本發(fā)明涉及透明板、觸摸板、以及觸摸屏。
背景技術(shù)：
：針對(duì)觸摸板或觸摸屏，開發(fā)了將各種功能層形成于透明基板而成的透明板(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。根據(jù)專利文獻(xiàn)1，作為功能層，用含有平均粒徑1～100μm的微粒的聚合性組合物的固化物來形成硬質(zhì)涂層。藉此，可得到硬度高且不掛住手指(指の引っ掛かりがない)的產(chǎn)品?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：國(guó)際公開第2012/160894號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的技術(shù)問題如果采用專利文獻(xiàn)1，則由于功能層含有平均粒徑1～100μm的微粒，而存在霧度變高的問題。本發(fā)明的主要目的在于，提供在保持低霧度的條件下，可得到與以往不同的觸感的透明板。解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為了解決上述問題，本發(fā)明的一實(shí)施方式提供一種透明板，其是具有透明基板、防污層的透明板，在上述透明基板的表面上具有表面粗糙度ra為0.3～300nm的微小凹凸結(jié)構(gòu)，上述防污層含有氟，上述防污層的至少一部分形成于上述微小凹凸結(jié)構(gòu)的位置處，上述微小凹凸結(jié)構(gòu)的位置上的上述透明板的霧度為2％以下、下式(1)所表示的x為0.5以上。x＝(s1-s2)/(s3-s2)…(1)s1；上述微小凹凸結(jié)構(gòu)的位置上的、上述透明板的用熒光x射線測(cè)定裝置從上述防污層側(cè)測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度s2；實(shí)質(zhì)上不含有氟的玻璃板的用熒光x射線測(cè)定裝置測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度s3；含有2wt％氟的鋁硅酸鹽玻璃板(標(biāo)準(zhǔn)樣品)的用熒光x射線測(cè)定裝置測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度發(fā)明的效果本發(fā)明的一實(shí)施方式可提供在保持低霧度的條件下，可得到與以往不同的觸感的透明板。附圖說明圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的圖。圖2是表示使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的觸摸板的圖。圖3是表示使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的觸摸屏的圖。圖4是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的制造方法的流程圖。圖5是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的玻璃基板的蝕刻處理所使用的處理裝置的圖。圖6是例14的玻璃基板的蝕刻處理后的剖面照片。圖7是例14的玻璃基板的蝕刻處理后的表面照片。圖8是表示例1～43的透明板的“x”和“y”的關(guān)系的圖。具體實(shí)施方式以下，參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式進(jìn)行說明。在各圖中，對(duì)于相同或?qū)?yīng)的結(jié)構(gòu)給予相同或?qū)?yīng)的符號(hào)，并省略說明。本說明書中，表示數(shù)值范圍的“～”是指包括其前后的數(shù)值的范圍。圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的圖。透明板10具有作為透明基板的玻璃基板11、和防污層12。另外，也可使用樹脂基板來代替玻璃基板11。玻璃基板11的厚度優(yōu)選3mm以下，例如可在0.2～2.0mm的范圍。玻璃基板11的厚度更優(yōu)選0.3～1.5mm的范圍。在玻璃基板11的厚度為3mm以上的情況下，重量上升，難以輕量化，且原材料成本上升。玻璃基板11的馬氏硬度例如可為2000以上且低于4500n/mm2，更優(yōu)選2000～4000n/mm2。在馬氏硬度為2000n/mm2以上的情況下，耐久性良好。此外，如果馬氏硬度低于4500n/mm2，則能夠進(jìn)行切割等加工，在低于4000n/mm2的情況下，用手指接觸時(shí)可得到適度的凹陷感。馬氏硬度進(jìn)一步優(yōu)選2000～3500n/mm2。另外，馬氏硬度是表示覆蓋玻璃的表面的柔軟度的指標(biāo)，能夠用iso14577規(guī)定的方法進(jìn)行測(cè)定。玻璃基板11優(yōu)選在400～700nm的波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)具有高透射率，例如具有80％以上的透射率。此外，理想的是玻璃基板11具有足夠的絕緣性、化學(xué)·物理的耐久性高。玻璃基板11通過浮法、或熔融法等成形。玻璃基板11用鈉鈣硅酸鹽玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、或無堿玻璃等構(gòu)成。