺射的方式將導(dǎo)電膜層混合物質(zhì)噴灑在玻璃基層的表面形成導(dǎo)電膜層，導(dǎo)電膜層噴灑層數(shù)為5層，導(dǎo)電膜層每層的厚度為9nm。
將加工好的導(dǎo)電玻璃進(jìn)行通電試驗(yàn)，通電效果良好，符合標(biāo)準(zhǔn)。
盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。