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一種二代高溫超導(dǎo)過(guò)渡層鋯酸鑭的制備方法與流程

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一種二代高溫超導(dǎo)過(guò)渡層鋯酸鑭的制備方法與流程

本發(fā)明屬于二代高溫超導(dǎo)領(lǐng)域,涉及一種用于制備二代高溫超導(dǎo)體過(guò)渡層的方法。



背景技術(shù):

以YBa2Cu3O7(YBCO)為代表的第二代高溫超導(dǎo)材料,是性能優(yōu)越且有廣泛應(yīng)用前景的功能材料。YBCO涂層高溫超導(dǎo)帶材是用織構(gòu)金屬基板Ni合金作為基底,同時(shí)需要在基底和超導(dǎo)層之間加入過(guò)渡層。過(guò)渡層主要是防止各種原子擴(kuò)散,并達(dá)到外延織構(gòu)的作用。因此制備出性能優(yōu)良的過(guò)渡層對(duì)YBCO超導(dǎo)帶材的實(shí)際應(yīng)用意義重大。

鋯酸鑭(La2Zr2O7)因化學(xué)穩(wěn)定性高、熱膨脹系數(shù)小等特點(diǎn)可作為過(guò)渡層的材料。目前制備方法主要采用化學(xué)溶液法(CSD)和脈沖激光沉積法(PLD),化學(xué)溶液法制備的鋯酸鑭過(guò)渡層工藝復(fù)雜且不穩(wěn)定,制備的過(guò)渡層較薄,而脈沖激光沉積法需要真空環(huán)境,制備成本高效率低。為改善傳統(tǒng)過(guò)渡層制備方法存在的問(wèn)題,本發(fā)明提出了以下制備方法。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是針對(duì)化學(xué)溶液法和脈沖激光沉積法制備鋯酸鑭過(guò)渡層存在的缺陷提出一種成本低、效率高的制備方法,該方法制備出的鋯酸鑭過(guò)渡層具有納米結(jié)構(gòu)并且性能穩(wěn)定。該方法以等離子噴涂替代傳統(tǒng)的過(guò)渡層制備方法,采用液料輸送,避免了晶粒的燒結(jié)與長(zhǎng)大,通過(guò)配置一定濃度的前驅(qū)液,將前驅(qū)體注入高溫等離子火焰中發(fā)生物理化學(xué)變化,前驅(qū)體氫氧化鑭、氫氧化鋯溶膠高溫分解形成氧化鑭和氧化鋯,最終沉積在NiW基帶上,形成性能穩(wěn)定的燒綠石結(jié)構(gòu)的鋯酸鑭(La2Zr2O7)過(guò)渡層。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出一種過(guò)渡層的制備方法,選用鋯鹽和鑭鹽作為原料,配制成前驅(qū)體,經(jīng)霧化噴嘴霧化,形成細(xì)小的液滴快速注入高溫等離子火焰中,最終沉積在NiW基帶上形成過(guò)渡層。技術(shù)方案如下:

(1):稱量一定量鑭鹽和鋯鹽,鑭離子和鋯離子的摩爾比例為1:1,溶于去離子水中,鑭離子濃度控制在0.2~1.0mol/L之間;

(2):向步驟(1)溶解完全的混合溶液中加入表面活性劑,表面活性劑的添加量占溶液總體積的3%~5%,之后水浴加熱,溫度控制在50~80℃;

(3):向上述步驟(2)溶液中加入沉淀劑,沉淀劑調(diào)節(jié)溶液pH值為3~5,使溶液形成澄清透明穩(wěn)定的溶膠前驅(qū)體;

(4):將配制好的溶膠前驅(qū)體注入霧化噴嘴的前驅(qū)體容器中,采用二流霧化方式霧化溶膠前驅(qū)體溶液,使霧化溶膠前驅(qū)體溶液噴射入高溫等離子火焰中,在等離子火焰中瞬間發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)并被等離子火焰帶著沉積到NiW基帶上形成過(guò)渡層。