玻璃基板11可以是經(jīng)化學(xué)強(qiáng)化處理的化學(xué)強(qiáng)化玻璃，也可以是未強(qiáng)化玻璃。在為化學(xué)強(qiáng)化玻璃的情況下，玻璃基板11含有堿金屬。玻璃基板11例如以摩爾％表示，含有61～77％的sio2、1～18％的al2o3、8～18％的na2o、0～6％的k2o、0～15％的mgo、0～8％的b2o3、0～9％的cao、0～1％的sro、0～1％的bao、以及0～4％的zro2。sio2是形成玻璃骨架的成分，是必需成分。由于低于61摩爾％則會(huì)發(fā)生在玻璃表面上產(chǎn)生損傷時(shí)容易產(chǎn)生裂紋、耐候性下降、比重變大、或液相溫度上升、玻璃變得不穩(wěn)定等情況，因此優(yōu)選63摩爾％以上。由于sio2超過77摩爾％則使粘度達(dá)到102dpa·s的溫度t2或使粘度達(dá)到104dpa·s的溫度t4上升、玻璃難以熔解或成形，或耐候性容易下降，因此優(yōu)選70摩爾％以下。al2o3是提高離子交換性能以及耐候性的成分，是必需成分。如果低于1摩爾％則由于難以通過離子交換得到所希望的表面壓縮應(yīng)力和壓縮應(yīng)力層厚度、或耐候性容易下降等，優(yōu)選5摩爾％以上。如果超過18摩爾％，則t2或t4上升、玻璃難以熔解或成形，或液相溫度變高，變得容易失透。na2o是縮小離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻、通過離子交換形成表面壓縮應(yīng)力層、或提高玻璃的熔融性的成分，是必需成分。由于如果低于8摩爾％則難以通過離子交換形成所希望的表面壓縮應(yīng)力層，或t2或t4上升、玻璃難以熔解或成形，因此優(yōu)選10摩爾％以上。如果na2o超過18摩爾％則耐候性下降，或容易由于壓痕而產(chǎn)生裂紋。k2o不是必需成分，但是加快離子交換速度的成分，可以以6摩爾％為止的量含有。如果超過6摩爾％則離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大，由于壓痕而產(chǎn)生裂紋，或耐候性下降。mgo是提高熔融性的成分，也可以含有。由于如果mgo超過15摩爾％則離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大，液相溫度上升、變得容易失透，或離子交換速度下降，因此優(yōu)選12摩爾％以下。為了提高熔融性，b2o3優(yōu)選8摩爾％以下。如果超過8摩爾％，則難以獲得均質(zhì)的玻璃，玻璃的成形也可能變得困難。由于cao可提高高溫下的熔融性、或不易引起失透而可以以9摩爾％為止的量含有，但有離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大、或者離子交換速度或裂紋產(chǎn)生的耐性下降之虞。由于sro可提高高溫下的熔融性、或不易引起失透而可以以1摩爾％以下的量含有，但有離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大、或者離子交換速度或?qū)α鸭y產(chǎn)生的耐性下降之虞。由于bao可提高高溫下的熔融性、或不易引起失透而可以以1摩爾％以下的量含有，但有離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大、或者離子交換速度或裂紋產(chǎn)生的耐性下降之虞。zro2不是必需成分，但為了增大表面壓縮應(yīng)力、或提高耐候性等，也可以以4摩爾％為止的量含有。如果超過4摩爾％則離子交換時(shí)的表面壓縮應(yīng)力的不均勻變大，或?qū)α鸭y產(chǎn)生的耐性下降。防污層12用于防止指紋或油脂等污染附著、或使這樣的污染容易去除。防污層12具有防止指紋附著以及促進(jìn)指紋去除中的至少一種作用。防污層12例如由從玻璃基板11的表面垂直或傾斜伸出的樹脂毛的集合體構(gòu)成。防污層12由含有氟的樹脂形成。作為防污層12的材料，例如使用下式(a)所表示的樹脂、下式(b)所表示的樹脂等。[化1]其中，l1是例如由c、h、o、n、f等形成的例如酯鍵、酰胺鍵等構(gòu)成的鍵結(jié)構(gòu)。k是重復(fù)次數(shù)，為1以上1000以下的自然數(shù)。l0是可與玻璃的末端oh基交換的水解性基團(tuán)。l0優(yōu)選氟以外的鹵素或烷氧基(-or)，其中，r為1～6的碳原子的直鏈或支鏈烴，例如可例舉-ch3、-c2h5、-ch(ch3)2的烴。優(yōu)選的鹵素是氯。優(yōu)選的烷氧基硅烷是三甲氧基硅烷，si(ome)3。[化2]其中，l2是例如由c、h、o、n、f等形成的例如酯鍵、酰胺鍵等構(gòu)成的鍵結(jié)構(gòu)。m以及n是重復(fù)次數(shù)，分別為1以上1000以下的自然數(shù)。l0與式(a)的l0意義相同。