來計(jì)算第一電子束源周圍的外部磁場(chǎng)和/或電場(chǎng)。
[0088]在又一個(gè)示例性且非限制性的實(shí)施方案中，計(jì)算考慮到所述至少一個(gè)第二電子束源的瞬時(shí)電子束源設(shè)定。
[0089]本發(fā)明不限于上述實(shí)施方案且在下文權(quán)利要求書的范疇內(nèi)可能進(jìn)行多種修改。所述修改例如可涵蓋使用不同來源的射線源而非例示的電子束，諸如激光束。可使用除金屬粉末以外的其他材料，諸如聚合物粉末和/或陶瓷粉末。
[0090]應(yīng)了解，可能對(duì)以上系統(tǒng)和方法進(jìn)行多種改變，且可能與上述實(shí)施方案存在偏差，但仍在權(quán)利要求書的范疇內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員將想到本文列舉的發(fā)明所涉及的具有以上描述和相關(guān)圖示中呈現(xiàn)的教義益處的本發(fā)明的多種修改和其他實(shí)施方案。因此，應(yīng)了解本發(fā)明不限于所公開的具體實(shí)施方案且修改和其他實(shí)施方案意圖包括在隨附的權(quán)利要求書的范疇內(nèi)。盡管本文中采用特定術(shù)語，但其僅以通用且描述性的含義使用而不用于限制目的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種通過連續(xù)熔化粉床的部分來形成三維物品的方法，所述部分對(duì)應(yīng)于所述三維物品的連續(xù)橫截面，所述方法包括以下步驟: 采用所述三維物品的模型； 在工作臺(tái)上涂敷第一粉層； 在所述工作臺(tái)上自第一電子束源引導(dǎo)第一電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第一選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的第一橫截面的第一部分； 在所述工作臺(tái)上自第二電子束源引導(dǎo)第二電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第二選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的所述第一橫截面的第二部分； 記錄所述第一電子束源的至少一種設(shè)定； 記錄所述第二電子束源的至少一種設(shè)定；且 根據(jù)所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定和所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定來校正所述第二電子束的位置，以便使根據(jù)所述模型的所需第二電子束位置與實(shí)際的第二電子束位置對(duì)準(zhǔn)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括以下步驟:根據(jù)所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定和所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定來校正所述第一電子束的位置，以便使根據(jù)所述模型的所需第一電子束位置與實(shí)際的第一電子束位置對(duì)準(zhǔn)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括以下步驟:在查找表中儲(chǔ)存所述第一電子束源和第二電子束源中的所述至少一種設(shè)定的每種組合的位置校正值。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述位置校正值是通過實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述位置校正值是通過模擬產(chǎn)生的。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述電子束源設(shè)定包含以下中的至少一項(xiàng):用于使所述電子束或所述束功率中至少一者偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的至少一個(gè)束源線圈的線圈電流、用于使所述電子束偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的靜電透鏡或用于使所述電子束偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的靜電板。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括以下步驟: 記錄第一電子束與第二電子束之間的距離； 記錄所述第一電子束與第二電子束的電子束電流； 調(diào)整所述第一電子束在所述粉層上的位置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定；和 調(diào)整所述第二電子束在所述粉層上的位置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中重復(fù)權(quán)利要求7中所述的步驟直到所述第一電子束與第二電子束的實(shí)際位置在距離所述第一電子束與第二電子束的所需位置的預(yù)定值以內(nèi)。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，還包括以下步驟:僅在所述第一束與第二束之間的距離比預(yù)定值更相互接近時(shí)才進(jìn)行所述調(diào)整。10.一種通過連續(xù)熔化粉床的部分來形成三維物品的裝置，所述部分對(duì)應(yīng)于所述三維物品的連續(xù)橫截面，所述裝置包含: 所述三維物品的電學(xué)產(chǎn)生的模型； 粉末分配器，其配置成用以在工作臺(tái)上提供第一粉層； 至少一個(gè)控制裝置，其配置成用以: 在所述工作臺(tái)上自第一電子束源引導(dǎo)第一電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第一選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的第一橫截面的第一部分； 在所述工作臺(tái)上自第二電子束源引導(dǎo)第二電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第二選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的所述第一橫截面的第二部分； 記錄所述第一電子束源的至少一種設(shè)定；和 記錄所述第二電子束源的至少一種設(shè)定；和 校正裝置，其配置成用以根據(jù)所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定和所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定來校正所述第二電子束的位置，以便使根據(jù)所述模型的所需第二電子束位置與實(shí)際的第二電子束位置對(duì)準(zhǔn)。