一、實施例二相同,通過調(diào)節(jié)電磁線圈27的疏密以及電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離同樣可以調(diào)節(jié)反應(yīng)腔室21內(nèi)不同區(qū)域的磁場強度,從而實現(xiàn)相同半徑不同位置的磁場強度的異化控制。
[0037]具體地,在反應(yīng)腔室21的圓周方向上,電磁線圈27的疏密可以根據(jù)對磁場的實際需要任意設(shè)置,如需要相對較強的磁場時,電磁線圈27的設(shè)置較密;如需要相對較弱的磁場時,電磁線圈27的設(shè)置較疏。當(dāng)電磁線圈27較密時,反應(yīng)腔室21內(nèi)磁場的均勻性更優(yōu)。換言之,根據(jù)實際使用情況的需要,電磁線圈沿反應(yīng)腔室的圓周方向可以等間距排列,也可以不等間距排列。不難理解,盡管本實施例中描述了電磁線圈27沿反應(yīng)腔室21的圓周方向間隔設(shè)置,但這并不表示相鄰的兩個電磁線圈27之間必須保留一定的距離,實際上,根據(jù)對磁場的要求,相鄰的兩個電磁線圈27也可以緊貼在一起。
[0038]電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離也可以根據(jù)對磁場的實際需要任意設(shè)置,如需要相對較強的磁場時,電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離較近;如需要相對較強的弱場時,電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離較遠。
[0039]除此之外,本實施例還可通過單獨調(diào)節(jié)電磁線圈27的電源的功率而改變對應(yīng)區(qū)域的磁場強度,即實現(xiàn)特定位置的電磁線圈磁場強度的調(diào)節(jié),從而實現(xiàn)對磁場強度的精細化控制。
[0040]實施例四
[0041]如圖3d所示,在實施例四中,將四個電磁線圈27分為兩組,同一組中的兩個電磁線圈并聯(lián),每組由一個電源供電,從而實現(xiàn)分組調(diào)控。
[0042]使用時,將四個電磁線圈27沿反應(yīng)腔室21的圓周方向間隔設(shè)置。同一組內(nèi)的電磁線圈27可以相鄰設(shè)置,也可以根據(jù)實際使用情況與其它組內(nèi)的電磁線圈穿插設(shè)置。與實施例一、實施例二相同,通過調(diào)節(jié)電磁線圈27的疏密以及電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離同樣可以調(diào)節(jié)反應(yīng)腔室21內(nèi)不同區(qū)域的磁場強度,從而實現(xiàn)相同半徑不同位置的磁場強度的異化控制。具體設(shè)置方式參見實施例一或?qū)嵤├?,在此不再贅述?br>[0043]實施例四同樣可以實現(xiàn)對磁場的精細化控制,而且與實施例三相比,減少了電源的數(shù)量,降低了電磁裝置的成本。
[0044]實施例五
[0045]如圖3e所7K,在實施例五中,將四個電磁線圈27分為兩組,同一組內(nèi)的兩個電磁線圈串聯(lián),每組由一個電源供電,從而實現(xiàn)分組調(diào)控。
[0046]使用時,將四個電磁線圈27沿反應(yīng)腔室21的圓周方向間隔設(shè)置。同一組內(nèi)的電磁線圈27可以相鄰設(shè)置,也可以根據(jù)實際使用情況與其它組內(nèi)的電磁線圈穿插設(shè)置。與實施例一、實施例二相同,通過調(diào)節(jié)電磁線圈27的疏密以及電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離同樣可以調(diào)節(jié)反應(yīng)腔室21內(nèi)不同區(qū)域的磁場強度,從而實現(xiàn)相同半徑不同位置的磁場強度的異化控制。具體設(shè)置方式參見實施例一或?qū)嵤├?,在此不再贅述?br>[0047]實施例五同樣可以實現(xiàn)對磁場的精細化控制,而且與實施例三相比,減少了電源的數(shù)量,降低了電磁裝置的成本。
[0048]實施例六
[0049]如圖3f所示,在實施例六中,將四個電磁線圈27分為兩組,兩組內(nèi)的電磁線圈的連接方式不同,即一組內(nèi)的兩個電磁線圈串聯(lián),另一組內(nèi)的兩個電磁線圈并聯(lián)。每組由一個電源供電,從而實現(xiàn)分組調(diào)控。
[0050]使用時,將四個電磁線圈27沿反應(yīng)腔室21的圓周方向間隔設(shè)置。同一組內(nèi)的電磁線圈27可以相鄰設(shè)置,也可以根據(jù)實際使用情況與其它組內(nèi)的電磁線圈穿插設(shè)置。與實施例一、實施例二相同,通過調(diào)節(jié)電磁線圈27的疏密以及電磁線圈27與反應(yīng)腔室21的室壁之間的距離同樣可以調(diào)節(jié)反應(yīng)腔室21內(nèi)不同區(qū)域的磁場強度,從而實現(xiàn)相同半徑不同位置的磁場強度的異化控制。具體設(shè)置方式參見實施例一或?qū)嵤├?,在此不再贅述?br>[0051]實施例六同樣可以實現(xiàn)對磁場的精細化控制,而且與實施例三相比,減少了電源的數(shù)量,降低了電磁裝置的成本。