作為防污層的材料，可優(yōu)選使用s600(商品名，旭硝子株式會(huì)社(旭硝子社)制)、s550(商品名，旭硝子株式會(huì)社制)、ky-178(商品名，信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社(信越化學(xué)工業(yè)社)制)、ky-185(商品名，信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制)、x-71-186(商品名，信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制)、x-71-190(商品名，信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制)、optool(注冊(cè)商標(biāo))dsx(商品名，大金工業(yè)株式會(huì)社(ダイキン工業(yè)社)制)以及optool(注冊(cè)商標(biāo))aes(商品名，大金工業(yè)株式會(huì)社制)等。另外，在防污層12的成膜量超過與成膜部位的表面粗糙度相應(yīng)的閾值的情況下，形成與其超過量相應(yīng)的量的凝集體。因此，上述成膜量存在極限，以不產(chǎn)生凝集體為條件來設(shè)定上述成膜量。另外，如果形成凝集體，則透明板10的霧度(散射、渾濁)變大，在將透明板10組裝在觸摸屏中時(shí)，商品性顯著下降。此外，由于觸感依賴于成膜量，因此如果對(duì)成膜量進(jìn)行限制，則能夠設(shè)計(jì)的觸感也可被限制在一定范圍內(nèi)。玻璃基板11在其表面具有表面粗糙度ra為0.3～300nm的微小凹凸結(jié)構(gòu)11a。此處，表面粗糙度ra是指日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(jisb0601)中記載的算術(shù)平均粗糙度。在表面粗糙度ra為0.3nm以上的情況下，玻璃基板11的表面積變大，防污層12的材料與玻璃基板11的表面進(jìn)行反應(yīng)的概率上升，因此可抑制防污層12的材料的凝集，可抑制該凝集所導(dǎo)致的霧度的增大。此外，可增大防污層12的成膜量，在用手指接觸時(shí)可得到與以往不同的觸感。而且，與防污層形成于不具有微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的玻璃基板的情況相比，由于玻璃基板和更多防污層12的材料結(jié)合，因此可更長(zhǎng)期地維持規(guī)定的觸感。另一方面，在表面粗糙度ra為300nm以下的情況下，可得到與表面粗糙度ra為0.2nm以下的情況相同程度的低霧度，可確保透明度。表面粗糙度ra優(yōu)選0.3～200nm，更優(yōu)選0.3～100nm。防污層12的至少一部分形成于微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的位置處。因此，可維持低霧度，且可增大可防污層12的成膜量。此處，作為表示防污層12的成膜量的值，采用下式(1)所表示的x。x＝(s1-s2)/(s3-s2)…(1)s1；微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的位置上的、透明板10的用熒光x射線測(cè)定裝置從防污層12側(cè)測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度s2；實(shí)質(zhì)上不含有氟的玻璃板的用熒光x射線測(cè)定裝置測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度s3；含有2wt％氟的鋁硅酸鹽玻璃板(標(biāo)準(zhǔn)樣品)的用熒光x射線測(cè)定裝置測(cè)定的f-kα射線強(qiáng)度此處，“實(shí)質(zhì)上不含有氟的玻璃板”是指通過二次離子質(zhì)量分析法(sims)測(cè)定的氟的含量低于100ppm的玻璃板，例如可以是市售的鈉鈣玻璃等。在玻璃基板11實(shí)質(zhì)上不含有氟的情況下，也可對(duì)防污層12的成膜前的玻璃基板11進(jìn)行測(cè)定。如上式(1)所示通過分別從s1以及s3中減去s2來進(jìn)行熒光x射線測(cè)定裝置的零點(diǎn)補(bǔ)償。防污層12中含有氟原子。通過測(cè)定上式(1)所表示的x，可對(duì)防污層12的成膜量進(jìn)行定量。根據(jù)一觀點(diǎn)，提供微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的位置上的透明板10的霧度為2％以下、上式(1)所表示的x為0.5以上的透明板10。細(xì)節(jié)在實(shí)施例一欄中進(jìn)行說明，但這樣的結(jié)構(gòu)的透明板10是以往沒有的，可得到與以往不同的觸感。霧度優(yōu)選1.5％以下。x優(yōu)選0.5～10，更優(yōu)選0.5～7。根據(jù)另一觀點(diǎn)，提供將微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的位置上的透明板10的霧度設(shè)為y(％)時(shí)滿足下式(2)以及(3)的透明板10。y≤a×x+b···(2)y≤2·······(3)a＝0.67(％)b＝-0.33(％)細(xì)節(jié)在實(shí)施例一欄中進(jìn)行說明，但這樣的結(jié)構(gòu)的透明板10是以往沒有的，在保持低霧度的條件下可得到與以往不同的觸感。另外，式(2)中a以及b分別基于后述的例1～43的評(píng)價(jià)結(jié)果算出。x優(yōu)選0.5～10，更優(yōu)選0.5～7。防污層12的厚度例如為1～100nm。防污層12的表面粗糙度可與玻璃基板11的表面粗糙度為相同程度。