本發(fā)明涉及一種多層窗玻璃，其包含至少兩個玻璃基材類型的基材，它們通過框架結(jié)構(gòu)保持在一起，所述窗玻璃實現(xiàn)在外部空間和內(nèi)部空間之間的間隔，其中至少一個中間氣體腔被設(shè)置于兩個基材之間。已知地，所述基材之一可以在與中間氣體腔接觸的內(nèi)表面上涂覆有在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊體，其包含單個金屬功能層，特別是基于銀或含銀金屬合金的功能層，以及兩個抗反射涂層，所述涂層每個包含至少一個電介質(zhì)層，所述功能層被設(shè)置于兩個抗反射涂層之間。本發(fā)明更具體地涉及這種基材用于制造絕熱和/或太陽保護窗玻璃的用途。這種窗玻璃可用于裝備建筑物，特別是為了減少空調(diào)負(fù)載和/或防止過度加熱(稱為“太陽控制”窗玻璃)和/或減少由于在建筑中不斷增加的玻璃表面尺寸所導(dǎo)致的耗散到外部的能量(稱為“低發(fā)射”窗玻璃)。此外，這些窗玻璃可以被集成到具有特定功能的玻璃窗，例如加熱玻璃窗或電致變色玻璃窗中。已知用于賦予基材這種性質(zhì)的一種類型的層堆疊體包含在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的金屬功能層，特別是基于銀或基于含銀金屬合金的金屬功能層。在這種類型的堆疊體中，功能層因此被設(shè)置在兩個抗反射涂層之間，每個抗反射涂層通常包括多個層，所述層中的每個由氮化物類型的電介質(zhì)材料，特別是氮化硅或氮化鋁，或者氧化物制成。從光學(xué)角度來看，這些圍繞所述一個或多個金屬功能層的涂層的目的是使該金屬功能層“抗反射”。然而，阻擋涂層有時被插入在一個或每個抗反射涂層和金屬功能層之間；設(shè)置于功能層下方的阻擋涂層(在基材的方向上)在任選的彎曲和/或淬火類型的高溫?zé)崽幚砥陂g保護功能層，和設(shè)置于功能層上方的阻擋涂層(在與基材相反的一側(cè)上)在上抗反射涂層的沉積期間以及在任選的彎曲和/或淬火類型的高溫?zé)崽幚砥陂g保護該功能層免受任何降解。本發(fā)明更特別地涉及中間層在堆疊體內(nèi)的使用，以及借助于產(chǎn)生輻射，特別地紅外輻射的源來實施對整個薄層堆疊體的處理。特別是從國際專利申請wo2010/142926已知，提供堆疊體的吸收中間層，并且在沉積堆疊體之后施加處理以便降低發(fā)射率或改善低發(fā)射性堆疊體的光學(xué)性能。該處理允許改善金屬功能層的質(zhì)量，并因此降低發(fā)射率(其與薄層電阻直接相關(guān))，并且吸收中間層的使用允許增加在該處理期間堆疊體的吸收，以使該處理是短時但有效的。由于該吸收中間層在處理期間變得透明的，在處理之后的堆疊體的光學(xué)特征是有利的(特別地可以獲得高的光透射率)。然而，這種解決方案對于某些應(yīng)用并不是完全令人滿意的，因為有時需要該處理的功率是高的和/或使其持續(xù)相對長的時間(即，對于在通常固定的輻射源下方行進的基材的速度是慢的)。在現(xiàn)有技術(shù)中，從國際專利申請wo2007/101964已知具有單個功能層的薄層堆疊體，其中在功能層下方下伏的抗反射涂層包含由混合氧化物，優(yōu)選混合氧化鋅錫制成的非結(jié)晶的平滑電介質(zhì)層。由于該層是介電的，這意味著期望的是，材料被充分氧化以便不是吸收性的。本發(fā)明的目的是通過開發(fā)一種新型的具有單個功能層的層堆疊體能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點，該堆疊體在處理后具有低的薄層電阻(因此具有低的發(fā)射率)、高的光透射率，并且該處理可以以更低的功率和/或以更高的速度進行實施。因此，本發(fā)明的一個主題，在其最廣泛的意義中，是根據(jù)權(quán)利要求1的在一個面上涂覆有在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊體的基材。這種堆疊體包含單個金屬功能層，特別地基于銀或基于含銀金屬合金的金屬功能層，和兩個抗反射涂層，所述涂層每個包括至少一個電介質(zhì)層，所述功能層被設(shè)置于兩個抗反射涂層之間。