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一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的制造方法

文檔序號(hào):8898236閱讀:200來(lái)源:國(guó)知局
一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是有關(guān)于一種滾動(dòng)軸承鋼球鍍膜夾具裝置,尤其是一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]軸承時(shí)各類(lèi)機(jī)械裝備的重要基礎(chǔ)零件,其精度、性能可靠性以及壽命對(duì)主體機(jī)械的精度、性能可靠性及壽命有著重要影響。為了提高軸承的性能特性及其應(yīng)用范圍,需要對(duì)組成軸承的各個(gè)零件,如:內(nèi)圈、鋼球、外圈、保持架等,進(jìn)行表面改性處理。磁控濺射鍍膜是一種先進(jìn)的表面改性技術(shù),但現(xiàn)有的濺射技術(shù)存在濺射過(guò)程不穩(wěn)定,濺射對(duì)象鍍膜不均衡等問(wèn)題。使得軸承鋼球在使用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行表面鍍膜時(shí)產(chǎn)生機(jī)械性能差、表面均勻性差等冋題。
[0003]有鑒于上述現(xiàn)有的鋼球鍍膜存在的缺陷,本發(fā)明人基于從事此類(lèi)產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)知識(shí),并配合學(xué)理的運(yùn)用,積極加以研宄創(chuàng)新,以期創(chuàng)設(shè)一種新型的基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具,能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜存在的問(wèn)題,使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷的研宄、設(shè)計(jì),并經(jīng)過(guò)反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后,終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于,克服現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜存在的問(wèn)題,而提供一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置,使其能夠解決鋼球鍍膜時(shí)表面鍍膜不均衡的問(wèn)題,從而提高鋼球的機(jī)械性能和表面均勻性。
[0005]本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置,包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤(pán)、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺(tái),其中立柱固設(shè)在底板上,且其上部有空腔;鋼球鍍膜盤(pán)與定位構(gòu)件緊固連接,且該定位構(gòu)件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi),且該定位構(gòu)件與所述空腔之間有間距;旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上,且其下端與該磁控濺射設(shè)備的旋轉(zhuǎn)主軸對(duì)接;連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上;圓錐臺(tái)連接在連接軸上,且該圓錐臺(tái)與鋼球鍍膜盤(pán)的底面相接觸,并使鋼球鍍膜盤(pán)傾斜;以及滑塊設(shè)在底板上臨近立柱的地方,且該滑塊固定在磁控濺射設(shè)備的相應(yīng)軌道上。
[0006]本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0007]前述的裝置,其中所述的立柱,其個(gè)數(shù)不少于3個(gè),且環(huán)繞鋼球鍍膜盤(pán)均勻分布。
[0008]前述的裝置,其中所述的鋼球鍍膜盤(pán),其上設(shè)有環(huán)形軌道,且該軌道緊鄰鋼球鍍膜盤(pán)外徑,其寬度為鍍膜鋼球直徑的4-6倍。
[0009]前述的裝置,其中所述的環(huán)形軌道,其深度為鍍膜鋼球直徑的42% -48%。
[0010]前述的裝置,其中所述的環(huán)形軌道,其表面進(jìn)行超精拋光加工處理后,在其表面涂覆一層0.1 ym厚的自潤(rùn)滑碳膜,以減小鋼球表面摩擦磨損,保證鋼球原有的幾何精度。
[0011]前述的裝置,其中所述的定位構(gòu)件與所述空腔在立柱軸向方向有5mm-10mm的距離。
[0012]前述的裝置,其中所述的各組成構(gòu)件的材質(zhì),除滑塊為聚四氟乙烯外,其余全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
