用于打磨金屬帶的裝置和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于打磨金屬帶的裝置，包括打磨裝置、作用到打磨裝置上的擠壓裝置、用于測(cè)量金屬帶的厚度/表面的測(cè)量裝置以及驅(qū)動(dòng)裝置，所述擠壓裝置具有至少一個(gè)擠壓馬達(dá)，用于使打磨裝置移向/壓向所述金屬帶，所述測(cè)量裝置沿金屬帶/打磨裝置的運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置在打磨裝置的前面，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于使金屬帶相對(duì)于打磨裝置運(yùn)動(dòng)和/或相反。此外，本發(fā)明涉及一種用于打磨金屬帶的方法，其中，在打磨金屬帶之前測(cè)量金屬帶的厚度/表面，使打磨裝置移向/壓向所述金屬帶和/或相反，并且金屬帶在其縱向上相對(duì)于打磨裝置運(yùn)動(dòng)和/或相反。
【背景技術(shù)】
[0002]所述類型的布置系統(tǒng)和方法原理上是已知的。例如AT 505 640A1為此公開(kāi)了一種方法，其中通過(guò)打磨裝置對(duì)金屬帶進(jìn)行打磨，此后借助于測(cè)量裝置測(cè)量金屬帶的厚度。如果所實(shí)現(xiàn)的結(jié)果不能令人滿意，則再次打磨金屬帶，并且接著重新在其厚度方面對(duì)其進(jìn)行測(cè)量。重復(fù)這個(gè)過(guò)程，直到金屬帶具有希望的厚度。這種加工過(guò)程例如在制造(高光澤拋光)的不銹鋼制成的環(huán)形帶時(shí)完成。這種布置系統(tǒng)或方法的不利之處在于，在這種已知的方法中，在不必進(jìn)行去材(Abtrag)的位置，在一些情況下將打磨裝置從金屬帶上抬起并且在重新放置時(shí)會(huì)磨出凹坑。這當(dāng)然不利于實(shí)現(xiàn)金屬帶厚度希望的均勻化。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]因此，本發(fā)明的目的是，給出一種用于打磨金屬帶的改進(jìn)的布置系統(tǒng)和改進(jìn)的方法。特別是在打磨之后金屬帶應(yīng)基本上沒(méi)有不平度，并且打磨過(guò)程應(yīng)較為快速地進(jìn)行。
[0004]根據(jù)本發(fā)明的目的通過(guò)前面所述類型的布置系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，其中:
[0005]設(shè)有與測(cè)量裝置和所述至少一個(gè)擠壓馬達(dá)連接的控制/調(diào)節(jié)裝置，所述控制/調(diào)節(jié)裝置設(shè)置成用于根據(jù)所確定的厚度/表面執(zhí)行打磨裝置的運(yùn)動(dòng)和擠壓，但當(dāng)由于所確定的厚度/表面(以及考慮到所選擇的預(yù)定去材量)本身不需要進(jìn)行打磨時(shí)，打磨裝置向金屬帶的擠壓力不會(huì)降低到低于最小值。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的目的還通過(guò)前面所述類型的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，其中:
[0007]根據(jù)所確定的厚度/表面執(zhí)行打磨裝置的運(yùn)動(dòng)和擠壓，但當(dāng)由于所確定的厚度/表面(以及考慮到所選擇的理論去材量)本身不需要進(jìn)行打磨時(shí)，將打磨裝置壓向金屬帶的擠壓力不會(huì)降低到低于最小值。
