掩模板30的光阻膜層42與金屬支撐層41之間緊密貼合，光阻膜層42的開(kāi)口單元311與金屬支撐層41的窗口結(jié)構(gòu)410相對(duì)應(yīng)，即如圖12所示，每個(gè)由開(kāi)口結(jié)構(gòu)420構(gòu)成的開(kāi)口單元311與相應(yīng)窗口結(jié)構(gòu)410的位置相對(duì)應(yīng)。金屬支撐層41的支撐條411均設(shè)置在光阻膜層42上相鄰兩開(kāi)口單元311之間形成的間隙312上，如圖9、12所示，支撐條411的位置與開(kāi)口單元311之間的間隙312位置相對(duì)應(yīng)。支撐條411的寬度與光阻膜層42上相鄰兩開(kāi)口單元311之間形成的間隙312寬度相適應(yīng)，且金屬支撐層41不會(huì)對(duì)光阻膜層42的開(kāi)口結(jié)構(gòu)420形成遮擋，如圖12所示，支撐條411的寬度d4不大于相對(duì)應(yīng)的相鄰兩開(kāi)口單元311之間間隙312的寬度d2。
[0040]作為一具體實(shí)施例，磁性掩模板的掩模層上開(kāi)口單元311與金屬支撐層41的鏤空窗口均形成4*3的陣列，具體如圖10、圖11所示，開(kāi)口單元311的位置--與窗口結(jié)構(gòu)410
的位置相對(duì)應(yīng)。
[0041]圖13至圖17所展示的為采用本發(fā)明所提供技術(shù)方案制作的另一種不同磁性掩模板的實(shí)施例示意圖。其中，圖13所示為磁性掩模板的整體示意圖；圖14為圖13中I部分的放大示意圖；圖15為圖14中B-B方向的截面示意圖；圖16為圖14反面的示意圖；圖17為另一種結(jié)構(gòu)相似的示意圖。
[0042]如圖14-圖16所展示，本實(shí)施例中磁性掩模板金屬支撐層41的窗口結(jié)構(gòu)410與光阻膜層42的開(kāi)口結(jié)構(gòu)420為對(duì)應(yīng)關(guān)系，即每個(gè)窗口結(jié)構(gòu)410內(nèi)部設(shè)置有一個(gè)開(kāi)口結(jié)構(gòu)420，且整體構(gòu)成呈陣列排布。
[0043]不同于圖14-圖16所示，圖17所示實(shí)施例中的每個(gè)窗口結(jié)構(gòu)410內(nèi)部設(shè)置有兩個(gè)個(gè)開(kāi)口結(jié)構(gòu)420。
[0044]基于以上，采用本發(fā)明所提供的技術(shù)方案制作的掩模板結(jié)構(gòu)亦可以為一個(gè)窗口結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)3個(gè)開(kāi)口結(jié)構(gòu)420，甚至一個(gè)窗口結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)更多的開(kāi)口結(jié)構(gòu)420。
[0045]圖18所示為采用本發(fā)明磁性掩模板進(jìn)行蒸鍍有機(jī)材料的示意圖，在密封腔室中，裝配在外框12上的掩模板30通過(guò)外框12固定在固定機(jī)構(gòu)81上，掩模板30上部設(shè)置有待蒸鍍的基板80，下部設(shè)置有有機(jī)蒸鍍?cè)?2，有機(jī)蒸鍍?cè)?2中的有機(jī)材料通過(guò)蒸發(fā)擴(kuò)散到腔室內(nèi)部，擴(kuò)散的有機(jī)材料在經(jīng)過(guò)掩模板30的鏤空開(kāi)口沉積到基板80上形成有機(jī)發(fā)光層。一般基板背后設(shè)置有磁性吸附裝置。
[0046]本發(fā)明所涉及的掩模板保留有金屬層結(jié)構(gòu)，其具備傳統(tǒng)掩模板的磁性，在后期應(yīng)用過(guò)程中，可被基板背后的磁性吸附設(shè)備吸附，可進(jìn)一步減小掩模板的下垂量。
[0047]另外，根據(jù)本專利【背景技術(shù)】中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，傳統(tǒng)掩模板的構(gòu)成材質(zhì)全部為金屬合金，本發(fā)明提供了一個(gè)完全不同于現(xiàn)有蝕刻工藝制作掩模板的方法，通過(guò)該方法制作的磁性掩模板具有以下優(yōu)勢(shì):由于有金屬掩模支撐層的作用，可以將構(gòu)成掩模板的有機(jī)掩模層做的很薄，如此在保證掩模層開(kāi)口具有較小高寬比的前提下，進(jìn)一步將開(kāi)口的寬度尺寸做的更小，從而使得形成的最終磁性掩模板能夠蒸鍍形成分辨率更高的OLED產(chǎn)品。
[0048]具體而言，通過(guò)本發(fā)明制作的掩模板最終決定有機(jī)材料沉積效果為光阻膜層42的開(kāi)口結(jié)構(gòu)420，由于光阻具有有機(jī)材質(zhì)的特性，其比較容易實(shí)現(xiàn)“輕薄”化。由于具有“輕”的特性，處于其下方的金屬支撐層41易于實(shí)現(xiàn)對(duì)其支撐；而“薄”的特征，使得設(shè)置于其上的開(kāi)口結(jié)構(gòu)42能夠較為容易實(shí)現(xiàn)小尺寸開(kāi)口設(shè)計(jì)。
[0049]本發(fā)明
【發(fā)明內(nèi)容】
中“蒸鍍用磁性掩模板”、“磁性掩模板”、“掩模板”系為同一概念；本發(fā)明中，需要注意的是，光阻、感光膜為兩個(gè)不同的概念，雖然其均為具有感光特性的材質(zhì)，但相比較而言，曝光后的光阻比曝光后的感光膜具有更為穩(wěn)定的性能，光阻在曝光后是作為永久性材料使用的，其不容易被外界損壞，而感光膜僅為蝕刻輔助材料。
[0050]另外，任何提及“一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說(shuō)明書(shū)各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。
