縱切面上，所述缺口的圖形為三角形或矩形。
[0037]優(yōu)選地，在本發(fā)明實施例中，掩膜板中的缺口可以通過以下原理進行設(shè)置，具體地，所述掩膜板還包括:第一切點、第二切點、第一延長線和第三交點，其中，第一切點是所述遮擋板縱切面上切線與所述側(cè)切面的交點，第二切點是所述遮擋板縱切面上切線與所述表面的交點，第一延長線是蒸鍍源中心與所述第一切點連線的延長線，第三交點是所述第一延長線與所述表面的交點，第二切點到所述開口的直線距離大于或等于第三交點到所述開口的直線距離。具體地，如圖4所示，在該掩膜板中，第一切點為xl，第二切點為x2，第一延長線為LI，第三交點為χ3，第二切點χ2到開口中心的直線距離m必定大于或等于第三交點x3到開口中心的直線距離η。
[0038]具體地，如圖5(a)所示，本發(fā)明所涉及的缺口的圖形可以為矩形，該缺口在基板垂直方向上的深度為矩形的寬a，在基板水平方向上的深度為矩形的長b。因此，在確定了該矩形缺口的寬a之后，根據(jù)該矩形缺口的寬a對應(yīng)的蒸鍍角A，可以確定矩形缺口的長b至少為a/tan A。
[0039]如圖5(b)所示，本發(fā)明所涉及的缺口的圖形可以為三角形，該缺口在基板垂直方向上的最大深度為三角形的一個直角邊C，在基板水平方向上的最大深度為三角形的另一個直角邊d。因此，在確定了該三角形的直角邊c之后，根據(jù)該直角邊c(該缺口在基板垂直方向上的最大深度)對應(yīng)的蒸鍍角B，可以確定該三角形的另一個直角邊d至少為c/tan B ο
[0040]一種較佳地的實施例，所述缺口的圖形為三角形，所述缺口在基板垂直方向上的最大深度為所述遮擋板的最小厚度。
[0041]如圖6(a)所示，為本發(fā)明實施例提供的一種最佳的缺口結(jié)構(gòu)，該缺口被挖掉的部分的圖形為三角形，考慮到該缺口的切割深度有限，因此，本發(fā)明中該缺口在基板垂直方向上的最大深度為所述遮擋板的最小厚度h，這樣，該缺口既能保證小于等于該最小厚度h對應(yīng)的所有蒸鍍角范圍內(nèi)的有機材料或金屬材料穿過所述缺口蒸鍍到基板上，又能保證不破壞該掩膜板的開口的大小，避免對形成的面板的尺寸的影響。
[0042]需要說明的是，在本發(fā)明實施例中，考慮到制作工藝存在偏差，因此，制作而成的掩膜板的缺口形狀并不是完全與預(yù)設(shè)的缺口形狀一致的，尤其是缺口的縱切面，并不一定是嚴(yán)格呈直線設(shè)置的，有可能會存在如圖6(b)所示的弧度。
[0043]優(yōu)選地，所述開口的預(yù)設(shè)形狀為矩形，所述開口的四個側(cè)切面與蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處均設(shè)置有所述缺口。所述掩膜板包括遮擋板，該遮擋板包含有若干個矩形的開口，每個開口由四個遮擋板厚度方向上側(cè)切面包圍而成。其中，矩形的尺寸根據(jù)所需的面板尺寸設(shè)定。該開口的每個遮擋板切面均設(shè)置有缺口。
[0044]優(yōu)選地，該掩膜板還包括外邊框，而且，為保證有同樣的膨脹形變，所述掩膜板的外邊框的材料與所述掩膜板的遮擋板的材料一致，均為熱膨脹系數(shù)比較小的不銹鋼金屬或者镲鐵合金。
[0045]一般情況下，所述掩膜板的外邊框的厚度要遠大于遮擋板的厚度，以在進行張網(wǎng)時起到支撐所述掩膜板的作用。
[0046]需要說明的是，上述所涉及的掩膜板可以有至少以下三種蒸鍍方式:
[0047]方式一:如圖7(a)所示，基板41在下，蒸鍍源42在上，掩膜板43位于兩者之間，蒸鍍源42向下噴射有機材料或金屬材料。
[0048]方式二:如圖7(b)所示，基板51在上，蒸鍍源52在下，掩膜板53位于兩者之間，蒸鍍源52向上噴射有機材料或金屬材料。
[0049]方式三:如圖7(c)所示，基板61垂直放置，蒸鍍源62位于其待蒸鍍膜層的一側(cè)，掩膜板63位于兩者之間，蒸鍍源62水平噴射有機材料或金屬材料。
[0050]下面介紹利用本發(fā)明所述的掩膜板制作而成的顯示面板，尤其是OLED顯示面板，其實，本發(fā)明所涉及的掩膜板的使用方法與現(xiàn)有技術(shù)類似，但是，由于本發(fā)明掩膜板的結(jié)構(gòu)不同于現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板的結(jié)構(gòu)，因此，制作而成的顯示面板的膜層相比現(xiàn)有技術(shù)，其良率提高很多，在一定程度上提高了顯示面板的生產(chǎn)良率，降低了生產(chǎn)開發(fā)成本。
[0051]如圖8所示，為本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖，該顯示面板包括:
[0052]基板71，利用上述掩膜板制作而成的膜層72，其中，所述膜層72 (矩形虛線所框面積)的面積大于未設(shè)置缺口的掩膜板制作而成的膜層73 (橢圓虛線所框面積)的面積，從而，使得邊緣區(qū)域的平坦化程度較高，能夠保證后續(xù)形成的金屬膜層(例如陰極)不發(fā)生斷裂，避免發(fā)生斷路。