根據(jù)本發(fā)明，所述抗反射涂層中的至少一個包括中間層，所述中間層包含氧化鋅錫snxznyoz，其中比例為0.1≤x/y≤2.4，并且0.75(2x+y)≤z≤0.95(2x+y)，并具有為2nm-25nm，甚至2nm-12nm的物理厚度。該中間層因此包含亞化學(xué)計量的混合氧化鋅錫，并且這種混合氧化物是吸收性的。在本發(fā)明的意義中，中間層包含鋅和錫的氧化物的事實意味著這兩種元素占該層的金屬元素的98至100重量％，即金屬靶的金屬元素的98至100重量％，如果金屬靶用于沉積中間層的話；不排除該層可以包含一種或多種金屬元素，例如鋁和/或銻，作為用于改善靶的導(dǎo)電性的摻雜劑，或作為雜質(zhì)。實際上，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這種包含snxznyoz并且是亞化學(xué)計量的層需要比金屬層在被完全氧化時更少的氧供應(yīng)，并且在該處理之前它已經(jīng)引起的吸收的上升通過該處理將消失。在處理期間，這種氧通過一個或兩個相鄰的電介質(zhì)層和/或通過在該處理的氣氛中存在的氧被提供給它。因此，為了使該處理引起中間層的溫度升高所需的功率可以除以1.5至3的系數(shù)；替代地或組合地，處理速度可以提高1.2至2.5倍，以便提高生產(chǎn)率。在處理之后，堆疊體具有已經(jīng)經(jīng)受高溫彎曲、淬火或退火熱處理的堆疊體的性質(zhì)，所述堆疊體的所有氧化物層具有其穩(wěn)定的化學(xué)計量，但是基材不表現(xiàn)出已經(jīng)經(jīng)受高溫彎曲、淬火或退火熱處理的基材的狀態(tài)。根據(jù)本發(fā)明的所述中間層不是堆疊體的末端層，即不是最遠(yuǎn)離的基材的面(堆疊體所位于該面上)的堆疊體的層。術(shù)語“涂層”在本發(fā)明意義中應(yīng)當(dāng)理解為在涂層內(nèi)可以具有單個層或多個不同材料的層。通常，術(shù)語“電介質(zhì)層”在本發(fā)明的意義上應(yīng)被理解為從其性質(zhì)的角度來看，該層的材料是“非金屬的”，即不是金屬。在本發(fā)明的上下文中，該術(shù)語表示在整個可見光的波長范圍(380nm至780nm)中具有等于或大于5的n/k比的材料。術(shù)語“吸收層”在本發(fā)明意義中應(yīng)當(dāng)理解為是指該層是在整個可見光波長范圍(從380nm至780nm)上具有大于0.5的平均k系數(shù)的材料，并且具有大于10-6ω.cm的體積電阻率(如從文獻中已知)?；仡櫟氖?，n表示材料在給定波長處的真實折射指數(shù)，和系數(shù)k表示在給定波長處的折射指數(shù)的虛部，n/k比在對于n和k相同的給定波長下進行計算。根據(jù)本發(fā)明的中間層是在上述含義內(nèi)的吸收層。在本文件中指示的折射指數(shù)的值是如通常在550nm的波長處測量的值。在本發(fā)明的意義上表述“基于...的層”應(yīng)當(dāng)理解是指該層包括大于50at％的所述材料。在本發(fā)明的一個特定版本中，所述中間層包含氧化鋅錫snxznyoz，其中比率為0.55≤x/y≤0.83。在一個特定版本中，所述中間層由氧化鋅錫snxznyoz組成，并且不包含任何其它元素。所述中間層優(yōu)選位于所述設(shè)置于所述金屬功能層下方(在基材的方向上)的抗反射涂層中，直接在基于氮化物的電介質(zhì)層的上方并且直接在包含氧化鋅的潤濕層的下方，所述基于氮化物的電介質(zhì)層優(yōu)選具有為10至50nm的物理厚度，并且優(yōu)選基于氮化硅si3n4。替代地或組合地，所述中間層可位于在功能層上方上伏的抗反射涂層中(與基材相反的一側(cè))，優(yōu)選直接位于上阻擋涂層上方，該上阻擋涂層直接位于所述功能層上方。所述金屬功能層的物理厚度優(yōu)選在6nm至16nm之間，包括這些值，并且旨在實現(xiàn)小于5％的發(fā)射率。在本發(fā)明的另一特定版本中，功能層被直接沉積設(shè)置在該功能層和電介質(zhì)涂層(在功能層下方下伏)之間的下阻隔涂層的上方和/或該功能層被直接沉積在上阻擋涂層下方，該上阻擋涂層被設(shè)置在功能層和在功能層上方上伏的電介質(zhì)涂層之間，并且該上阻擋涂層和/或下阻擋涂層包含基于鎳或鈦的薄層，該薄層具有物理厚度e'，使得0.2nm≤e'≤2.5nm。