第一邊;112-第二邊。
【具體實施方式】
[0051]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0052]本發(fā)明實施例提供了一種掩膜板修復(fù)裝置，掩膜板修復(fù)裝置包括修復(fù)器件和移動機構(gòu);移動機構(gòu)用于帶動修復(fù)器件在金屬掩膜板正對的區(qū)域內(nèi)、且在與金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動;修復(fù)器件用于對金屬掩膜板上與修復(fù)器件相對的部分進行修復(fù)。
[0053]如圖2所示，金屬掩膜板正對的區(qū)域11'即與金屬掩膜板11所在平面垂直的面內(nèi)，金屬掩膜板11垂直投影區(qū)域。金屬掩膜板正對的區(qū)域IV位于與金屬掩膜板平行的面內(nèi)。本發(fā)明實施例中，移動機構(gòu)帶動修復(fù)器件在金屬掩膜板正對的區(qū)域內(nèi)、且在與金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動，即可以是移動機構(gòu)帶動修復(fù)器件在圖2所示的區(qū)域11'內(nèi)移動。具體的，移動機構(gòu)可以是機械手或機械機器人等。
[0054]此外，對掩膜板進行修復(fù)具體根據(jù)掩膜板的實際問題進行。例如，掩膜板被磁化而有金屬網(wǎng)絲粘結(jié)，則對掩膜板進行修復(fù)即要對掩膜板進行消磁修復(fù)。若掩膜板上有蒸鍍材料淤積，則對掩膜板進行修復(fù)即要去除淤積的蒸鍍材料。
[0055]本發(fā)明實施例提供的一種掩膜板修復(fù)裝置，包括修復(fù)器件和移動機構(gòu);移動機構(gòu)用于帶動修復(fù)器件在金屬掩膜板正對的區(qū)域內(nèi)、且在與金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動;修復(fù)器件用于對金屬掩膜板上與修復(fù)器件相對的部分進行修復(fù)。則修復(fù)裝置可以安裝于真空蒸鍍腔室內(nèi)，則無需將掩膜板從蒸鍍腔室內(nèi)取出，減少了修復(fù)的工作量。當然，也可以將金屬掩膜板從真空蒸鍍腔室內(nèi)取出，再利用修復(fù)裝置對金屬掩膜板進行修復(fù)，以減少作業(yè)人員的工作量。
[0056]優(yōu)選的，如圖3所示，修復(fù)器件20包括:消磁器21以及與消磁器連接的電流控制器22;電流控制器22用于控制消磁器21產(chǎn)生的磁場大小以及磁場變化頻率的高低。電流控制器22和消磁器21的位置不限于圖3所示，圖3中以電流控制器22位于消磁器21的下方為例進行說明。
[0057]需要說明的是，消磁器產(chǎn)生不同頻率(即磁場變化頻率)和強度(即磁場大小)的交變磁場，以打亂金屬掩膜板內(nèi)部排列一致的磁疇，從而金屬掩膜板由于磁化而粘連的金屬網(wǎng)絲會消磁分開。一般的，磁場大小的變化頻率越高，磁場強度越大，消磁效果越好?，F(xiàn)有的修復(fù)金屬掩膜板的方法是作業(yè)人員手持消磁器金屬掩膜板進行消磁，且在一定頻率的情況下，作業(yè)人員需要使得消磁器與金屬掩膜板的距離逐漸減小，從而使得掩膜板接收磁場逐漸增大，以達到對金屬掩膜板進行消磁的目的。
[0058]本發(fā)明實施例提供的修復(fù)器件中，電流控制器用于產(chǎn)生交變電流，并輸出不同大小和頻率的交變電流，繼而使消磁器產(chǎn)生不同強度和頻率的交變磁場。即本發(fā)明實施例可以通過電流控制器控制消磁器產(chǎn)生的磁場大小，從而無需改變消磁器與金屬掩膜板之間的距離。即消磁器的移動平面與金屬掩膜板所在平面平行且距離不變，通過調(diào)整電流控制器調(diào)整消磁器的磁場大小，即可以對金屬掩膜板進行消磁，從而無需較大空間，可以更加方便的將修復(fù)裝置安裝于蒸鍍腔室內(nèi)。
[0059]當然，還可以通過電路控制器使得消磁器的磁場變化頻率提高，從而消磁器的消磁效果更好，以節(jié)省消磁時間。
[0060]優(yōu)選的，如圖6所示，金屬掩膜板11的輪廓為矩形，包括相鄰的第一邊111(即矩形的短邊)和第二邊112(即矩形的長邊)；沿金屬掩膜板11的第一邊111，消磁器21的長度大于或等于金屬掩膜板11，即沿101方向消磁器21的長度大于等于金屬掩膜板11的長度。沿金屬掩膜板11的第二邊112，消磁器21的長度小于金屬掩膜板11，即沿102方向消磁器21的長度小于金屬掩膜板11的長度。移動機構(gòu)用于帶動修復(fù)器件20沿第二邊112的方向(S卩102方向)移動，則修復(fù)器件20沿第二邊112的方向(S卩102方向)移動，就可以對金屬掩膜板的全部進行消磁。