另外，透明板10也可在玻璃基板11和防污層12之間具有作為功能層的無機(jī)層。無機(jī)層是氧化膜、氮化膜、氧氮化物膜、金屬膜中的1層或由任意2層以上的組合構(gòu)成的多層膜，是在以下說明的基底層、防反射層之外，能夠發(fā)揮高反射層(也稱鏡面層)、低放射層等中的1種以上功能的功能層。透明板10也可在玻璃基板11和防污層12之間具有基底層。有改善玻璃基板11和防污層12的密合性的效果等?；讓永缬裳趸璧葻o機(jī)層形成。此外，透明板10也可在玻璃基板11和防污層12之間具有防反射層等無機(jī)層。防反射層可由公知的方法形成，例如可以是折射率不同的層(例如氧化硅和氧化鈦)交替層疊而成的多層膜。防反射層例如也可以是折射率1.6以下的單層膜。作為這樣的單層膜，例如可例舉二氧化硅膜、摻氟二氧化硅膜、氟化鎂膜等。此外，防反射層也可以通過溶膠凝膠法形成。此處，“折射率”是指對(duì)波長(zhǎng)550nm的光的折射率，在室溫下測(cè)定。透明板10也可在玻璃基板11和防污層12之間具有基底層和防反射層兩者。在該情況下，透明板10可從玻璃基板11側(cè)起依次具有防反射層、基底層、防污層。圖2是表示使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的觸摸板的圖。圖2中，省略圖1所示的微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的圖示。觸摸板20具有透明板10和位置檢出器21。位置檢出器21可以是通常的檢測(cè)器，例如利用靜電容量的變化等，檢出透明板10中的手指觸摸位置。由于觸摸板20具備透明板10，因此在保持低霧度的條件下可得到與以往不同的觸感。觸摸板20例如組裝在筆記本電腦等中。圖3是表示使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的觸摸屏的圖。圖3中，省略圖1所示的微小凹凸結(jié)構(gòu)11a的圖示。觸摸屏30具有透明板10、位置檢出器31、和圖像顯示裝置32。位置檢出器31可以是通常的檢測(cè)器，例如利用靜電容量的變化等，檢出透明板10中的手指觸摸位置。圖像顯示裝置32可以是通常的顯示裝置，例如由液晶顯示器等構(gòu)成，對(duì)應(yīng)于位置檢出器31的檢出結(jié)果顯示圖像。由于觸摸屏30具備透明板10，因此在保持低霧度的條件下可得到與以往不同的觸感。觸摸屏30例如組裝在數(shù)字信息設(shè)備等中。作為數(shù)字信息設(shè)備，可例舉移動(dòng)電話(包括智能手機(jī))、計(jì)算機(jī)(包括平板電腦)、復(fù)印機(jī)、傳真機(jī)等。另外，本實(shí)施方式的透明板10在圖2中組裝在觸摸板20中，在圖3中組裝在觸摸屏30中，但也可組裝在其他產(chǎn)品中。例如，透明板10也可用于設(shè)備的筐體、圖像顯示裝置的蓋板等。此外，透明板10也可不用手指接觸，而用筆接觸。在保持低霧度的條件下可得到與以往不同的書寫感覺。此外，位置檢出器31和圖像顯示裝置32的配置也可以相反，可以以圖像顯示裝置32為基準(zhǔn)，將位置檢出器31配置在透明板10的反對(duì)側(cè)。圖4是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的透明板的制造方法的流程圖。如圖4所示，透明板的制造方法具備表面粗糙化工序s11、化學(xué)強(qiáng)化工序s12、和涂覆工序s13。另外，化學(xué)強(qiáng)化工序s12是任意的工序，可根據(jù)需要設(shè)置。表面粗糙化工序s11中，通過對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行粗糙化，形成表面粗糙度ra為0.3～300nm的微小凹凸結(jié)構(gòu)。例如，表面粗糙化工序s11中，對(duì)玻璃基板11的表面進(jìn)行蝕刻處理。蝕刻可以是化學(xué)蝕刻、物理蝕刻的任一種。在為化學(xué)蝕刻的情況下，可以是干蝕刻、濕蝕刻的任一種。干蝕刻中，例如可使用含有氟化氫(hf)氣體的處理氣體。蝕刻處理的溫度沒有特別限制，通常為400～800℃的范圍。蝕刻處理的溫度優(yōu)選500～700℃的范圍，更優(yōu)選500～650℃的范圍。處理氣體也可在氟化氫氣體以外，含有載體氣體以及稀釋氣體。作為載體氣體、稀釋氣體，沒有特別限定，例如使用氮以及/或氬等。此外，也可以加入水。處理氣體中的氟化氫氣體的濃度只要在適合對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行蝕刻處理的范圍內(nèi)則沒有特別限制。處理氣體中的氟化氫氣體的濃度例如為0.1～10vol％的范圍，優(yōu)選0.3～5vol％的范圍，更優(yōu)選0.5～4vol％的范圍。此時(shí)，處理氣體中的氟化氫氣體的濃度(vol％)通過氟氣體流量/(氟氣體流量+載體氣體流量+稀釋氣體流量)求出。玻璃基板的蝕刻處理可在反應(yīng)容器中實(shí)施，但在玻璃基板較大的情況下等，在需要的情況下，玻璃基板的蝕刻處理也可在搬運(yùn)玻璃基板的狀態(tài)下實(shí)施。在該情況下，與在反應(yīng)容器中的處理相比，能夠進(jìn)行更迅速且高效率的處理。此處，對(duì)蝕刻處理可使用的裝置的一例進(jìn)行簡(jiǎn)單說明。圖5表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的玻璃基板的蝕刻處理所使用的處理裝置。