[0051]盡管參照本發(fā)明的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開(kāi)、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其包括以下步驟: 51、金屬支撐層電鑄制作，制作具有一定厚度的金屬支撐層，所述金屬支撐層上設(shè)置有特定的窗口結(jié)構(gòu)，所述金屬支撐層是采用電鑄工藝制作的，所述電鑄工藝包括:S11、基板準(zhǔn)備，選取表面潔凈平整的電鑄沉積基板；S12、貼膜，在沉積基板的一表面壓貼或涂覆一層感光膜形成感光膜層；S13、曝光，對(duì)S12中的感光膜層特定區(qū)域進(jìn)行曝光，其感光膜層曝光的區(qū)域?yàn)樗龃翱诮Y(jié)構(gòu)所在區(qū)域，所述窗口結(jié)構(gòu)外的其它區(qū)域的感光膜未被曝光；S14、顯影，對(duì)經(jīng)過(guò)S13步驟曝光處理后的感光膜層進(jìn)行顯影處理，將未被曝光區(qū)域的感光膜去除，形成待電鑄沉積區(qū)域；S15、電鑄，將顯影處理后的電鑄沉積基板置于電鑄槽中電鑄成型，形成具有窗口結(jié)構(gòu)的金屬支撐層； 52、金屬支撐層表面覆膜，在具有窗口結(jié)構(gòu)的所述金屬支撐層一表面覆上一層具有一定厚度的光阻形成光阻膜層； 53、光阻膜層曝光，在所述金屬支撐層具有光阻膜層的一面進(jìn)行曝光處理，對(duì)預(yù)設(shè)區(qū)域進(jìn)行曝光，在所述光阻膜層上形成光阻曝光區(qū)域和光阻非曝光區(qū)域； 54、光阻膜層顯影，通過(guò)顯影將S3步驟中光阻非曝光區(qū)域內(nèi)的光阻去除，保留光阻曝光區(qū)域的光阻，顯影后形成具有開(kāi)口結(jié)構(gòu)的光阻膜層構(gòu)成所述蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的掩模層； 其特征在于，所述金屬支撐層及所述具有開(kāi)口結(jié)構(gòu)的光阻膜層構(gòu)成所述復(fù)合磁性掩模板，所述掩模層上形成的開(kāi)口結(jié)構(gòu)與所述S3步驟中的光阻非曝光區(qū)域相對(duì)應(yīng)，所述掩模層上形成的開(kāi)口結(jié)構(gòu)處于所述金屬支撐層的窗口結(jié)構(gòu)內(nèi)部，所述金屬支撐層上的每個(gè)窗口結(jié)構(gòu)內(nèi)部至少具有一個(gè)所述開(kāi)口結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述SI金屬支撐層電鑄制作中S15電鑄步驟之后還包括:褪膜步驟，將所述金屬支撐層進(jìn)行褪膜處理，將所述金屬支撐層窗口結(jié)構(gòu)內(nèi)部的感光膜全部去除。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述褪膜步驟之前或之后還包括:剝離步驟，將所述金屬支撐層從所述電鑄沉積基板上剝離開(kāi)來(lái)。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述S4光阻膜層顯影步驟之后還包括:剝離步驟，將所述蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的掩模層從所述電鑄沉積基板上剝離開(kāi)來(lái)。5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述S4光阻膜層顯影步驟之后還包括:烘烤固化步驟，將經(jīng)過(guò)S4光阻膜層顯影步驟后形成所述復(fù)合磁性掩模板置于烤箱中進(jìn)行烘烤固化。6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述光阻膜層的厚度不大于所述金屬支撐層的厚度。7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述S15電鑄步驟中，所述電鑄形成的金屬支撐層厚度大于所述S12貼膜步驟中的感光干膜厚度，形成的所述金屬支撐層具有收縮型的窗口結(jié)構(gòu)。8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述金屬支撐層上的所述窗口結(jié)構(gòu)為陣列方式排布。9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述S2金屬支撐層表面覆膜步驟中是采用光阻干膜進(jìn)行壓覆成型方式或光阻濕膜涂覆成型方式進(jìn)行覆膜的。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法，其特征在于，所述金屬支撐層的厚度范圍為:20-60 μπι;所述掩模層的厚度范圍為:2-20 μπι;所述掩模層上形成的所述開(kāi)口結(jié)構(gòu)的尺寸范圍為15-40 μπι。
【專利摘要】一種蒸鍍用復(fù)合磁性掩模板的制作方法。本發(fā)明提供了一個(gè)完全不同于現(xiàn)有蝕刻工藝制作掩模板的方法，該方法包括：S1、金屬支撐層電鑄制作，S2、金屬支撐層表面覆膜，S3、光阻膜層曝光，S4、光阻膜層顯影；通過(guò)該方法制作的磁性掩模板，可以將構(gòu)成掩模板的有機(jī)掩模層做的很薄，進(jìn)一步將開(kāi)口的寬度尺寸做的更小，從而使得形成的最終磁性掩模板能夠蒸鍍形成分辨率更高的OLED產(chǎn)品，同時(shí)兼具電鑄高精度的特性。
【IPC分類】C23C14/04
【公開(kāi)號(hào)】CN105220110
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510678505
【發(fā)明人】魏志凌
【申請(qǐng)人】昆山允升吉光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月6日
【申請(qǐng)日】2015年10月20日