[0061]當然，消磁器的長度也可以是在第一邊和第二邊的方向上均小于掩膜板的長度，則消磁器在第一邊和第二邊的方向上均可以移動，以對金屬掩膜板的全部進行消磁。或者，消磁器的長度也可以是在第一邊和第二邊的方向上均大于掩膜板的長度，則消磁器在不移動的情況下，以對金屬掩膜板的全部進行消磁。
[0062]優(yōu)選的，如圖5、圖6所不，移動機構(gòu)30包括:第一絲杠31和導向桿32，第一絲杠31和導向桿32均與金屬掩膜板11的第二邊112平行，且第一絲杠31與導向桿32所確定的平面與金屬掩膜板11平行，第一絲杠31和導向桿32均穿過消磁器21，即消磁器21在第一絲杠31的帶動下，沿導向桿32移動，則消磁器21的移動方向即為第二邊112的方向(S卩102方向)。且第一絲杠31與導向桿32所確定的平面即為與金屬掩膜板11平行的面。如圖5、圖6所示，本發(fā)明實施例以移動結(jié)構(gòu)30包括兩個導向桿32為例，其中，兩個導向桿32分別位于第一絲杠31的兩側(cè)。
[0063]優(yōu)選的，如圖5、圖6所示，修復(fù)裝置100包括:圖像獲取裝置40以及與圖像獲取裝置40連接的顯示設(shè)備(圖中未示出)；其中，圖像獲取裝置40用于獲取金屬掩膜板11上與圖像獲取裝置40相對的部分的圖像，并發(fā)送給顯示設(shè)備；顯示設(shè)備用于顯示圖像獲取裝置40所獲取的圖像;移動機構(gòu)30還用于使得圖像獲取裝置40在金屬掩膜板11正對的區(qū)域內(nèi)、且在與金屬掩膜板11平行的面內(nèi)移動。
[0064]圖像獲取裝置可以獲取掩膜板的圖像以發(fā)送給顯示設(shè)備，顯示設(shè)備還可以將圖像獲取裝置獲取的圖像進行放大以方便顯示。從顯示設(shè)備顯示的圖像中可以看出掩膜板是否被磁化而發(fā)出金屬絲粘結(jié)或者從顯示設(shè)備顯示的圖像中可以看出掩膜板上是否有蒸鍍材料的淤積，從而進一步確認是否需要對金屬掩膜板進行修復(fù)。
[0065]優(yōu)選的，如圖5、圖6所示，在修復(fù)器件20包括消磁器21的情況下，圖像獲取裝置30設(shè)置在消磁器21上，并可隨著所消磁器21的移動而移動。移動機構(gòu)30還用于帶動圖像獲取裝置40在垂直于消磁器21移動的方向上移動。
[0066]消磁器21移動的方向即為導向桿32的方向，導向桿32與第二邊112平行，消磁器21的移動方向為第二邊112的方向(S卩102方向)，即圖像獲取裝置40可以沿第二邊112的方向移動。則垂直于消磁器21移動的方向即為第一邊111的方向(S卩101方向)，移動機構(gòu)30還用于帶動圖像獲取裝置40在垂直于消磁器21移動的方向上移動，則圖像獲取裝置40還可以沿第一邊111的方向移動。則在圖像獲取裝置40比較小的情況下，圖像獲取裝置40通過在第一邊111和第二邊112的方向上的移動，可以獲取金屬掩膜板的全部圖像。
[0067]優(yōu)選的，本發(fā)明實施例中，圖像獲取裝置可以是顯微鏡，顯示設(shè)備可以是液晶顯示器。則圖像獲取裝置每次獲取與顯微鏡對應(yīng)的部分金屬掩膜板的圖像。
[0068]優(yōu)選的，如圖4、圖6所示，修復(fù)器件20包括:激光器23，激光器23用于向金屬掩膜板11發(fā)射激光;移動機構(gòu)30具體用于驅(qū)動激光器23移動至與顯示設(shè)備顯示的圖像對應(yīng)金屬掩膜板11的正對位置處，即移動機構(gòu)30帶動激光器23在與金屬掩膜板11平行且與金屬掩膜板11正對的區(qū)域內(nèi)移動，以使得激光器23可以向金屬掩膜板11的任意位置發(fā)射激光。
[0069]需要說明的是，掩膜板在進行掩膜蒸鍍過程中，蒸鍍材料有可能淤積在掩膜板上，從而造成掩膜圖案不精準。本發(fā)明實施例提供的修復(fù)器件包括激光器，則激光器可以向掩膜板上淤積的蒸鍍材料發(fā)射激光，從而使得淤積的蒸鍍材料蒸發(fā)，保證掩膜板的掩膜精度。
[0070]優(yōu)選的，如圖4、圖6所示，激光器21發(fā)射的激光與圖像獲取裝置30獲取的掩膜板圖像的位置一致。以圖像獲取裝置為顯微鏡為例，顯微鏡的鏡頭垂直掩膜板，以獲取與鏡頭正對的掩膜板位置處的圖像。激光器位于顯微鏡一側(cè)，激光器的激光頭可以是具有一定傾斜角度，從而激光頭發(fā)射的激光