一種新型光觸媒板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及廢氣處理工程應(yīng)用領(lǐng)域，具體指一種新型光觸媒板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]大氣是人類賴以生存和發(fā)展的必要條件，隨著工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展，人口數(shù)量的增長(zhǎng)等因素，廢氣的排放量也在逐年增加。世界各國在工業(yè)發(fā)達(dá)程度以及環(huán)保產(chǎn)業(yè)投入上的不同使得大氣問題呈現(xiàn)區(qū)域差異，但隨著地球資源的不斷消耗，大氣污染已經(jīng)成為了世界性的難題?，F(xiàn)階段我國大氣污染比較嚴(yán)重，同時(shí)，由于生產(chǎn)、生活廢氣的肆意排放使得我國的大氣環(huán)境惡化越加嚴(yán)重，大氣污染危機(jī)正籠罩著我國。
[0003]在工業(yè)日益發(fā)達(dá)的今天，廢氣的排放種類和排放量日益增多，成分也更加復(fù)雜，廢氣中往往含有大量難以生物降解的有機(jī)物。大氣污染現(xiàn)象成為一個(gè)亟待解決的難題，成為了我國社會(huì)和經(jīng)濟(jì)發(fā)展的瓶頸。有關(guān)“三廢”的排放標(biāo)準(zhǔn)和法律法規(guī)也更加嚴(yán)格，國家已經(jīng)把大氣污染治理列入了 “十二五”規(guī)劃當(dāng)中，因此開發(fā)可靠性好、處理效率高的廢氣處理方法已經(jīng)成為了環(huán)保行業(yè)的研究熱點(diǎn)。
[0004]在廢氣構(gòu)成中，惡臭氣體和有機(jī)揮發(fā)性氣體(VOC)占據(jù)了很大的比重，其中惡臭氣體主要包括硫化氫、氨氣、硫醇以及二甲基硫等，有機(jī)揮發(fā)性氣體主要包括苯、甲苯、二甲苯、甲醛、己烷、庚烷、甲基乙基酮、丙酮、四氯化碳、醋酸乙酯等。這些氣體如不進(jìn)行有效的處理，將會(huì)對(duì)大氣環(huán)境、人類的生活質(zhì)量和身體健康造成很大的危害。
[0005]傳統(tǒng)的廢氣處理工藝主要包括物理法、化學(xué)法、生物法以及這三種方法的組合工藝。常見的物理方法有靜電捕集、洗滌、吸收、吸附、冷凝等，這些方法已經(jīng)在廢氣處理領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，每種方法均有其特點(diǎn)及適用范圍。常見的化學(xué)方法有燃燒、催化燃燒等，這些方法通常適合處理大風(fēng)量、揮發(fā)性有機(jī)物含量高的有機(jī)廢氣。近年來國內(nèi)外也發(fā)展出一些廢氣生物處理技術(shù):如生物法、膜分離法等，該法目前在國內(nèi)污水站廢氣治理中有少量運(yùn)用，對(duì)于工業(yè)廢氣中治理的運(yùn)用很少。對(duì)于性質(zhì)復(fù)雜、處理要求高的廢氣，往往要采取以上三種方法的組合工藝，才能對(duì)廢氣進(jìn)行經(jīng)濟(jì)有效的處理。
[0006]但工業(yè)上許多廢氣含有一種以上污染物，且污染物性質(zhì)復(fù)雜、濃度高、處理要求嚴(yán)，此時(shí)采用傳統(tǒng)的廢氣處理工藝就難以經(jīng)濟(jì)有效地達(dá)到處理目的。因此，需要開發(fā)新型的廢氣處理技術(shù)，而UV光解催化氧化法是近些年被開發(fā)出來的一種新型的廢氣處理技術(shù)，其原理是在光觸媒凈化器內(nèi)，高能紫外線光束與空氣、Ti02反應(yīng)產(chǎn)生的臭氧、.0H(羥基自由基)對(duì)惡臭有機(jī)氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，同時(shí)大分子有機(jī)氣體在紫外線作用下使其鏈結(jié)構(gòu)斷裂，使惡臭有機(jī)氣體物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無臭味的低分子化合物或者完全氧化，生成水和C02，整個(gè)分解氧化過程在I秒內(nèi)完成;光催化法只消耗電能，塔內(nèi)的高能紫外線光束與空氣、Ti02反應(yīng)產(chǎn)生的臭氧、.0H(羥基自由基)對(duì)惡臭有機(jī)氣體進(jìn)行協(xié)同降解反應(yīng)，可有效將其分解為C02和H20后排放到空氣中，既達(dá)標(biāo)排放，也消除了氣體的惡臭。
[0007]UV光催化法對(duì)惡臭氣體及VOC廢氣的處理具有如下幾大優(yōu)勢(shì):