[0008]由此，金屬帶在打磨過(guò)程之后具有基本上均勻的高度分布/粗糙度分布，或者打磨過(guò)程也可以在較短的時(shí)間的完成，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的方法相比，由于所設(shè)定的措施通常以較少的打磨過(guò)程就能實(shí)現(xiàn)令人滿意的結(jié)果。在打磨金屬帶時(shí)，擠壓馬達(dá)通過(guò)控制/調(diào)節(jié)裝置根據(jù)所確定的實(shí)際高度/粗糙度分布操控。具體而言，提高在金屬帶的具有大的高度或粗糙度的位置上的擠壓力。相應(yīng)地，在金屬帶的相對(duì)于預(yù)定平面較低或者具有小粗糙度的位置，降低擠壓力。但向金屬帶對(duì)打磨裝置的擠壓在打磨過(guò)程中不會(huì)降低到低于能預(yù)先規(guī)定的(正的)最小值。就是說(shuō)，即使當(dāng)由于所確定的厚度/表面本身而不需要打磨時(shí)，打磨裝置也被壓向金屬帶。換而言之，這意味著，金屬帶在本身已經(jīng)過(guò)低的位置處也打磨金屬帶。初看，這似乎時(shí)不合理的，因?yàn)槭菇饘賻У暮穸染鶆蚧∏∈贡景l(fā)明的目的。所選擇的處理方式會(huì)導(dǎo)致，已經(jīng)存在的凹谷會(huì)被磨削得更深，但確避免了形成凹坑，所述凹坑通常在從金屬帶上抬起打磨裝置并重新將其放置到金屬帶上時(shí)出現(xiàn)。此外，還使凹谷中的表面平整化，由此使得在下面的打磨工序中的打磨過(guò)程變得容易。最新的研究表明，與所述形成凹坑相比，將已經(jīng)存在的凹谷磨削得更深對(duì)于打磨結(jié)果的不利影響較小，或者通過(guò)所述平整化甚至?xí)霈F(xiàn)正面的效果。在最終結(jié)果中，可以以較少的工序打磨出具有改進(jìn)的質(zhì)量塊的金屬帶，并且由此能夠快速打磨到均勻的厚度。
[0009]本發(fā)明其他有利的實(shí)施形式和改進(jìn)方案由從屬權(quán)利要求以及說(shuō)明書(shū)結(jié)合附圖得出。
[0010]有利的是，測(cè)量裝置包括至少一個(gè)超聲波傳感器。以這種方式可以快速和精確地測(cè)量金屬帶的厚度/表面。
[0011]有利的是，擠壓裝置包括至少一組擠壓馬達(dá)，每組擠壓馬達(dá)分別包括兩個(gè)串聯(lián)的并且在其驅(qū)動(dòng)形式上不同的擠壓馬達(dá)。由此，可以良好地滿足對(duì)于擠壓馬達(dá)的不同要求。例如第一擠壓馬達(dá)可以設(shè)定為用于粗調(diào)，而第二擠壓馬達(dá)相反設(shè)定為用于精調(diào)。
[0012]有利的還有，至少一個(gè)擠壓馬達(dá)構(gòu)造成液壓缸。液壓缸一方面可以產(chǎn)生較高的力，另一方面由此可以實(shí)現(xiàn)較大的移動(dòng)路程。
[0013]特別有利的是，至少一個(gè)擠壓馬達(dá)構(gòu)造成壓電感測(cè)器(Piezogeber)。以這種方式可以特別快速地調(diào)節(jié)擠壓裝置并由此調(diào)節(jié)打磨裝置。
[0014]特別有利的還有，擠壓裝置和/或打磨裝置包括至少一個(gè)能馬達(dá)式偏移的質(zhì)量塊。由此提供了另一種用力加載擠壓裝置和/或打磨裝置的可能性。
[0015]特別有利的是，打磨裝置具有打磨裝置具有多個(gè)能獨(dú)立操控的擠壓裝置，所述擠壓裝置作用到金屬帶的沿金屬帶的寬度延伸相互間隔開(kāi)的區(qū)域上。換而言之，打磨裝置或其擠壓裝置是分區(qū)的。以這種方式，打磨介質(zhì)(例如打磨帶、打磨滾輪)在各個(gè)分區(qū)中可以以不同的距離和強(qiáng)度壓向金屬帶。由此在一次工序中可以對(duì)金屬帶上的一個(gè)較寬的條帶的進(jìn)行打磨，而不必放棄單獨(dú)可調(diào)的去材量。
[0016]有利的還有，所提出的布置系統(tǒng)包括作用到打磨裝置的打磨介質(zhì)和/或金屬帶上的噴灑裝置。以這種方式可以清潔打磨裝置和金屬帶以除去污物或者也可以對(duì)其進(jìn)行冷卻。
[0017]在上面的情況下有利的是，打磨介質(zhì)構(gòu)造成打磨帶，并且第一噴灑裝置設(shè)置在用于打磨帶的驅(qū)動(dòng)滾輪的區(qū)域中和/或設(shè)置在用于打磨帶的轉(zhuǎn)向滾輪的區(qū)域中。這里特別有利的是，噴灑裝置與噴灑裝置所作用的驅(qū)動(dòng)滾輪/轉(zhuǎn)向滾輪的法線偏離一定角度地定向。以這種方式，可以特別好地從打磨帶上除去污物，因?yàn)樵隍?qū)動(dòng)滾輪/轉(zhuǎn)向滾輪的區(qū)域內(nèi)作用的離心力對(duì)清潔起輔助作用，