在本發(fā)明的另一個特定版本中，下伏的電介質(zhì)涂層的最終層(離基材最遠(yuǎn)的層)基于氧化物，優(yōu)選以亞化學(xué)計量進行沉積，特別是基于氧化鈦(tiox)。因此，該堆疊體可以包括優(yōu)選以亞化學(xué)計量沉積的最終層(英文為“overcoat”)，即保護層。在沉積之后，這種層在堆疊體中大部分以化學(xué)計量地被氧化。本發(fā)明還涉及一種用于獲得在一個面上涂覆有根據(jù)本發(fā)明的在紅外線中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊體的基材的方法，該薄層堆疊體包含單個金屬功能層，特別是基于銀或基于含銀金屬合金的金屬功能層，和兩個抗反射涂層，以如下順序包括以下步驟：-在所述基材的一個面上沉積根據(jù)本發(fā)明的在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層疊堆體，該堆疊體包含單個金屬功能層，特別是基于銀或基于含銀金屬合金的金屬功能層，和兩個抗反射涂層；-在優(yōu)選地包含氧的氣氛下，借助于產(chǎn)生輻射，特別是紅外輻射的源來處理所述薄層堆疊體。還可以預(yù)期到使用根據(jù)本發(fā)明的包含氧化鋅錫snxznyoz的層，其中比率為0.1≤x/y≤2.4，0.75(2x+y)≤z≤0.95(2x+y)并且具有介于2nm至25nm之間，甚至介于2nm至12nm之間的物理厚度作為在根據(jù)本發(fā)明的在紅外中和/或中太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊體的中間層，該堆疊體包含單個金屬功能層，特別是基于銀或含銀金屬合金的金屬功能層，以及兩個抗反射涂層。本發(fā)明還涉及包括至少兩個通過框架結(jié)構(gòu)保持在一起的基材的多層窗玻璃，所述窗玻璃實現(xiàn)在外部空間和內(nèi)部空間之間的間隔，其中至少一個中間氣體腔被設(shè)置于所述兩個基材之間，其中一個基材是根據(jù)本發(fā)明的。優(yōu)選地，包括至少兩個基材的多層窗玻璃的一個基材或包括至少三個基材的多層窗玻璃的一個基材在與中間氣體腔接觸的內(nèi)表面上涂覆有在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的薄層堆疊體。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃這時至少包括根據(jù)本發(fā)明的承載該堆疊體的基材，該基材任選地與至少一個其它基材結(jié)合。每個基材可以是透明的或有色的。基材中的一個至少特別地可以由在體積中著色的玻璃制成。著色類型的選擇將取決于一旦完成窗玻璃的制造，對于該窗玻璃所期望的光透射水平和/或比色外觀。根據(jù)本發(fā)明的窗玻璃可以具有層壓結(jié)構(gòu)，特別是將至少兩個玻璃類型的剛性基材通過至少一個熱塑性聚合物片材進行組合，以具有以下類型的結(jié)構(gòu)：玻璃/薄層堆疊體/片材/玻璃/中間氣體腔/玻璃片材。聚合物特別地可以基于聚乙烯醇縮丁醛pvb、乙烯-乙酸乙烯酯eva、聚對苯二甲酸乙二醇酯pet、聚氯乙烯pvc。有利地，本發(fā)明因此允許制備具有單個功能層的薄層堆疊體，該沉積在透明基材上的堆疊體在使用產(chǎn)生輻射的源進行處理之后具有高于80％的高的在可見光中的光透射率tl和小于4歐姆/平方的低薄層電阻，所述處理需要更少的功率和/或能夠更快地進行。有利地，借助于輻射源的處理不是對由基材和堆疊體構(gòu)成的整個組件的高溫?zé)崽幚恚灰虼嗽摶牟煌ㄟ^這種借助于輻射源的處理進行熱處理(不進行彎曲、淬火或退火)。本發(fā)明的細(xì)節(jié)和有利特征將借助于以下使用附圖示出的非限制性實施例中顯現(xiàn)，附圖圖示：-在圖1中，根據(jù)本發(fā)明的具有單個功能層的堆疊體，所述功能層直接沉積在下阻擋涂層上方并且直接在上阻擋涂層下方，在借助于產(chǎn)生輻射的源的處理期間圖示所述堆疊體；和-在圖2中，包括具有單個功能層的堆疊體的雙層玻璃的方案。