一種高溫琺瑯表盤的矯形組件及使用其矯形的矯形方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及琺瑯工藝領(lǐng)域，特別是涉及一種高溫琺瑯表盤的矯形組件及使用其矯形的矯形方法。
【背景技術(shù)】
[0002]琺瑯是一門將釉料附著在金屬表面燒制的工藝，將一種玻璃質(zhì)的釉附著在金屬表面而制成的工藝品叫做琺瑯器。這種釉料主要都是以石英、長石、硝石和碳酸鈉等加上鉛和錫等氧化物燒制而成。因其由礦物質(zhì)熔煉而成，具備礦物質(zhì)不透氣、不會(huì)滲水等性能以及質(zhì)地堅(jiān)硬的優(yōu)點(diǎn)，并具有寶石般的獨(dú)特光澤與透明感，最重要的是這種材質(zhì)歷久彌新、不會(huì)氧化褪色。即使經(jīng)過上百年，琺瑯明亮的色彩也不會(huì)退卻。因此，琺瑯工藝也被當(dāng)作高檔裝飾工藝應(yīng)用于鐘表產(chǎn)品上，尤其是用來制作表盤。琺瑯表盤是集裝飾性和功能性于一體的鐘表配件，一方面，通過高溫?zé)片m瑯工藝獲得良好的裝飾藝術(shù)效果；另一方面，琺瑯表盤需要能滿足鐘表裝配要求。
[0003]目前，琺瑯工藝主要應(yīng)用在有較大體量、對(duì)變形控制要求不嚴(yán)的金屬工藝品上，然而對(duì)于應(yīng)用在表盤上則面臨著極高的技術(shù)難度，因?yàn)橹谱鬟^程中要經(jīng)過掐絲、焊接、填釉、燒制、打磨、拋光、電鍍等多道工序，每道工序內(nèi)又存在多個(gè)環(huán)節(jié)，幾乎每一步都可能出現(xiàn)問題，稍不小心可能導(dǎo)致整個(gè)制作工程前功盡棄。在藝術(shù)效果方面，每一步都有可能出現(xiàn)釉面斷裂，或顏色發(fā)生變化的危險(xiǎn)。除要求琺瑯面的藝術(shù)效果外，還必須滿足裝配要求，尤其是機(jī)械表，對(duì)表盤的直徑、平面度、卡腳、中心孔等都有非常嚴(yán)格的尺寸公差要求。通常的手表表盤都是利用沖壓成型的，可以較好地滿足裝配要求。但是，由于琺瑯表盤是在高溫下燒制而成的，而它的厚度又非常薄，在燒制過程中難免產(chǎn)生變形，最常見的變形就是表盤面產(chǎn)生大的撓曲，導(dǎo)致表針裝不下去，或者表針與表盤面卡在一起。出現(xiàn)變形時(shí)必須回爐重?zé)笤僬巍Ｓ捎诂m瑯是非常脆的玻璃質(zhì)，只有在其處于高溫塑性階段才能整形，一旦溫度降至彈性區(qū)和剛性區(qū)，就不能再整形，否則必然導(dǎo)致琺瑯面破裂。出現(xiàn)琺瑯面破裂時(shí)，只有再回爐重?zé)?，?jīng)過多次反復(fù)，琺瑯面的顏色和透亮度將明顯劣化，影響其裝飾效果。正是由于這種突出的技術(shù)難度，高溫琺瑯表盤的生產(chǎn)過程往往難以遇見和穩(wěn)定，每獲得一件成功的作品，可能要面臨數(shù)倍的廢品。為此，行業(yè)內(nèi)出現(xiàn)了以環(huán)氧樹脂和色料在60°C?70°C固化的所謂“冷琺瑯”表盤，它不會(huì)發(fā)生變形，也可以形成多種色彩效果，但是表面的光澤度和耐候性與真正的高溫琺瑯相去甚遠(yuǎn)。
[0004]以往在制作高溫琺瑯表盤時(shí)，由于表盤的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不夠合理，導(dǎo)致燒制過程中表盤的變形量過大，而使用的整形手段又非常簡(jiǎn)陋，一般采用如下方法:先將表盤從高溫爐中取出，將其放置在鋼塊上，再將另一塊鋼塊壓在琺瑯表盤上，用手或手動(dòng)壓力機(jī)壓在上面的鋼塊上。這種方法的效果很差，因?yàn)楸肀P很薄，放到鋼塊上時(shí)散熱非?？?，當(dāng)對(duì)上鋼塊加壓時(shí)，表盤的溫度已經(jīng)降低了，很容易將琺瑯面壓裂。而且對(duì)于表盤中心的凸起變形，采用這種方法時(shí)，即使操作迅速流暢，整平的效果也是不好的。一般從高溫爐內(nèi)將表盤取出后放在一塊鋼板上，再拿另一塊鋼板去壓平，期間要經(jīng)歷不短的時(shí)間，琺瑯面很快降溫，整形效果很差，廢品率很高。因此，亟待一種提高整平效果的高溫琺瑯表盤的矯形組件及使用其矯形的矯形方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為解決上述問題，本發(fā)明提供一種減少燒制變形量、縮短工序并能提高表盤整平效果的高溫琺瑯表盤的矯形組件及使用其矯形的矯形方法。
[0006]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
一種高溫法狼表盤的矯形組件，包括燒制法狼表盤時(shí)用于托住表盤的表盤托架及用于表盤矯形的矯形胎具，矯形胎具包括承接座、大壓頭和小壓頭，承接座的中部設(shè)有用于夾持的夾持位，夾持位的上面設(shè)有表盤底座及下面設(shè)有中心底座，表盤底座表面設(shè)有用于放置琺瑯表盤的上放置位，中心底座的表面設(shè)有用于放置琺瑯表盤的下放置位，上放置位和大壓頭相配合用于琺瑯表盤矯形，下放置位和小壓頭相配合用于琺瑯表盤中心區(qū)域矯形。
[0007]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，在上放置位和下放置位內(nèi)均可設(shè)置依據(jù)琺瑯表盤尺寸進(jìn)行更換的調(diào)節(jié)圈，調(diào)節(jié)圈與上放置位和下放置位配合均為間隙配合。