[0013]借由上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果:該裝置的鋼球鍍膜托盤(pán)在圓錐臺(tái)和定位構(gòu)件的作用下作偏擺運(yùn)動(dòng),從而使得托盤(pán)內(nèi)的鋼球同時(shí)作公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),使得鋼球表面的鍍層均勻、穩(wěn)定。
[0014]上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段,而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施,并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實(shí)施例,并配合附圖,詳細(xì)說(shuō)明如下。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的鋼球鍍膜盤(pán)的軌道示意圖。
[0017]【主要元件符號(hào)說(shuō)明】
[0018]1:底板
[0019]2:螺栓
[0020]3:立柱
[0021]4:圓錐臺(tái)
[0022]5:彈簧擋圈
[0023]6:軸承
[0024]7:彈簧擋圈
[0025]8:連接軸
[0026]9:定位構(gòu)件
[0027]10:鋼球鍍膜盤(pán)
[0028]11:滑塊
[0029]12:軸承蓋
[0030]13:軸承
[0031]14:旋轉(zhuǎn)主軸
[0032]15:彈簧墊
【具體實(shí)施方式】
[0033]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效,以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例,對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效,詳細(xì)說(shuō)明如后。
[0034]請(qǐng)參閱圖1,其為本實(shí)用新型一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的實(shí)施例,其包括底板1、立柱3、鋼球鍍膜盤(pán)10、旋轉(zhuǎn)主軸14、連接軸8、滑塊11以及圓錐臺(tái)4。
[0035]請(qǐng)參閱圖1,旋轉(zhuǎn)主軸14的下端與該磁控濺射設(shè)備的旋轉(zhuǎn)主軸對(duì)接,一起作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。旋轉(zhuǎn)主軸14通過(guò)軸承13固定在底板I上,其中旋轉(zhuǎn)主軸14與軸承13內(nèi)圈緊固安裝,軸承13安裝在底板I上。連接軸8水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸14上。圓錐臺(tái)4通過(guò)軸承6連接在連接軸8上,且圓錐臺(tái)4與鋼球鍍膜盤(pán)10的底面相接觸,并使鋼球鍍膜盤(pán)10傾斜。該圓錐臺(tái)4與鋼球鍍膜盤(pán)的接觸為面接觸,接觸平穩(wěn),使得鍍膜盤(pán)平穩(wěn)的運(yùn)動(dòng)。圓錐臺(tái)4與軸承6外圈緊固安裝,軸承6內(nèi)圈與連接軸8緊固安裝,該結(jié)構(gòu)其使在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中,保證鋼球鍍膜盤(pán)10平穩(wěn)擺動(dòng),提高鍍膜質(zhì)量。
[0036]請(qǐng)參閱圖1,該裝置設(shè)有4個(gè)環(huán)繞鋼球鍍膜盤(pán)10均勻分布,即沿圓周呈90°分布的立柱3,其上皆具有空腔,且上述立柱3俱通過(guò)螺栓2固定在底板I上。所述的立柱3可使鋼球在鍍膜盤(pán)上非常平穩(wěn)的運(yùn)動(dòng)。底板I的邊緣,靠近立柱的地方設(shè)有滑塊11,滑塊11固定在磁控濺射設(shè)備的相應(yīng)的軌道上。
[0037]請(qǐng)參閱圖1及圖2,鋼球鍍膜盤(pán)10與定位構(gòu)件9緊固連接,該定位構(gòu)件9嵌裝在立柱3上的空腔內(nèi),且該定位構(gòu)件9可沿立柱3的軸向有5mm-10mm的位移,使鋼球鍍膜盤(pán)有1° -2°的擺動(dòng)角度。該鋼球鍍膜盤(pán)10上設(shè)有環(huán)形軌道,該環(huán)形軌道表面進(jìn)行超精拋光加工處理后,在其表面涂覆一層0.1 ym厚的自潤(rùn)滑碳膜,以減小鋼球表面摩擦磨損,保證鋼球原有的幾何精度。所述環(huán)形軌道緊鄰鍍膜盤(pán)外徑,且該環(huán)形軌道不應(yīng)太寬,一般取鍍膜鋼球直徑4-6倍為宜,環(huán)形軌道深度取鍍膜鋼球直徑的42% -48%。該鋼球鍍膜盤(pán)10的擺度及軌道設(shè)計(jì)保證了鋼球在鍍膜的均勻性、保證鍍膜機(jī)械性能和性能的一致性。
[0038]在本實(shí)用新型一種鋼球鍍膜夾具裝置的另一實(shí)施例中,該裝置設(shè)有3個(gè)沿鋼球鍍膜盤(pán)10均勻分布,即沿鋼球鍍膜盤(pán)圓周呈120°分布的立柱3,其上具有空腔,且所述立柱3皆通過(guò)螺栓2固定在底板I上。