[0018]另外有利的是，噴灑裝置作用到金屬的沿金屬帶的運(yùn)動(dòng)方向直接設(shè)置在打磨裝置之前的區(qū)域上。以這種方式，金屬帶直接在打磨之前再次被清潔/冷卻。為了在加工位置之前避免出現(xiàn)污物，可以在第二噴灑裝置之后還設(shè)置刮除唇口。
[0019]此外特別有利的是，所述控制/調(diào)節(jié)裝置設(shè)置成，用于檢測(cè)擠壓裝置和/或打磨裝置的振動(dòng)并基本上以與所檢測(cè)到的振動(dòng)的相反相位致動(dòng)至少一個(gè)擠壓馬達(dá)和/或所述至少一個(gè)能馬達(dá)式偏移的masse。由于打磨裝置中基本上無(wú)法避免的振動(dòng)，盡管以上述方式致動(dòng)擠壓馬達(dá)，在最終結(jié)果中仍會(huì)出現(xiàn)高度分布的波形。為了進(jìn)一步改善打磨結(jié)果，現(xiàn)在可以設(shè)定，檢測(cè)擠壓裝置和/或打磨裝置的振動(dòng)并基本上以與所檢測(cè)到的振動(dòng)的相反相位致動(dòng)至少一個(gè)擠壓馬達(dá)和/或所述至少一個(gè)能馬達(dá)式偏移的質(zhì)量塊，從而能實(shí)現(xiàn)進(jìn)本上平直的高度分布。
[0020]在這種情況下特別有利的是，附加于擠壓裝置和/或打磨裝置的基本振動(dòng)，還將擠壓裝置和/或打磨裝置的至少一個(gè)諧振動(dòng)用于致動(dòng)所述擠壓馬達(dá)和/或所述至少一個(gè)能馬達(dá)式偏移的質(zhì)量塊。由此可以進(jìn)一步改進(jìn)打磨過(guò)程的結(jié)果。
[0021]有利的是，金屬帶和打磨裝置的打磨介質(zhì)在打磨時(shí)同向運(yùn)動(dòng)。由此保持打磨粉塵遠(yuǎn)離加工位置。
[0022]此外有利的是，在打磨時(shí)根據(jù)所確定的厚度/表面選擇切削速度。具體而言，相對(duì)于希望去材量低時(shí)的切削速度，可以提高在希望去材量高時(shí)的切削速度，并且反之亦然。切削速度通常通過(guò)金屬帶與打磨介質(zhì)之間的相對(duì)速度確定。
[0023]也有利的是，在打磨時(shí)，根據(jù)所確定的厚度/表面選擇金屬帶的速度。具體而言，相對(duì)于希望去材量低時(shí)的金屬帶速度，可以降低在希望去材量高時(shí)的金屬帶速度，并且反之亦然。金屬帶速度通常決定了金屬帶在打磨上的停留時(shí)間。
[0024]此外有利的是，對(duì)于打磨裝置的運(yùn)動(dòng)/擠壓考慮擠壓裝置的慣性。例如在基于所確定的實(shí)際高度分布/厚度分布/粗糙度分布進(jìn)行指示之前，已經(jīng)開(kāi)始改變所述運(yùn)動(dòng)/擠壓。就是說(shuō)，例如在凸峰/凹谷出現(xiàn)之前就已經(jīng)提高/降低了擠壓力，以便補(bǔ)償操控中的延遲以及也補(bǔ)償擠壓裝置的慣性，從而在凸峰/凹谷到達(dá)打磨裝置之前，就已經(jīng)施加了所選的壓力。
[0025]特別有利的還有，對(duì)于打磨裝置的運(yùn)動(dòng)/擠壓，考慮打磨裝置的打磨介質(zhì)的使用時(shí)間/所完成的打磨工作。如果打磨介質(zhì)長(zhǎng)時(shí)間或高強(qiáng)度地使用，則其打磨作用減弱，因此可以相對(duì)于處于新?tīng)顟B(tài)的打磨介質(zhì)略微提高擠壓力和/或略微降低預(yù)定去材量。特別是當(dāng)在打磨之前(一次性)確定實(shí)際高度分布/厚度分布/粗糙度分布并據(jù)此僅根據(jù)所確定的“地圖”控制打磨過(guò)程時(shí)，這種處理方式是特別有利的?？梢栽跀?shù)據(jù)庫(kù)中存儲(chǔ)并且在打磨期間相應(yīng)地調(diào)用