圖5所示的處理裝置可在搬運(yùn)玻璃基板的狀態(tài)下實(shí)施玻璃基板的蝕刻處理。如圖5所示，該處理裝置300具備噴射器310和搬運(yùn)單元350。搬運(yùn)單元350可如箭頭f301所示在水平方向(x軸方向)上對(duì)載放于上部的玻璃基板380進(jìn)行搬運(yùn)。噴射器310配置于搬運(yùn)單元350以及玻璃基板380的上方。噴射器310具有作為處理氣體的流路的多個(gè)狹縫315、320、以及325。即，噴射器310具備：沿著豎直方向(z軸方向)設(shè)置于中央部分的第一狹縫315，和沿著豎直方向(z軸方向)以包圍該第一狹縫315的方式設(shè)置的第二狹縫320，和沿著豎直方向(z軸方向)以包圍該第二狹縫320的方式設(shè)置的第三狹縫325。第一狹縫315的一端(上部)與氟化氫氣體源(沒有圖示)和載體氣體源(沒有圖示)連接，第一狹縫315的另一端(下部)向玻璃基板380一方進(jìn)行取向。相同地，第二狹縫320的一端(上部)與稀釋氣體源(沒有圖示)連接，第二狹縫320的另一端(下部)向玻璃基板380一方進(jìn)行取向。第三狹縫325的一端(上部)與排氣系統(tǒng)(沒有圖示)連接，第三狹縫325的另一端(下部)向玻璃基板380一方進(jìn)行取向。在使用這樣構(gòu)成的處理裝置300來實(shí)施玻璃基板380的蝕刻處理的情況下，首先，藉由第一狹縫315，從氟化氫氣體源(沒有圖示)向箭頭f305的方向供給氟化氫氣體。此外，藉由第二狹縫320，從稀釋氣體源(沒有圖示)向箭頭f310的方向供給氮等稀釋氣體。這些氣體通過排氣系統(tǒng)沿著箭頭f315在水平方向(x軸方向)上移動(dòng)后，藉由第三狹縫325，被排出到處理裝置300的外部。另外，第一狹縫315中，在氟化氫氣體以外，也可同時(shí)供給氮等載體氣體。接著，運(yùn)行搬運(yùn)單元350。藉此，玻璃基板380向箭頭f301的方向移動(dòng)。玻璃基板380在通過噴射器310的下側(cè)時(shí)，與由第一狹縫315以及第二狹縫320供給的處理氣體(氟化氫氣體+載體氣體+稀釋氣體)接觸。藉此，對(duì)玻璃基板380的上表面進(jìn)行蝕刻處理。另外，供至玻璃基板380的上表面的處理氣體如箭頭f315所示移動(dòng)、用于蝕刻處理后，如箭頭f320所示移動(dòng)，藉由與排氣系統(tǒng)連接的第三狹縫325被排出到處理裝置300的外部。通過使用這樣的處理裝置300，可在搬運(yùn)玻璃基板的同時(shí)，實(shí)施利用處理氣體的蝕刻處理。該情況與使用反應(yīng)容器實(shí)施蝕刻處理的方法相比，可提高處理效率。此外，在使用這樣的處理裝置300的情況下，還可對(duì)大型的玻璃基板實(shí)施蝕刻處理。此處，處理氣體向玻璃基板380的供給速度沒有特別限制。處理氣體的供給速度例如可在0.1～1000slm的范圍內(nèi)。此處，slm是standardlitterperminute(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的流量)的簡(jiǎn)寫。此外，玻璃基板380的噴射器310的通過時(shí)間(通過圖5的距離s的時(shí)間)為1～120秒的范圍，優(yōu)選2～60秒的范圍，更優(yōu)選3～30秒的范圍。通過將玻璃基板380的噴射器310的通過時(shí)間設(shè)為320秒以下，能夠?qū)崿F(xiàn)迅速的蝕刻處理。以下，將玻璃基板380的噴射器310的通過時(shí)間稱為“蝕刻處理時(shí)間”。這樣，通過使用處理裝置300，可對(duì)搬運(yùn)狀態(tài)的玻璃基板實(shí)施蝕刻處理。另外，圖5所示的處理裝置300僅為一例，也可使用其他裝置，實(shí)施利用含有氟化氫氣體的處理氣體的玻璃基板的蝕刻處理。例如，在圖5的處理裝置300中，使玻璃基板380相對(duì)于靜止的噴射器310進(jìn)行移動(dòng)。但是，與此相反，也可以相對(duì)于靜止的玻璃基板，在水平方向上移動(dòng)噴射器?；蛘?，也可使玻璃基板和噴射器兩者相互向相反方向移動(dòng)。此外，也可在搬運(yùn)單元350以及玻璃基板的下方設(shè)置噴射器，對(duì)玻璃下表面進(jìn)行蝕刻處理。此外，圖5的處理裝置300中，噴射器310具有合計(jì)3個(gè)狹縫315、320、325。但是，對(duì)狹縫的數(shù)量沒有特別限制。例如，狹縫的數(shù)量也可以是2個(gè)。在該情況下，可以一個(gè)狹縫用于供給處理氣體(載體氣體和氟化氫氣體和稀釋氣體的混合氣體)，另一個(gè)狹縫用于排氣。此外，也可以在狹縫320和排氣用狹縫325之間設(shè)置1個(gè)以上狹縫，來供給蝕刻氣體、載體氣體、稀釋氣體。而且，在圖5的處理裝置300中，噴射器310的第二狹縫320以包圍第一狹縫315的方式配置，第三狹縫325以包圍第一狹縫315以及第二狹縫320的方式設(shè)置。但是，也可沿著水平方向(x軸方向)將第一狹縫、第二狹縫、以及第三狹縫排列為一列來代替上述設(shè)置方式。在該情況下，處理氣體沿著一個(gè)方向在玻璃基板的上表面上移動(dòng)，之后，藉由第三狹縫進(jìn)行排氣。而且，也可將多個(gè)噴射器310沿水平方向(x軸方向)配置在搬運(yùn)單元350之上。而且，也可通過其他裝置等，在與經(jīng)蝕刻處理的面相同的面上層疊以氧化硅為主要成分的層。