在這些圖中，沒有嚴(yán)格遵守不同層或不同要件的厚度之間的比例，以便更容易觀察它們。圖1示出了具有沉積在透明玻璃基材10的面11上的根據(jù)本發(fā)明的具有單個功能層的堆疊體14的結(jié)構(gòu)，其中唯一功能層140，特別是基于銀或基于含銀金屬合金的功能層，被設(shè)置于兩個抗反射涂層(位于功能層140下方(在基材10的方向上)的下伏抗反射涂層120和位于功能層140上方(在與基材10相反一側(cè))的上伏抗反射涂層160)之間。這兩個抗反射涂層120，160各自包括至少一個電介質(zhì)層122，124，128；162，164。任選地，一方面，功能層140可以被直接沉積在下阻擋涂層130的上方，該下阻擋涂層130設(shè)置于下伏抗反射涂層120和功能層140之間，另一方面，功能層140可以被直接沉積在上阻擋涂層150的下方，該上阻擋涂層150被設(shè)置于功能層140和上伏抗反射涂層160之間。下阻擋層和/或上阻擋層雖然以金屬形式進行沉積并呈現(xiàn)為金屬層，但在實踐中有時是氧化層，因為它們的功能之一(特別是對于上阻擋層)是在堆疊體的沉積期間進行氧化以保護功能層。位于金屬功能層上方的抗反射涂層160由末端層168終止，該末端層168是該堆疊體的最遠(yuǎn)離面11的層。當(dāng)具有單個功能層的堆疊體用于具有雙層窗玻璃結(jié)構(gòu)的多層窗玻璃100中時，如圖2所示，這種窗玻璃包括兩個基材10,30，它們通過框架結(jié)構(gòu)90保持在一起并且通過中間氣體腔15彼此分隔。該窗玻璃因此實現(xiàn)在外部空間es和內(nèi)部空間is之間的分隔。堆疊體可以被設(shè)置于面2上(當(dāng)考慮進入建筑物的陽光的入射方向時，位于最接近建筑物外部的片材上并且在其朝向氣體腔的面上)。圖2示出了位于與中間充氣空間15接觸的基材10的內(nèi)面11上的薄層堆疊體14在面2上的這種定位(進入建筑物中的太陽光的入射方向由雙箭頭表示)，基材10的另一個面9與外部空間es接觸。然而，也可以設(shè)想，在這種雙層窗玻璃結(jié)構(gòu)中，基材之一具有層壓結(jié)構(gòu)?；谠趫D1中示出的堆疊體結(jié)構(gòu)進行了兩個實施例。對于這兩個實施例，在功能層140下方下伏的抗反射涂層120包括三個電介質(zhì)層122,124,128，層122(該堆疊體的第一層并與面11接觸)是具有中等折射指數(shù)的層；它由氮化物si3n4:al制成并且使用摻雜有8重量％的鋁的金屬靶進行沉積。它具有為1.9至2.1的折射指數(shù)，并且其在這里精確地為2.0。第二電介質(zhì)層126是中間層，其在下面將進行更詳細(xì)描述。抗反射涂層120的第三電介質(zhì)層是設(shè)置于金屬功能層140正下方的潤濕層128。在所述實施例中，不存在下阻擋涂層130。對于這些實施例，抗反射層128被稱為“潤濕層”，因為它允許改善金屬功能層140的結(jié)晶，該金屬功能層140在這里由銀制成，這改善了其導(dǎo)電性。該抗反射層128由鋁摻雜的氧化鋅zno:al制成(從摻雜有2重量％的鋁的鋅構(gòu)成的金屬靶進行沉積)。在所述實施例中，不存在上阻擋涂層150。上伏抗反射涂層160包含由鋁摻雜的氧化鋅zno:al制成的電介質(zhì)層162(由與用于潤濕層128的靶相同的靶并且在相同條件下進行沉積)，然后形成具有中等折射指數(shù)的電介質(zhì)層164，由與電介質(zhì)層122相同的材料制成。該電介質(zhì)涂層160可以用任選的保護層168來終止，該保護層特別是基于氧化物，特別是亞化學(xué)計量氧的氧化物。對于下面的所有實施例，層的沉積條件是：層使用的靶沉積壓力氣體si3n4:al為92:8wt%的si:al1.5×10-3mbar為45%的ar/(ar+n2)tioxtiox2×10-3mbar為90%的ar/(ar+o2)tio2ti2×10-3mbar為35%的ar/(ar+o2)titi7×10-3mbar為100%的arzno:al為98:2wt%的zn:al2×10-3mbar為52%的ar/(ar+o2)snxznyoz為30:68:2wt%的sn:zn:sb3×10-3mbar為64%的ar/(ar+o2)agag2×10-3mbar為100%的ar因此，沉積的層可分為四類：i-由具有在整個可見光的波長范圍內(nèi)大于5的n/k比率的抗反射/電介質(zhì)材料制成的層：si3n4:al，tio2，zno:al，ii-吸收性材料制成的中間層，其在整個可見光波長范圍內(nèi)具有大于0.5的中等?