[0053]此外，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括所述的顯示面板。所述顯示裝置可以為手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0054]另外，本發(fā)明實施例還提供了一種掩膜板的制備方法，應(yīng)用于分布有若干個預(yù)設(shè)形狀的開口的遮擋板中，其中，每個開口均由遮擋板厚度方向上側(cè)切面包圍而成，其實，這一開口的設(shè)置與現(xiàn)有技術(shù)類似，其重點在于本發(fā)明還在遮擋板厚度方向上的側(cè)切面設(shè)置有缺口，具體操作方法是:利用化學(xué)刻蝕或是激光切割工藝，在包圍所述開口的至少部分所述側(cè)切面與蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處上形成缺口，使得所述開口靠近基板一側(cè)的面積大于所述開口遠離基板一側(cè)的面積。
[0055]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0056]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種掩膜板，用于對基板進行蒸鍍，包括遮擋板，所述遮擋板上分布有若干個預(yù)設(shè)形狀的開口，每個開口均由遮擋板厚度方向上側(cè)切面包圍，其特征在于， 在包圍所述開口的至少部分所述側(cè)切面與蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處上設(shè)置有缺口，使得所述開口靠近基板一側(cè)的面積大于所述開口遠離基板一側(cè)的面積。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮擋板的縱切面上，所述缺口的圖形為三角形或矩形。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述缺口的最大深度小于或等于所述遮擋板的最小厚度。
4.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述預(yù)設(shè)形狀為矩形，在所述開口的4個側(cè)切面與所述蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處上都設(shè)置有缺口。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，還包括外邊框，其特征在于，所述掩膜板的外邊框和遮擋板的材料為不銹鋼金屬或者鎳鐵合金。
6.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于， 所述掩膜板還包括:第一切點、第二切點、第一延長線和第三交點，其中第一切點是所述遮擋板縱切面上切線與所述側(cè)切面的交點，第二切點是所述遮擋板縱切面上切線與所述表面的交點，第一延長線是蒸鍍源中心與所述第一切點連線的延長線，第三交點是所述第一延長線與所述表面的交點，第二切點到所述開口的直線距離大于或等于第三交點到所述開口的直線距離。
7.—種顯示面板，其特征在于，包括利用權(quán)利要求1-6任一所述的掩膜板制作而成的膜層。
8.—種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求7所述的顯示面板。
9.一種掩膜板的制備方法，應(yīng)用于分布有若干個預(yù)設(shè)形狀的開口的遮擋板，其中，每個開口均由遮擋板厚度方向上側(cè)切面包圍而成，其特征在于， 在包圍所述開口的至少部分所述側(cè)切面與蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處上形成缺口，使得所述開口靠近基板一側(cè)的面積大于所述開口遠離基板一側(cè)的面積。
10.如權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，利用刻蝕工藝形成所述缺口。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩膜板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，本發(fā)明通過對掩膜板進行改進，具體地，對掩膜板的每個開口的至少部分側(cè)切面與蒸鍍時靠近基板一側(cè)的表面的交界處設(shè)置有缺口，該缺口使用化學(xué)刻蝕或者激光切割方法實現(xiàn)，該缺口能夠使得蒸鍍時開口靠近基板一側(cè)的面積大于開口遠離基板一側(cè)的面積，從而，增大了基板上蒸鍍的膜層邊緣區(qū)域的面積，提升了邊緣區(qū)域的平坦化程度，避免了后續(xù)形成的金屬膜層由于臺階過高而發(fā)生斷裂的可能，提高了產(chǎn)品的良率。
【IPC分類】H01L27-32, C23C14-24, C23C14-04
【公開號】CN104862647
【申請?zhí)枴緾N201510242834
【發(fā)明人】馬利飛, 梁逸南, 皇甫魯江
【申請人】京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年8月26日
【申請日】2015年5月13日