通過層疊該層，可提高經(jīng)蝕刻處理的面的化學(xué)耐久性。此外，可通過在玻璃基板上進(jìn)行預(yù)先實(shí)施掩蓋的蝕刻處理，對(duì)玻璃基板表面的所希望的區(qū)域進(jìn)行部分蝕刻處理，或采用根據(jù)區(qū)域而不同的蝕刻條件。化學(xué)強(qiáng)化工序s12中，對(duì)玻璃基板進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理。此處，“化學(xué)強(qiáng)化處理(法)”是指將玻璃基板浸漬于含有堿金屬的熔融鹽中，使存在于玻璃基板的最外表面的原子徑小的堿金屬(離子)與存在于熔融鹽中的原子徑大的堿金屬(離子)進(jìn)行置換的技術(shù)的總稱?！盎瘜W(xué)強(qiáng)化處理(法)”中，在經(jīng)處理的玻璃基板的表面上配置比處理前的原先的原子的原子徑大的堿金屬(離子)。因此，可在玻璃基板的表面上形成壓縮應(yīng)力層，藉此提高玻璃基板的強(qiáng)度。例如，在玻璃基板含有鈉(na)的情況下，在化學(xué)強(qiáng)化處理時(shí)，使該鈉在熔融鹽(例如硝酸鹽)中例如與鉀(k)置換?；蛘?，也可例如在玻璃板含有鋰(li)的情況下，在化學(xué)強(qiáng)化處理時(shí)，使該鋰在熔融鹽(例如硝酸鹽)中例如與鈉(na)及/或鉀(k)置換。對(duì)玻璃基板實(shí)施的化學(xué)強(qiáng)化處理的條件沒有特別限制。作為熔融鹽的種類，例如可例舉硝酸鈉、硝酸鉀、硫酸鈉、硫酸鉀、氯化鈉、以及氯化鉀等的堿金屬硝酸鹽、堿金屬硫酸鹽、以及堿金屬氯化物鹽等。這些熔融鹽可單獨(dú)使用，也可將多種組合起來使用。處理溫度(熔融鹽的溫度)根據(jù)使用的熔融鹽的種類而不同，例如可在350～550℃的范圍內(nèi)?；瘜W(xué)強(qiáng)化處理例如可通過將玻璃基板浸漬在350～550℃的熔融硝酸鉀鹽中2分鐘～20小時(shí)左右來實(shí)施。從經(jīng)濟(jì)且實(shí)用的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在350～500℃、1～10小時(shí)的條件下實(shí)施。藉此，可得到表面上形成有壓縮應(yīng)力層的玻璃基板。如前所述，化學(xué)強(qiáng)化工序s12不是必需的工序。但是，通過對(duì)玻璃基板實(shí)施化學(xué)強(qiáng)化處理，可提高玻璃基板的強(qiáng)度。涂覆工序s13中，對(duì)玻璃基板的微小凹凸結(jié)構(gòu)涂覆防污層的材料。以下，將該處理稱為“afp(anti-fingerprint，防指紋)處理”。涂覆工序中可包括清洗處理、基底層成膜、防反射層成膜等。afp處理中使用的防污層的材料是含有與玻璃基板等的表面的si-oh基鍵合的官能團(tuán)以及氟的氟類硅烷偶聯(lián)劑。防污層的材料通過與存在于玻璃基板等的表面的si-oh縮合，來確保與基板的密合性。作為防污層的材料，可利用公知的材料，例如可使用上述的化學(xué)式(a)或(b)的化合物。這些材料可以單獨(dú)使用，也可以混合使用。此外，也可預(yù)先用酸或堿等制作部分水解縮合物后使用。afp處理可通過干式法實(shí)施，也可通過濕式法實(shí)施。干式法中，通過蒸鍍法等成膜工藝，使防污層的材料在玻璃基板上成膜。另一方面，在濕式法中，將含有防污層的材料的溶液涂布在玻璃基板上后，對(duì)玻璃基板進(jìn)行干燥。afp處理之前，也可根據(jù)需要，對(duì)玻璃基板實(shí)施清洗處理或基底處理。此外，在afp處理之后，為了提高防污層的密合力，也可實(shí)施加熱處理以及加濕處理等。實(shí)施例以下，對(duì)透明板的制造方法及其評(píng)價(jià)結(jié)果進(jìn)行說明。另外，例1～29為實(shí)施例，例30～41為比較例，例42為實(shí)施例，例43為比較例。(玻璃基板的種類)準(zhǔn)備用浮法成形的厚度0.7mm的玻璃基板。作為玻璃基板的玻璃的種類，設(shè)為下述的玻璃a和玻璃b這2種中的任一種。玻璃a是鋁硅酸鹽玻璃(旭硝子株式會(huì)社制dragontrail(注冊(cè)商標(biāo)))。玻璃b是鈉鈣玻璃(旭硝子株式會(huì)社制as)。(表面粗糙化工序)在例1～29以及例42中實(shí)施圖4所示的表面粗糙化工序s11，在例30～41以及例43中不實(shí)施圖4所示的表面粗糙化工序s11。表面粗糙化工序s11中，對(duì)準(zhǔn)備的玻璃基板實(shí)施利用hf氣體的蝕刻處理。蝕刻處理中，使用前述的圖5所示的處理裝置300。處理裝置300中，在第一狹縫315中供給氟化氫氣體和氮?dú)猓诘诙M縫320中供給氮?dú)?，hf氣體的濃度在例1～6中為0.35vol％，在例7～13、42中為0.48vol％，在例14～21中為0.60vol％，在例22～24中為0.71vol％，在例25、26中為0.60vol％，在例27、28中為0.90vol％，在例29中為1.2vol％。從第三狹縫325的排氣量設(shè)為全部供給氣體量的2倍。玻璃基板在例1～24、42中以加熱到580℃的狀態(tài)進(jìn)行搬運(yùn)，在例25～29中以加熱到700℃的狀態(tài)進(jìn)行搬運(yùn)。另外，玻璃基板的溫度是在相同的熱處理?xiàng)l件下一邊搬運(yùn)配置有熱電偶的同種玻璃基板一邊測(cè)定而得的值。