[0039]本實(shí)用新型實(shí)施例一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置的工作原理如下所述。在旋轉(zhuǎn)主軸14的帶動(dòng)下,連接軸8、軸承6及安裝在軸承6上的圓錐臺(tái)4 一起做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),使鋼球鍍膜盤(pán)10做有規(guī)律的上下擺動(dòng),帶動(dòng)鍍膜鋼球在其圓環(huán)形軌道內(nèi)勻速隨機(jī)滾動(dòng),進(jìn)而可在鋼球表面實(shí)現(xiàn)均勻鍍膜。該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,制造、使用方便??筛鶕?jù)鍍膜鋼球的不同只更換鋼球鍍膜盤(pán)10,其余部分正常使用。
[0040]本裝置除滑塊11的材質(zhì)為聚四氟乙烯外,全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
[0041]以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制,雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本實(shí)用新型,任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例,但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置,包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤(pán)、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺(tái),其特征在于: 所述立柱固設(shè)在底板上,且其上部有空腔; 所述的鋼球鍍膜盤(pán)與定位構(gòu)件緊固連接,該定位構(gòu)件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi),且該定位構(gòu)件與所述空腔之間有間距; 所述的旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上,且其下端與該磁控濺射設(shè)備的旋轉(zhuǎn)主軸對(duì)接; 所述的連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上; 所述的圓錐臺(tái)連接在連接軸上,且該圓錐臺(tái)與鋼球鍍膜盤(pán)的底面相接觸,并使鋼球鍍膜盤(pán)傾斜;以及 所述的滑塊設(shè)在底板上臨近立柱的地方,且該滑塊固定在磁控濺射設(shè)備的相應(yīng)軌道上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,其中所述的立柱,其個(gè)數(shù)不少于3個(gè),且環(huán)繞鋼球鍍膜盤(pán)均勻分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,其中所述的鋼球鍍膜盤(pán),其上設(shè)有環(huán)形軌道,且該軌道緊鄰鋼球鍍膜盤(pán)外徑,其寬度為鍍膜鋼球直徑的4-6倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,其中所述的環(huán)形軌道,其深度為鍍膜鋼球直徑的42% -48%。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,其中所述的環(huán)形軌道的表面涂覆一層0.1ym厚的自潤(rùn)滑碳膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,其中所述的定位構(gòu)件與所述空腔在立柱軸向方向有5mm-10mm的間距。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,各組成構(gòu)件的材質(zhì),除滑塊為聚四氟乙烯外,其余全為優(yōu)質(zhì)不銹鋼或純銅。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型是有關(guān)于一種基于磁控濺射技術(shù)的鋼球鍍膜夾具裝置,包含底板、立柱、鋼球鍍膜盤(pán)、旋轉(zhuǎn)主軸、連接軸、滑塊以及圓錐臺(tái),其中立柱固設(shè)在底板上,且其上部有空腔;鋼球鍍膜盤(pán)與定位構(gòu)件緊固連接,該定位構(gòu)件嵌裝在立柱上的空腔內(nèi),且該定位構(gòu)件與所述空腔之間有間距;旋轉(zhuǎn)主軸固定在底板上,且其下端與該磁控濺射設(shè)備的旋轉(zhuǎn)主軸對(duì)接;連接軸水平固定在旋轉(zhuǎn)主軸上;圓錐臺(tái)連接在連接軸上,且該圓錐臺(tái)與鋼球鍍膜盤(pán)的底面相接觸,并使鋼球鍍膜盤(pán)傾斜;以及滑塊設(shè)在底板上臨近立柱的地方,且該滑塊固定在磁控濺射設(shè)備的相應(yīng)軌道上。本實(shí)用新型鋼球鍍膜夾具裝置使得托盤(pán)內(nèi)的鋼球同時(shí)作公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),使得鋼球表面的鍍層均勻、穩(wěn)定。
【IPC分類(lèi)】C23C14-35, C23C14-50
【公開(kāi)號(hào)】CN204608153
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520279752
【發(fā)明人】賈貴西, 胡鵬飛, 王海霞, 趙海軍
【申請(qǐng)人】洛陽(yáng)理工學(xué)院
【公開(kāi)日】2015年9月2日
【申請(qǐng)日】2015年5月4日
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