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一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng)的制作方法

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一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及掩膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]FMM(fine metal mask,高精度金屬掩膜板)主要用于顯示面板的薄膜蒸鍍,例如OLED(Organic Light-Emitting D1de,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示面板中彩色膜層的蒸鍍。
[0003]具體的薄膜蒸鍍工藝如圖1所示,在真空蒸鍍腔室內(nèi),將蒸鍍基板12與金屬掩膜板11對(duì)位放置,其中,蒸鍍基板12位于金屬掩膜板11的上面,蒸發(fā)源14位于金屬掩膜板11的下面。由于在真空蒸鍍過(guò)程中蒸鍍基板12與金屬掩膜板11有可能發(fā)生相對(duì)移動(dòng),造成成膜區(qū)域偏移,導(dǎo)致形成的薄膜精度差,如圖1所示,現(xiàn)有技術(shù)中在蒸鍍基板12的上面放置有一塊磁鐵蓋板13,磁鐵蓋板13通過(guò)磁性吸附金屬掩膜板11,從而使得金屬掩膜板11與蒸鍍基板12緊密貼合,避免在真空蒸鍍過(guò)程中蒸鍍基板12與金屬掩膜板11發(fā)生相對(duì)移動(dòng)。
[0004]但由于金屬掩膜板11的精度高,其金屬網(wǎng)絲很細(xì)很輕,長(zhǎng)時(shí)間的真空蒸鍍,金屬掩膜板11受到磁鐵蓋板13的磁化,金屬網(wǎng)絲容易粘連,使得金屬掩膜板11的掩膜圖案不精準(zhǔn)。
[0005]現(xiàn)有的修復(fù)金屬掩膜板的方法是作業(yè)人員手持消磁器金屬掩膜板進(jìn)行消磁,從而必須將金屬掩膜板從真空蒸鍍腔室內(nèi)取出,從而工作量大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng),該掩膜板修復(fù)裝置可以使得在真空蒸鍍腔室內(nèi)就可以對(duì)金屬掩膜板進(jìn)行修復(fù)處理。
[0007]為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]—方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板修復(fù)裝置,所述掩膜板修復(fù)裝置包括修復(fù)器件和移動(dòng)機(jī)構(gòu);
[0009]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述修復(fù)器件在金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與所述金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng);
[0010]所述修復(fù)器件用于對(duì)所述金屬掩膜板上與所述修復(fù)器件相對(duì)的部分進(jìn)行修復(fù)。
[0011]可選的,所述修復(fù)器件包括:消磁器以及與所述消磁器連接的電流控制器;
[0012]所述電流控制器用于控制所述消磁器產(chǎn)生的磁場(chǎng)大小以及磁場(chǎng)變化頻率的高低。
[0013]可選的,所述金屬掩膜板的輪廓為矩形,包括相鄰的第一邊和第二邊;
[0014]沿所述金屬掩膜板的第一邊,所述消磁器的長(zhǎng)度大于或等于所述金屬掩膜板;沿所述金屬掩膜板的第二邊,所述消磁器的長(zhǎng)度小于所述金屬掩膜板;
[0015]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述修復(fù)器件沿所述第二邊的方向移動(dòng)。
[0016]可選的,所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:第一絲杠和導(dǎo)向桿,所述第一絲杠和所述導(dǎo)向桿均與所述金屬掩膜板的第二邊平行,且所述第一絲杠與所述導(dǎo)向桿所確定的平面與所述金屬掩膜板平行,所述第一絲杠和所述導(dǎo)向桿均穿過(guò)所述消磁器。
[0017]可選的,所述修復(fù)裝置包括:圖像獲取裝置以及與所述圖像獲取裝置連接的顯示設(shè)備;
[0018]其中,所述圖像獲取裝置用于獲取所述金屬掩膜板上與所述圖像獲取裝置相對(duì)的部分的圖像,并發(fā)送給所述顯示設(shè)備;
[0019]所述顯示設(shè)備用于顯示所述圖像獲取裝置所獲取的圖像;
[0020]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于使得所述圖像獲取裝置在所述金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與所述金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng)。
[0021]可選的,在所述修復(fù)器件包括消磁器的情況下,所述圖像獲取裝置設(shè)置在所述消磁器上,并可隨著所消磁器的移動(dòng)而移動(dòng);
[0022]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于帶動(dòng)所述圖像獲取裝置在垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向上移動(dòng)。
[0023]可選的,所述修復(fù)器件包括:激光器,所述激光器用于向所述金屬掩膜板發(fā)射激光;
[0024]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)具體用于驅(qū)動(dòng)所述激光器移動(dòng)至與所述顯示設(shè)備顯示的圖像對(duì)應(yīng)所述金屬掩膜板的正對(duì)位置處。