其中，玻璃基板的表面溫度也可使用直接輻射溫度計(jì)進(jìn)行測(cè)定。蝕刻處理時(shí)間設(shè)為10秒。(表面粗糙度)蝕刻處理后的表面粗糙度ra通過掃描型探針顯微鏡(spi3800n：精工電子納米科技株式會(huì)社(エスアイアイ·ナノテクノロジー社)制)測(cè)定。測(cè)定以針對(duì)玻璃基板的2μm見方區(qū)域、將取得數(shù)據(jù)數(shù)量設(shè)為1024×1024的方式實(shí)施。作為一例，圖6以及圖7示出了例14的玻璃基板的蝕刻處理后的剖面照片和表面照片。由這些照片，可知通過對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行蝕刻處理，形成了微小凹凸結(jié)構(gòu)。(化學(xué)強(qiáng)化工序)在例7～10、例17、例18、例22～24、例30～34、例42～43中，實(shí)施圖4所示的化學(xué)強(qiáng)化工序s12。在化學(xué)強(qiáng)化工序中，實(shí)施將蝕刻處理后的玻璃基板在450℃的100％硝酸鉀熔融鹽中浸漬1小時(shí)的化學(xué)強(qiáng)化處理。通過化學(xué)強(qiáng)化處理，在玻璃基板的表面形成壓縮應(yīng)力層。另外，在例1～6、例11～16、例19～21、例25～29、例35～41中，不實(shí)施圖4所示的化學(xué)強(qiáng)化工序s12。(涂覆工序)在例1～43中，實(shí)施圖4所示的涂覆工序s13。在例1～29中，對(duì)玻璃基板的表面的由蝕刻處理而得的微小凹凸結(jié)構(gòu)進(jìn)行下述處理。例4、例6中，對(duì)于玻璃基板的表面的由蝕刻處理而得的微小凹凸結(jié)構(gòu)，直接通過蒸鍍法對(duì)afp劑(agc株式會(huì)社(agc社)制，s550或s600)進(jìn)行成膜。在例1～3、例5、例7～29中，對(duì)于玻璃基板的表面的由蝕刻處理而得的微小凹凸結(jié)構(gòu)，對(duì)氧化硅的底涂進(jìn)行濺射成膜后，通過蒸鍍法對(duì)afp劑進(jìn)行成膜。afp劑的成膜量在每個(gè)例中進(jìn)行變更。在例2、例20中，在afp處理后，對(duì)玻璃基板實(shí)施在100℃下加熱60分鐘的加熱處理(下文中也稱為后加熱)。另外，后加熱在例1、例3～19、例21～29中沒有實(shí)施。在例30～41中，對(duì)于沒有經(jīng)過蝕刻處理的玻璃基板的表面，對(duì)氧化硅的底涂進(jìn)行濺射成膜后，通過蒸鍍法對(duì)afp劑進(jìn)行成膜。此外，在例31中，在afp處理后，對(duì)玻璃基板實(shí)施在100℃下加熱60分鐘的后加熱。另外，后加熱在例30、例32～41中沒有實(shí)施。在例42中，對(duì)于玻璃基板的表面的由蝕刻處理而得的微小凹凸結(jié)構(gòu)，在形成下述的防反射層后，通過蒸鍍法對(duì)afp劑進(jìn)行成膜。另外，在例42中，在afp處理后，不實(shí)施后加熱。防反射層通過將高折射率層和低折射率層交替層疊而形成。作為高折射率層，使用氧化鈮層，作為低折射率層，使用氧化硅層。具體而言，首先，在真空腔內(nèi)一邊導(dǎo)入將氬氣和氧氣以1比3的sccm(standardcc/min)流量比混合而得的混合氣體，一邊使用鈮靶在壓力0.3pa、電密度3.8w/cm2的條件下進(jìn)行磁控濺射，在玻璃基板的實(shí)施了蝕刻處理一側(cè)的面上形成由厚度13nm的氧化鈮構(gòu)成的高折射率層。接著，一邊導(dǎo)入將氬氣和氧氣以1比3的比例混合而得的混合氣體，一邊使用硅靶，在壓力0.3pa、電密度3.8w/cm2的條件下進(jìn)行磁控濺射，在上述高折射率層上形成厚度35nm的由氧化硅構(gòu)成的低折射率層。接著，一邊導(dǎo)入將氬氣和氧氣以1比3的比例混合而得的混合氣體，一邊使用鈮靶，在壓力0.3pa、電密度3.8w/cm2的條件下進(jìn)行磁控濺射，在上述低折射率層上形成厚度115nm的由氧化鈮構(gòu)成的高折射率層。接著，一邊導(dǎo)入將氬氣和氧氣以1比3的比例混合而得的混合氣體，一邊使用硅靶，在壓力0.3pa、電密度3.8w/cm2的條件下進(jìn)行磁控濺射，形成厚度80nm的由氧化硅構(gòu)成的低折射率層。這樣，形成氧化鈮和氧化硅總計(jì)4層層疊的防反射層。另外，即使構(gòu)成防反射層的層的數(shù)量在4層以外，也可得到相同傾向的結(jié)果。在例43中，對(duì)于沒有經(jīng)過蝕刻處理的玻璃基板的表面，以與例42相同的方式形成防反射層后，通過蒸鍍法對(duì)afp劑進(jìn)行成膜。另外，在例43中，在afp處理后，不實(shí)施后加熱。在afp處理后，使用熒光x射線分析裝置(理學(xué)株式會(huì)社(リガク社)制，zsxprimusii)測(cè)定上式(1)所表示的x。x如上所述是表示afp劑的成膜量的值。熒光x射線測(cè)定裝置中，使用zsxprimusii(理學(xué)株式會(huì)社((株)リガク社)制：輸出rh50kv-72ma)。此外，在afp處理后，測(cè)定透明板的霧度。霧度的測(cè)定中使用霧度計(jì)(hz-2：須賀試驗(yàn)機(jī))，根據(jù)jisk7361-1實(shí)施。光源使用c光源。