[0008]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，在中心底座的中心處設(shè)有小孔，在表盤底座的中心處設(shè)有大孔，小孔和大孔與夾持位的中心連通。
[0009]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，夾持位為一中空的柱筒，大孔直徑等于柱筒內(nèi)壁直徑。
[0010]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，上放置位為一凹槽設(shè)于表盤底座內(nèi)，下放置位為一凹槽設(shè)于中心底座內(nèi)，表盤底座及中心底座的最大外徑大于夾持位的最大外徑。
[0011]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，表盤托架包括底座及在底座上均勻設(shè)置的若干支撐爪，支撐爪的頂端為同在一平面并保證平面度的接觸點(diǎn)。
[0012]一種使用高溫琺瑯表盤的矯形組件矯形的矯形方法，包括以下步驟:
1)、將承接座中設(shè)有下放置位的中心底座朝上放置；
2)、將小壓頭安裝在手動(dòng)壓力機(jī)上，校核小壓頭與承接座之間的垂直度和平面度，并在載物臺(tái)上設(shè)置用于定位承接座的定位擋塊；
3 )、將填好釉料的琺瑯表盤平整放置于表盤托架上，調(diào)節(jié)平整，放入高溫爐中燒制，燒制時(shí)間完成后，取出；
4)、將琺瑯表盤放置在位于中心底座的下放置位上，將承接座與需要燒制的琺瑯表盤一起隨爐加熱；
5)、燒制時(shí)間完成后，夾持夾持位并將承接座放到載物臺(tái)上，利用定位擋塊定位后，迅速按下小壓頭將琺瑯表盤的中心區(qū)域整平；
6)、將琺瑯表盤取出，迅速翻轉(zhuǎn)承接座，使設(shè)有上放置位的表盤底座朝上放置；
7)、將大壓頭裝在手動(dòng)壓力機(jī)上，校核大壓頭與承接座之間的垂直度和平面度，并在載物臺(tái)上設(shè)置用于定位承接座的定位擋塊；
8 )、放置琺瑯表盤于上放置位上，夾持承接座與需要燒制的琺瑯表盤一起隨爐加熱；9)、燒制時(shí)間完成后，夾持夾持位并將承接座放到載物臺(tái)上，利用定位擋塊定位，迅速按下大壓頭將琺瑯表盤的盤面整平。
[0013]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟I)和步驟4)中的下放置位上可放置根據(jù)琺瑯表盤的尺寸設(shè)置的相應(yīng)的調(diào)節(jié)圈，步驟6)和步驟8)中的上放置位上可放置根據(jù)琺瑯表盤的尺寸設(shè)置的相應(yīng)的調(diào)節(jié)圈。
[0014]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟3)中燒制完成后，將表盤托架置于耐火板上，用玻璃燒杯罩住冷卻。
[0015]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟7)可在另一臺(tái)手動(dòng)壓力機(jī)上實(shí)施并可與步驟2)同步操作。
[0016]本發(fā)明的有益效果:此高溫琺瑯表盤的矯形組件及使用其矯形的矯形方法，將琺瑯表盤置于表盤托架上，減少了燒制過程中的翹曲變形，針對(duì)表盤中心區(qū)域設(shè)置小壓頭，針對(duì)整個(gè)表盤設(shè)置大壓頭，按照先壓中心區(qū)域再壓整個(gè)琺瑯表盤的順序進(jìn)行整形，改進(jìn)了表盤整形的流程，縮短工序環(huán)節(jié)，提高了整形效率。整形時(shí)，將承接座與需要燒制的琺瑯表盤一起進(jìn)爐加熱，延緩了琺瑯表盤的降溫速度，保證表盤在整形壓平操作時(shí)還處于高溫塑性階段，有效減少了整形導(dǎo)致琺瑯層破裂的風(fēng)險(xiǎn)。
【附圖說明】
[0017]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明:
圖1是本發(fā)明實(shí)施例所述支撐座整體結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明實(shí)施例所述大壓頭整體結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是本發(fā)明實(shí)施例所述小壓頭整體結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是本發(fā)明實(shí)施例所述表盤托架主視圖；
圖5是本發(fā)明實(shí)施例所述表盤托架俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]以下將結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果進(jìn)行清楚、完整地描述，以充分地理解本發(fā)明的目的、特征和效果。顯然，所描述的實(shí)施例只是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例，基于本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的其他實(shí)施例，均屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0019]參照?qǐng)D1?圖5，本發(fā)明為一種高溫琺瑯表盤的矯形組件，包括燒制琺瑯表盤時(shí)用于托住表盤的表盤托架8及用于表盤矯形的矯形胎具，矯形胎具包括承接座1、大壓