系數(shù)，和大于10-6ω.cm的體積電阻率：tiox和snxznyoz，iii-由在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質(zhì)的材料制成的金屬功能層：ag，iv-上阻擋層和下阻擋層，用于在堆疊體的沉積期間保護功能層抵抗其性質(zhì)的改變；它們對光學(xué)和能量性質(zhì)的影響通常被忽略。觀察到銀在整個可見光的波長范圍內(nèi)具有0<n/k<5的比率，但是其體積電阻率小于10-6ω.cm。對于這兩個實施例，將薄層堆疊體沉積在由saint-gobain公司分銷的4mm厚的planilux牌的透明鈉鈣玻璃制成的基材上。對于這兩個實施例，-ε表示從堆疊體的薄層電阻r(其以歐姆/平方為單位進行測量)根據(jù)下式進行計算的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率：ε=0.0106r-al表示在使用d65光源在2°測量的在可見光中的光吸收率(%)；-a980表示在2°在d65光源下測量的在980nm的波長下特定測量的吸收(%)，；-tl表示使用d65光源在2°測量的在可見光中的光透射率(%)；-fs指示太陽因子，即以百分比表示的穿過窗玻璃進入房間的總太陽能與總?cè)肷涮柲艿谋嚷?；該因子通過考慮帶有堆疊體的基材被結(jié)合到具有以下結(jié)構(gòu)的雙層玻璃中進行計算：4-16-4(ar-90%)，即，兩個各自厚度為4mm的玻璃基材通過由90%氬氣和10%空氣組成的厚度為16mm的氣體腔隔開。根據(jù)在圖1中所示的堆疊體結(jié)構(gòu)實施兩個實施例，但沒有下阻擋涂層130。下表1示出了該兩個實施例的每個層的以納米計的幾何或物理厚度(而不是光學(xué)厚度)：表1。下面的表2總結(jié)了這兩個實施例的主要光學(xué)和能量特征，分別地當(dāng)僅考慮單個基材10(對于發(fā)射率，兩種吸收和光透射)，和當(dāng)其作為雙層窗玻璃組裝時，在面2(f2)上，如在圖2中(對于分別為在處理前(bt)和處理后(at)的太陽因子fs)。表2。因此，根據(jù)本發(fā)明的實施例2的光學(xué)和能量性質(zhì)基本上與參考實施例1的相同。對于兩個實施例，堆疊的處理包括在沉積所有層之后，使堆疊在二極管激光簾20下方通過，使二極管定位于堆疊體的上方(參考圖1)并且在堆疊的方向上發(fā)射(由直黑色箭頭示出的發(fā)射)。二極管在980nm的波長發(fā)射，每個二極管在12mm的長度和45μm的寬度上進行發(fā)射。然而，對于實施例1，涂覆有完整堆疊體的基材的運行速度為11m/分鐘，而對于實施例2為22m/分鐘。特別令人驚訝的是，位于設(shè)置在所述金屬功能層140下方的所述電介質(zhì)涂層120中的中間層可以通過借助于產(chǎn)生輻射，特別是紅外輻射的源對完整堆疊體的后處理進行“再氧化”。當(dāng)該中間層，如在上述實施例的情況下，直接在具有10至50nm的物理厚度的基于氮化物的電介質(zhì)層的上方并且直接在包含氧化鋅的潤濕層的下方時，這時該中間層還可以具有平滑效果，如在國際專利申請wo2007/101964中公開的那樣。還測試了由56.5:43.5重量％的sn:zn制成的靶沉積的中間層，并得到類似的結(jié)果。重要的是，注意根據(jù)本發(fā)明的中間層可以從包含為了達(dá)到目標(biāo)化學(xué)計量氧所需的氧的陶瓷靶并在無氧氣氛中進行沉積，或者可以從不包含為了達(dá)到目標(biāo)化學(xué)計量氧所需的氧的陶瓷靶并在含氧氣氛中進行沉積。本發(fā)明通過實施例在前文中進行了描述。理解的是，本領(lǐng)域技術(shù)人員將能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明的不同變型，而不脫離由權(quán)利要求限定的本專利的范圍。當(dāng)前第1頁12