其中步驟(1)中前驅(qū)體原料鑭鹽可以選自硝酸鹽、乙酰丙酮鹽,鋯鹽可以選自硝酸鹽、氧氯化鹽或乙酰丙酮鹽。

其中優(yōu)選采用的原料是六水硝酸鑭和五水硝酸鋯。

其中表面活性劑選自乙二醇、聚乙二醇、異丙醇或異丁醇,優(yōu)選乙二醇。

其中沉淀劑選用的是氨水,氨水的濃度為0.5~1.0mol/L。

其中上述步驟(4)過(guò)渡層制備中液料流量為10~25ml/min,霧化氣壓為0.1~0.3Mpa,NiW基帶與等離子槍的距離為5~10cm,霧化噴嘴與等離子槍的距離為3~6mm。

本發(fā)明以等離子噴涂制備過(guò)渡層替代化學(xué)溶液法和脈沖激光沉積法,大大提高了成膜速率,制備成本低,獲得的過(guò)渡層厚度高具有納米結(jié)構(gòu),并且性能穩(wěn)定,適合未來(lái)企業(yè)快速生產(chǎn),為釔鋇銅氧高溫超導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用提供了技術(shù)支持。

附圖說(shuō)明

圖1為采用本發(fā)明制備鋯酸鑭過(guò)渡層的工藝流程示意圖。

1:前驅(qū)體容器 2:前驅(qū)體傳輸管道

3:二流霧化噴嘴 4:前驅(qū)體注入壓力閥

5:霧化氣體壓力閥 6:等離子射流

7:鎳鎢(NiW)基帶 8:清洗液容器

9:清洗液傳輸管道 10:清洗液壓力閥

圖2為AFM掃描圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明,但本發(fā)明并不限于以下實(shí)施例。

為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的具體內(nèi)容,結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做詳細(xì)說(shuō)明。圖1為本發(fā)明制備鋯酸鑭過(guò)渡層的工藝流程示意圖。本發(fā)明所提出鋯酸鑭過(guò)渡層制備新方法的技術(shù)方案是以鑭鹽和鋯鹽為原料,乙二醇等為表面活性劑,氨水作為沉淀劑配制溶液前驅(qū)體,以等離子噴涂替代傳統(tǒng)的化學(xué)溶液法和脈沖激光沉積法制備過(guò)渡層,將制備好的前驅(qū)體置于前驅(qū)體容器1中,通過(guò)前驅(qū)體注入壓力閥4控制前驅(qū)體的流量,經(jīng)前驅(qū)體傳輸管道2注入到二流霧化噴嘴3中,在霧化氣體壓力閥5的調(diào)控下霧化成細(xì)小的霧化液滴,霧化液滴液滴快速注入等離子射流6(等離子火焰)中,在等離子火焰下經(jīng)歷溶劑蒸發(fā)、濃縮、析出、燒結(jié)、熔化等物理化學(xué)變化最終沉積到NiW基帶7上形成過(guò)渡層。待制備完過(guò)渡層,將去離子水注入清洗液容器8中,經(jīng)清洗液傳輸管道9注入二流霧化噴嘴3中通過(guò)清洗液壓力閥10的調(diào)節(jié)對(duì)霧化噴嘴進(jìn)行清洗。

實(shí)施例1:

稱量一定固體六水硝酸鑭和五水硝酸鋯置于燒杯中,加入去離子水溶解,鑭離子和鋯離子的比例為1:1,鑭離子濃度控制在0.6mol/L,在室溫下電磁攪拌,使充分溶解,之后加入表面活性劑乙二醇,乙二醇添加量為溶液總體積的4%,并在60℃下水浴加熱,加入沉淀劑氨水,氨水濃度為0.8mol/L,調(diào)節(jié)溶液pH值至3~5之間,溶液形成溶膠前驅(qū)體。

將配制完成的前驅(qū)體以20ml/min的流量輸送,經(jīng)霧化噴嘴充分霧化,霧化氣壓為0.2Mpa,化噴嘴與等離子槍的距離為5mm,NiW基帶與等離子槍距離為8cm,前驅(qū)體在等離子火焰下經(jīng)歷溶劑蒸發(fā)、濃縮、析出、燒結(jié)、熔化等一系列物理化學(xué)變化,最終沉積到NiW基帶上形成過(guò)渡層,根據(jù)圖2AFM掃描分析鋯酸鑭過(guò)渡層具有納米結(jié)構(gòu)性能穩(wěn)定并且分布均勻,粗糙度在3nm以下。

以上所述實(shí)施例是本發(fā)明的較佳實(shí)施例之一而已,任何未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的簡(jiǎn)單修改,等同變化與修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。

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