[0025]可選的,所述修復(fù)裝置還包括激光控制器,所述激光控制器還用于控制所述激光器發(fā)出的激光強(qiáng)度。
[0026]可選的,在所述修復(fù)器件包括消磁器的情況下,所述激光器設(shè)置在所述消磁器上,并可隨著所消磁器的移動(dòng)而移動(dòng);
[0027]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還用于帶動(dòng)所述激光器在垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向上移動(dòng)。
[0028]可選的,所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:導(dǎo)向槽和第二絲杠,所述導(dǎo)向槽設(shè)置在所述消磁器面對(duì)所述金屬掩膜板的表面上、其垂直于所述消磁器移動(dòng)的方向,所述第二絲杠設(shè)置在所述導(dǎo)向槽中,
[0029]所述第二絲杠與圖像獲取裝置和/或激光器連接。
[0030]另一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍系統(tǒng),包括真空蒸鍍腔室以及位于所述真空蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)春臀挥谒稣翦冊(cè)瓷戏降慕饘傺谀ぐ?還本發(fā)明實(shí)施例提供的任一所述的掩膜板修復(fù)裝置,其中,所述掩膜板修復(fù)裝置的修復(fù)器件位于所述真空蒸鍍腔室內(nèi)。
[0031]另一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板修復(fù)裝置的修復(fù)方法,所述修復(fù)方法包括:
[0032]啟動(dòng)修復(fù)器件;
[0033]驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)機(jī)構(gòu),以使得移動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述修復(fù)器件在金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與所述金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng)。
[0034]可選的,在所述修復(fù)器件包括消磁器和電流控制器的情況下,所述啟動(dòng)修復(fù)器件包括:啟動(dòng)所述電流控制器,以便由所述電流控制器向所述消磁器輸入交流電,其中所述電流控制器向所述消磁器輸入交流電的電流大小不斷變化。
[0035]可選的,在所述修復(fù)裝置還包括圖像獲取裝置以及與所述顯微鏡連接的顯示設(shè)備的情況下,所述修復(fù)方法還包括:
[0036]圖像獲取裝置獲取所述金屬掩膜板上與所述圖像獲取裝置相對(duì)的部分的圖像,并發(fā)送給顯示設(shè)備;
[0037]所述顯示設(shè)備接收所述圖像獲取裝置發(fā)送的圖像并進(jìn)行顯示。
[0038]可選的,在所述修復(fù)器件包括激光器的情況下,若所述顯示設(shè)備顯示所述金屬掩膜板有蒸鍍材料淤積,驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使得所述移動(dòng)結(jié)構(gòu)帶動(dòng)所述激光器移動(dòng)至正對(duì)所述金屬掩膜板有蒸鍍材料淤積的位置處;
[0039]所述啟動(dòng)修復(fù)器件包括:啟動(dòng)所述激光器,向淤積的蒸鍍材料位置處發(fā)射激光。
[0040]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種掩膜板修復(fù)裝置、修復(fù)方法及蒸鍍系統(tǒng),包括修復(fù)器件和移動(dòng)機(jī)構(gòu);移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)修復(fù)器件在金屬掩膜板正對(duì)的區(qū)域內(nèi)、且在與金屬掩膜板平行的面內(nèi)移動(dòng);修復(fù)器件用于對(duì)金屬掩膜板上與修復(fù)器件相對(duì)的部分進(jìn)行修復(fù)。則修復(fù)裝置可以安裝于真空蒸鍍腔室內(nèi),則無(wú)需將掩膜板從蒸鍍腔室內(nèi)取出,減少了修復(fù)的工作量。
【附圖說(shuō)明】
[0041]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0042]圖1為現(xiàn)有的薄膜蒸鍍示意圖;
[0043]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜板及其正對(duì)區(qū)域的示意圖;
[0044]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種修復(fù)器件示意圖;
[0045]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種修復(fù)器件示意圖;
[0046]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種修復(fù)裝置示意圖;
[0047]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種修復(fù)裝置對(duì)掩膜板進(jìn)行修復(fù)的示意圖;
[0048]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種修復(fù)方法示意圖。
[0049]附圖標(biāo)記:
[0050]11-金屬掩膜板;12-蒸鍍基板;13-磁鐵蓋板;14-蒸發(fā)源;20-修復(fù)器件;21-消磁器;22-電流控制器;30-移動(dòng)機(jī)構(gòu);32-第一絲杠;32-導(dǎo)向桿;33-導(dǎo)向槽;34-第二絲杠;40-圖像獲取裝置;100-掩膜板修復(fù)裝置;111 -
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