而且，在afp處理后，通過感官試驗(yàn)對(duì)用手指接觸防污層時(shí)的觸摸感覺、即觸感進(jìn)行評(píng)價(jià)。此處，“黏滑”是指雖然手指滑動(dòng)良好，但帶給人表面發(fā)黏的印象的觸感?！肮饣笔侵笌Ыo人手指滑動(dòng)良好、表面平整且堅(jiān)硬的印象的觸感?！傲锘笔侵甘种富瑒?dòng)良好、比“光滑”更沒有阻力感、無壓力的觸感?！皾?rùn)滑”是指手指容易滑動(dòng)、感到柔軟度或舒適的觸感?！叭峄笔侵笌Ыo人手指的動(dòng)作輕、表面紋理纖細(xì)的印象的觸感?！八笔侵笌Ыo人手指的動(dòng)作輕、表面存在凹凸的印象的觸感。“干巴巴”是指存在適度的阻力感、表面發(fā)干的觸感。這些觸感由玻璃基板的表面粗糙度、以及防污層的材料的成膜量等決定。評(píng)價(jià)結(jié)果示于表1及圖8。圖8是表示例1～43的透明板的“x”和“y”的關(guān)系的圖。圖8中，白圈表示例1～29以及例42(表面粗糙度ra為0.3以上的例)，黑圈表示例30～41以及例43(表面粗糙度ra低于0.3的例)。[表1]玻璃ra[nm]化學(xué)強(qiáng)化afp劑后加熱xy[％]觸感例1玻璃a0.3無s550無1.460.07溜滑例2玻璃a0.3無s550有1.340.06溜滑例3玻璃a0.3無s550無1.540.03溜滑例4玻璃a0.3無s550無1.580.04溜滑例5玻璃a0.3無s600無1.220.31溜滑例6玻璃a0.3無s600無1.500.48溜滑例7玻璃a2.0有s550無2.750.10潤(rùn)滑例8玻璃b2.0有s550無1.210.05潤(rùn)滑例9玻璃b2.0有s550無0.890.08潤(rùn)滑例10玻璃b2.0有s550無1.610.14潤(rùn)滑例11玻璃a2.0無s600無4.290.06柔滑例12玻璃a2.0無s600無4.330.12柔滑例13玻璃a2.0無s600無4.590.16柔滑例14玻璃a5.0無s600無4.580.07柔滑例15玻璃a5.0無s600無5.040.16柔滑例16玻璃a5.0無s600無4.810.11柔滑例17玻璃b5.0有s550無1.070.12干巴巴例18玻璃b5.0有s550無0.970.10干巴巴例19玻璃a5.0無s550無1.500.03潤(rùn)滑例20玻璃a5.0無s550有1.470.04潤(rùn)滑例21玻璃a5.0無s550無1.770.02潤(rùn)滑例22玻璃b20有s550無2.260.06爽滑例23玻璃b20有s550無1.730.06爽滑例24玻璃b20有s550無3.210.07爽滑例25玻璃a5.0無s600無1.820.19柔滑例26玻璃a5.0無s600無3.980.37柔滑例27玻璃a10無s600無2.120.39干巴巴例28玻璃a10無s600無4.500.44爽滑例29玻璃a30無s600無4.810.82干巴巴例30玻璃a0.1有s550無0.850.55光滑例31玻璃a0.1有s550有0.800.44光滑例32玻璃a0.1有s550無1.160.71光滑例33玻璃a0.1有s550無1.691.45黏滑例34玻璃a0.1有s550無2.782.75黏滑例35玻璃a0.1無s550無0.660.23光滑例36玻璃a0.1無s550無1.310.77光滑例37玻璃a0.1無s550無0.720.36光滑例38玻璃a0.1無s550無2.402.21黏滑例39玻璃a0.1無s550無1.381.09光滑例40玻璃a0.1無s550無1.560.9光滑例41玻璃a0.2無s550無1.120.54光滑例42玻璃a2.0有s550無1.920.10潤(rùn)滑例43玻璃a0.2有s550無1.790.96黏滑由表1以及圖8可知，由于例1～29以及例42中在玻璃基板的表面上形成了表面粗糙度ra為0.3以上的微小凹凸結(jié)構(gòu)，因此可在保持低霧度的條件下增加防污層的材料的成膜量，可得到與例30～41以及例43所得到的觸感不同的觸感。此外，顯示出涂覆工序中的基底處理和防反射層的有無、后加熱處理的有無對(duì)霧度和觸感沒有什么影響。以上，對(duì)透明板、觸摸板以及觸摸屏的實(shí)施方式等進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不受上述實(shí)施方式等所限定，能夠在專利申請(qǐng)的范圍中記載的本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變形、改良。例如，也可以將透明板的表面分隔為多個(gè)區(qū)域，使玻璃基板11的表面粗糙度ra、以及防污層12的成膜量x中的至少一個(gè)在每個(gè)區(qū)域中不同。由于每個(gè)區(qū)域觸感不同，因此能夠識(shí)別位置。本申請(qǐng)主張基于2014年11月20日向日本國(guó)專利廳申請(qǐng)的日本專利特愿2014-236007號(hào)、以及2015年7月14日向日本國(guó)專利廳申請(qǐng)的日本專利特愿2015-140171號(hào)的優(yōu)先權(quán)，并在本申請(qǐng)中援引日本專利特愿2014-236007號(hào)、以及日本專利特愿2015-140171號(hào)的全部?jī)?nèi)容。符號(hào)說明10透明板11玻璃基板11a微小凹凸結(jié)構(gòu)12防污層20觸摸板21位置檢出器30觸摸屏31位置檢出器32圖像顯示裝置當(dāng)前第1頁(yè)12