[0008](I)尚效除惡臭:能尚效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氣、氣氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)95%以上，脫臭效果達(dá)到國家頒布的惡臭污染物排放一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
[0009](2)無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使待處理氣體通過本設(shè)備進(jìn)行氧化分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
[0010](3)適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
[0011](4)運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低<700pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
[0012](5)適用范圍廣:光催化適用于煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、制藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機(jī)和無機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理;噴漆(涂)車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、造紙、釀造等生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的有毒有害廢氣也可使用光催化處理。
[0013]UV光催化的核心技術(shù)是UV及光觸媒等部件的研發(fā)與應(yīng)用，運(yùn)行時(shí)，設(shè)備內(nèi)部的UV發(fā)光器需要與內(nèi)置光觸媒板進(jìn)行協(xié)同作用，對(duì)經(jīng)過設(shè)備主體的廢氣進(jìn)行催化氧化處理，所以需要一種能與UV發(fā)光器進(jìn)行良好協(xié)同作用的新型光觸媒板。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明旨在提供一種新型光觸媒板的制造方法，本方法所制得的新型光觸媒板上Ti02顆粒的粒徑可達(dá)納米級(jí)，保證了 Ti02顆粒在鋁板基底上的厚度及穩(wěn)定性，避免在使用過程中因催化劑Ti02顆粒的脫落而導(dǎo)致廢氣凈化效率降低的問題。
[0015]為解決上述問題，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0016]—種新型光觸媒板的制造方法，所述新型光觸媒板應(yīng)用于光催化設(shè)備上，具體步驟如下:
[0017]步驟一:首先選取1mm厚的鋁板，并將其加工成表面由邊長(zhǎng)為3mm的正六邊形孔組成的呈蜂窩狀的通透鋁板基體；
[0018]步驟二:將呈蜂窩狀的通透鋁板基體進(jìn)行裁切，并使其置于粉末熔射鍍膜機(jī)內(nèi)，在粉末熔射鍍膜機(jī)的Ti02粉末噴出量為20?30g/min、噴射面積為10?18m2/h、噴涂效率為75%的工藝條件下，通過粉末熔射鍍膜機(jī)在呈蜂窩狀的通透鋁板基體外鍍一層Ti02薄膜；
[0019]步驟三:當(dāng)步驟二中的鋁板基體鍍膜完成后，將鍍膜完成的鋁板基體進(jìn)行冷卻，再根據(jù)所述光催化設(shè)備的大小及設(shè)計(jì)參數(shù)，對(duì)冷卻后的鍍膜鋁板基體進(jìn)行尺寸調(diào)整，最后在調(diào)整后鍍膜鋁板基體四周安裝鋁合金框架，得到新型光觸媒板；
[0020]最后將步驟三中制作完成的新型光觸媒板安放入光催化設(shè)備內(nèi)的預(yù)留插槽內(nèi)，SP可完成安裝。
[0021 ]進(jìn)一步的，所述的Ti02薄膜的涂層厚35μηι。
[0022]進(jìn)一步的，所述步驟一中的鋁板基體表面的正六邊形孔的密度約5.95萬個(gè)/平方米。
[0023]有益效果:本發(fā)明所制得的新型光觸媒板上的Ti02顆粒的粒徑可達(dá)納米級(jí)，保證了 Ti02顆粒在鋁板基底上的厚度及穩(wěn)定性，避免在使用過程中因催化劑Ti02顆粒的脫落而導(dǎo)致廢氣凈化效率降低的問題。
【具體實(shí)施方式】
[0024]本發(fā)明提供的一種新型光觸媒板的制造方法，所述新型光觸媒板應(yīng)用于光催化設(shè)備上，具體步驟如下:
[0025]步驟一:首先選取1mm厚的鋁板，并將其加工成表面由邊長(zhǎng)為3mm的正六邊形孔組成的呈蜂窩狀的通透鋁板基體，其鋁板基體表面正六邊形孔的密度約5.95萬個(gè)/平方米；
[0026]步驟二:將呈蜂窩狀的通透鋁板基體進(jìn)行裁切，并使其置于粉末熔射鍍膜機(jī)內(nèi)，在粉末熔射鍍膜機(jī)的Ti02粉末噴出量為20?30g/min、噴射面積為10?18m2/h、噴涂效率為75%的工藝條件下，通過粉末熔射鍍膜機(jī)在呈蜂窩狀的通透鋁板基體外鍍一層厚度為35μπι的Ti02薄膜；
[0027]步驟三:當(dāng)步驟二中的鋁板基體鍍膜完成后，將鍍膜完成的鋁板基體進(jìn)行冷卻，再根據(jù)所述光催化設(shè)備的大小及設(shè)計(jì)參數(shù)，對(duì)冷卻后的鍍膜鋁板基體進(jìn)行尺寸調(diào)整，最后在調(diào)整后鍍膜鋁板基體四周安裝鋁合金框架，得到新型光觸媒板。
[0028]最后將步驟三中制作完成的新型光觸媒板安放入光催化設(shè)備內(nèi)的預(yù)留插槽內(nèi)，SP可完成安裝。
[0029]本發(fā)明所制得的新型光觸媒板上的Ti02顆粒的粒徑可達(dá)納米級(jí)，保證了 Ti02顆粒在鋁板基底上的厚度及穩(wěn)定性，避免在使用過程中因催化劑Ti02顆粒的脫落而導(dǎo)致廢氣凈化效率降低的問題。
[0030]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明的技術(shù)范圍作出任何限制，故凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何細(xì)微修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明的技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種新型光觸媒板的制造方法，所述新型光觸媒板應(yīng)用于光催化設(shè)備上，其特征在于:具體步驟如下: 步驟一:首先選取1mm厚的鋁板，并將其加工成表面由邊長(zhǎng)為3mm的正六邊形孔組成的呈蜂窩狀的通透鋁板基體； 步驟二:將呈蜂窩狀的通透鋁板基體進(jìn)行裁切，并使其置于粉末熔射鍍膜機(jī)內(nèi)，在粉末熔射鍍膜機(jī)的Ti02粉末噴出量為20?30g/min、噴射面積為10?18m2/h、噴涂效率為75%的工藝條件下，通過粉末熔射鍍膜機(jī)在呈蜂窩狀的通透鋁板基體外鍍一層Ti02薄膜； 步驟三:當(dāng)步驟二中的鋁板基體鍍膜完成后，將鍍膜完成的鋁板基體進(jìn)行冷卻，再根據(jù)所述光催化設(shè)備的大小及設(shè)計(jì)參數(shù)，對(duì)冷卻后的鍍膜鋁板基體進(jìn)行尺寸調(diào)整，最后在調(diào)整后鍍膜鋁板基體四周安裝鋁合金框架，得到新型光觸媒板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光觸媒板的制造方法，其特征在于:所述的Ti02薄膜的涂層厚35μπι。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光觸媒板的制造方法，其特征在于:所述步驟一中的鋁板基體表面的正六邊形孔的密度約5.95萬個(gè)/平方米。
【專利摘要】本發(fā)明涉及廢氣處理工程應(yīng)用領(lǐng)域，具體指一種新型光觸媒板的制造方法，具體包括以下步驟：步驟一，加工制作呈蜂窩狀的通透鋁板基體；步驟二，將呈蜂窩狀的通透鋁板基體進(jìn)行裁切，并使其置于粉末熔射鍍膜機(jī)內(nèi)，通過粉末熔射鍍膜機(jī)在呈蜂窩狀的通透鋁板基體外鍍一層TiO2薄膜；步驟三，當(dāng)鋁板基體鍍膜完成后，將鍍膜完成的鋁板基體進(jìn)行冷卻，根據(jù)光催化設(shè)備的大小及設(shè)計(jì)參數(shù)，對(duì)鍍膜鋁板基體進(jìn)行尺寸調(diào)整，最后在調(diào)整后鍍膜鋁板基體四周安裝鋁合金框架，得到新型光觸媒板；本發(fā)明所制得的新型光觸媒板上的TiO2顆粒的粒徑可達(dá)納米級(jí)，保證了TiO2顆粒在鋁板基底上的厚度及穩(wěn)定性，避免在使用過程中因催化劑TiO2顆粒的脫落而導(dǎo)致廢氣凈化效率降低的問題。
【IPC分類】B01D53/88, C23C4/11
【公開號(hào)】CN105671472
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610045619
【發(fā)明人】江悌坤
【申請(qǐng)人】蘇州月輝環(huán)?？萍加邢薰?br>【公開日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2016年1月23日