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述至少一種控制裝置包含至少第一控制裝置和第二控制裝置，所述第一控制裝置配置成用以引導(dǎo)所述第一電子束且所述第二控制裝置配置成用以弓I導(dǎo)所述第二電子束。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，還包含儲(chǔ)存裝置用以儲(chǔ)存所述第一電子束源與第二電子束源中所述至少一種設(shè)定的每種組合的位置校正值。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中所述電子束源設(shè)定包含以下中的至少一項(xiàng):用于使所述電子束或所述束功率中至少一者偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的至少一個(gè)束源線圈的線圈電流、用于使所述電子束偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的靜電透鏡或用于使所述電子束偏轉(zhuǎn)或成形中至少一種的靜電板。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述至少一種控制裝置進(jìn)一步經(jīng)配置成用以: 記錄第一電子束與第二電子束之間的距離； 記錄所述第一電子束與第二電子束的電子束電流； 調(diào)整所述第一電子束在所述粉層上的位置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定；和 調(diào)整所述第二電子束在所述粉層上的位置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置，其中重復(fù)權(quán)利要求14中所述的步驟直到所述第一電子束與第二電子束的實(shí)際位置在距離所述第一電子束與第二電子束的所需位置的預(yù)定值以內(nèi)。16.一種通過連續(xù)熔化粉床的部分來形成三維物品的裝置，所述部分對(duì)應(yīng)于所述三維物品的連續(xù)橫截面，所述裝置包含: 所述三維物品的計(jì)算機(jī)模型； 粉末分配器，其配置成用以在工作臺(tái)上提供第一粉層； 控制裝置，其配置成用以在所述工作臺(tái)上自第一電子束源引導(dǎo)第一電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第一選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的第一橫截面的第一部分； 控制裝置，其配置成用以在所述工作臺(tái)上自第二電子束源引導(dǎo)第二電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第二選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的所述第一橫截面的第二部分； 控制裝置，其配置成用以記錄所述第一電子束源的至少一種設(shè)定； 控制裝置，其配置成用以記錄所述第二電子束源的至少一種設(shè)定；和 校正裝置，其配置成用以根據(jù)所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定和所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定來校正所述第二電子束的位置，以便使根據(jù)所述模型的所需第二電子束位置與實(shí)際的第二電子束位置對(duì)準(zhǔn)。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置，其中所述配置成用以引導(dǎo)所述第一電子束的控制裝置和所述配置成用以引導(dǎo)所述第二電子束的控制裝置是同一裝置。18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置，其中: 所述配置成用以記錄所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定的控制裝置和所述配置成用以引導(dǎo)所述第一電子束的控制裝置是同一裝置；且 所述配置成用以記錄所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定的控制裝置和所述配置成用以引導(dǎo)所述第二電子束的控制裝置是同一裝置。19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置，還包含: 配置成用以記錄第一電子束與第二電子束之間的距離的控制裝置； 配置成用以記錄所述第一電子束與第二電子束的電子束電流的控制裝置； 配置成用以調(diào)整所述第一電子束在所述粉層上的位置的控制裝置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定；和 至少一個(gè)配置成用以調(diào)整所述第二電子束在所述粉層上的位置的控制裝置，其中所述調(diào)整視所述第一電子束與第二電子束之間的距離和所述第一束與所述第二束的束電流而定。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中所述至少一種控制裝置配置成用以重復(fù)權(quán)利要求19中所述的步驟直到所述第一電子束與第二電子束的實(shí)際位置在距離所述第一電子束與第二電子束的所需位置的預(yù)定值以內(nèi)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種形成三維物品的方法，包括以下步驟：采用所述三維物品的模型，在工作臺(tái)上涂敷第一粉層，在所述工作臺(tái)上自第一電子束源引導(dǎo)第一電子束，導(dǎo)致所述第一粉層在第一選定位置處根據(jù)所述模型熔化而形成所述三維物品的第一橫截面，在所述工作臺(tái)上自第二電子束源引導(dǎo)第二電子束，記錄所述第一電子束源的至少一種設(shè)定，記錄所述第二電子束源的至少一種設(shè)定，根據(jù)所述第一電子束源的所述至少一種設(shè)定和所述第二電子束源的所述至少一種設(shè)定來校正所述第二電子束的位置。
【IPC分類】B22F3/105
【公開號(hào)】CN105339114
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480036432
【發(fā)明人】U·勒君布拉德
【申請(qǐng)人】阿卡姆股份有限公司
【公開日】2016年2月17日
【申請(qǐng)日】2014年6月10日
【公告號(hào)】EP3013501A1, US20150004045, WO2014206720A1