新型離子清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于真空電鍍工藝技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種新型離子清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]對鍍膜襯底的清洗通常使用化學(xué)清洗劑(例如強酸、強堿、酒精、丙酮等)，再用去離子水沖洗，然后用氮氣、熱風(fēng)吹干，或者干燥箱烘干?；瘜W(xué)清洗只是對襯底表面的有機、無機污染物進行清潔。后續(xù)又出現(xiàn)了縶外臭氧清洗技術(shù)，短波長的光子能暈可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。這些清洗技術(shù)都是在襯底放入真空室前在其他空間進行清洗，也難以保證再次被污染。為了實現(xiàn)在線清洗，人們使用了多弧轟擊襯底的方法，在鍍膜前對襯底進行剝離，獲得新鮮的表面?，F(xiàn)行工藝中大多數(shù)采用多弧打襯底的做法，這種做法因多弧顆粒比較粗，打完襯底沉積完面上的膜層后大大降低了產(chǎn)品表面的光潔度，導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量較差。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點，本實用新型提供一種采用線性高能離子束對產(chǎn)品表面進行轟擊，以達到去除產(chǎn)品表面所含雜氣、粗化及活化產(chǎn)品表面，以達到提高膜層附著力的新型離子清洗裝置。
[0004]本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種新型離子清洗裝置，包括一個真空鍍膜機爐體，在該真空鍍膜機爐體內(nèi)等距排列有四個工件轉(zhuǎn)架，在該真空鍍膜機爐體上則設(shè)有一個線性離子源，在該真空鍍膜機爐體的90°和270°方向分別設(shè)置有四個對稱的平面靶，在該真空鍍膜機爐體上的0°和180°方向則分別設(shè)置有一個抽真空機組和一個觀察窗。
[0005]本實用新型的有益效果是:該裝置采用線性高能離子束對產(chǎn)品表面進行轟擊，以達到去除產(chǎn)品表面所含雜氣、粗化及活化產(chǎn)品表面，以達到提高膜層附著力，生產(chǎn)證明，采用此技術(shù)批量生產(chǎn)能穩(wěn)定確保產(chǎn)品表面光潔度及膜層附著力，實際使用時，產(chǎn)品進入真空鍍膜機爐體內(nèi)，然后由抽真空機組向真空鍍膜機爐體內(nèi)抽真空，關(guān)閉光柵閥，然后向真空鍍膜機爐體充入適量氬氣，打開偏壓電源調(diào)節(jié)好偏壓及占空比，再打開線性離子源并調(diào)節(jié)好電壓及占空比，然后進行離子清洗，膜層沉積，最后破真空工件出爐。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007]圖中:1-真空鍍膜機爐體，2-平面靶，3-觀察窗，4-工件轉(zhuǎn)架，5-線性離子源，6-抽真空機組。
【具體實施方式】
[0008]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
[0009]參見圖1，一種新型離子清洗裝置，包括一個真空鍍膜機爐體，在該真空鍍膜機爐體內(nèi)等距排列有四個工件轉(zhuǎn)架，在該真空鍍膜機爐體上則設(shè)有一個線性離子源，在該真空鍍膜機爐體的90°和270°方向分別設(shè)置有四個對稱的平面靶，在該真空鍍膜機爐體上的0°和180°方向則分別設(shè)置有一個抽真空機組和一個觀察窗。
[0010]該裝置采用線性高能離子束對產(chǎn)品表面進行轟擊，以達到去除產(chǎn)品表面所含雜氣、粗化及活化產(chǎn)品表面，以達到提高膜層附著力，生產(chǎn)證明，采用此技術(shù)批量生產(chǎn)能穩(wěn)定確保產(chǎn)品表面光潔度及膜層附著力，實際使用時，產(chǎn)品進入真空鍍膜機爐體內(nèi)，然后由抽真空機組向真空鍍膜機爐體內(nèi)抽真空，關(guān)閉光柵閥，然后向真空鍍膜機爐體充入適量氬氣，打開偏壓電源調(diào)節(jié)好偏壓及占空比，再打開線性離子源并調(diào)節(jié)好電壓及占空比，然后進行離子清洗，膜層沉積，最后破真空工件出爐。
【主權(quán)項】
1.一種新型離子清洗裝置，包括一個真空鍍膜機爐體，其特征是:在該真空鍍膜機爐體內(nèi)等距排列有四個工件轉(zhuǎn)架，在該真空鍍膜機爐體上則設(shè)有一個線性離子源，在該真空鍍膜機爐體的90°和270°方向分別設(shè)置有四個對稱的平面靶，在該真空鍍膜機爐體上的0°和180°方向則分別設(shè)置有一個抽真空機組和一個觀察窗。
【專利摘要】本實用新型涉及一種新型離子清洗裝置，包括一個真空鍍膜機爐體，在該真空鍍膜機爐體內(nèi)等距排列有四個工件轉(zhuǎn)架，在該真空鍍膜機爐體上則設(shè)有一個線性離子源，在該真空鍍膜機爐體的90°和270°方向分別設(shè)置有四個對稱的平面靶，在該真空鍍膜機爐體上的0°和180°方向則分別設(shè)置有一個抽真空機組和一個觀察窗。裝置采用線性高能離子束對產(chǎn)品表面進行轟擊，以達到去除產(chǎn)品表面所含雜氣、粗化及活化產(chǎn)品表面，以達到提高膜層附著力。
【IPC分類】C23C14-02
【公開號】CN204369968
【申請?zhí)枴緾N201420856898
【發(fā)明人】杜旭穎, 阮志明, 陳明勝, 曾德強, 廖生, 王大洪
【申請人】深圳市正和忠信股份有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2014年12月30日