[0052]雖然在實施例四至實施例六中,僅介紹了將電磁線圈分為兩組。這并不表示使用時,只能將電磁線圈分為兩組。實際上,電磁線圈的分組情況是根據(jù)實際使用需要任意改變。
[0053]在實施例一至實施例六中,電磁線圈與反應(yīng)腔室的室壁平行,即電磁線圈與反應(yīng)腔室的室壁之間的夾角為0°。然而,本發(fā)明并不局限于此。實際上,電磁線圈與反應(yīng)腔室的室壁之間的夾角為可以為O彡Θ <180°的任意角度。如圖4a所示,電磁線圈與反應(yīng)腔室的室壁之間的夾角為90°。如圖4b所示,電磁線圈與反應(yīng)腔室的室壁之間的夾角為45。。
[0054]另外,本實施例的電磁線圈包括繞組,即繞組就是電磁線圈?;蛘?,電磁線圈包括繞組和鐵芯,鐵芯嵌置于繞組中間的空腔內(nèi)。
[0055]需要說明的是,本實施例提供的半導(dǎo)體加工設(shè)備可作為薄膜沉積設(shè)備,用于實施沉積工藝;或作為刻蝕設(shè)備,用于實施刻蝕工藝。
[0056]在本發(fā)明提供的半導(dǎo)體加工設(shè)備中,設(shè)于反應(yīng)腔室外側(cè)的電磁裝置包括沿反應(yīng)腔室的圓周方向間隔排列的多個獨立的電磁線圈,通過控制輸入電磁線圈的電流的大小可實現(xiàn)實時調(diào)節(jié)不同半徑處的磁場強度,同時可以實時調(diào)節(jié)相同半徑、不同圓周位置處的磁場強度,增加了對反應(yīng)腔室內(nèi)磁場調(diào)節(jié)的靈活性。
[0057]可以理解的是,以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進,這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,包括反應(yīng)腔室和設(shè)于所述反應(yīng)腔室外側(cè)的電磁裝置,其特征在于,所述電磁裝置包括電源和多個獨立的電磁線圈,所述多個電磁線圈沿反應(yīng)腔室的圓周方向間隔排列,所述電源為所述電磁線圈提供電能。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述多個電磁線圈并聯(lián)或串聯(lián)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電源的數(shù)量與所述電磁線圈的數(shù)量相同,每個所述電源為一個所述電磁線圈單獨供電。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,包括η個所述電源,所述多個電磁線圈被分成η組,一個電源對應(yīng)一組電磁線圈,每組電磁線圈內(nèi)的所述電磁線圈串聯(lián)和/或并聯(lián),η彡2的整數(shù)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電磁線圈的軸線與所述反應(yīng)腔室的室壁之間的夾角為OS Θ <180°的任意角度。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電磁線圈沿所述反應(yīng)腔室的圓周方向均勻排列。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電磁線圈沿所述反應(yīng)腔室的圓周方向不等間距排列。8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任意一項所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電磁線圈包括繞組。9.根據(jù)權(quán)利要求1-7任意一項所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述電磁線圈包括繞組和鐵芯,所述鐵芯嵌置于所述繞組中間的空腔內(nèi)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其特征在于,所述半導(dǎo)體加工設(shè)備用于沉積薄膜或刻蝕。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,包括反應(yīng)腔室和設(shè)于所述反應(yīng)腔室外側(cè)的電磁裝置,所述電磁裝置包括電源和多個獨立的電磁線圈,所述多個電磁線圈沿反應(yīng)腔室的圓周方向間隔排列,所述電源為所述電磁線圈提供電能。該半導(dǎo)體加工設(shè)備不僅可實時調(diào)節(jié)不同半徑處的磁場強度,而且可以實時調(diào)節(jié)相同半徑、不同圓周位置處的磁場強度。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN105603370
【申請?zhí)枴緾N201410593283
【發(fā)明人】邊國棟, 王厚工, 李冰
【申請人】北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2014年10月29日