溫棒引線分別與傳輸基板4上的四個(gè)銅盤電極6對應(yīng)連接；傳輸基板4上設(shè)置有四個(gè)銅盤電極6，四個(gè)銅盤電極6分別對應(yīng)低壓加熱電源兩極和熱電偶測溫兩極。
[0016]真空腔室I底部設(shè)置有四個(gè)旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7，旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7通過絕緣底座8固定安裝在真空腔室I底部，旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7包括兩組:其中一組為電源電極，另一組為測溫電極。
[0017]當(dāng)傳輸基板4到達(dá)一真空腔室I進(jìn)行鍍膜工作時(shí)，傳輸基板4的四個(gè)銅盤電極6與四個(gè)旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7對應(yīng)接觸進(jìn)行電連接，從而進(jìn)行待鍍面板實(shí)時(shí)溫度檢測和加熱的控制。使待鍍面板加熱和實(shí)時(shí)溫度檢測的成為現(xiàn)實(shí)，并在腔體內(nèi)不會產(chǎn)生磨擦粉塵。
[0018]真空腔室側(cè)壁預(yù)留的KF40 口處設(shè)置有KF40法蘭系列真空電極9，KF40法蘭系列真空電極9通過導(dǎo)線10與旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7相連；外部通過溫控器對加熱溫度進(jìn)行PID控制，在水平式連續(xù)磁控鍍膜機(jī)真空腔體內(nèi)部，根據(jù)傳輸基板4在真空腔室內(nèi)的運(yùn)行轉(zhuǎn)換位置的變化和檢測溫度的高低信號，對其進(jìn)行在線實(shí)時(shí)測，實(shí)時(shí)定位恒溫加熱。
[0019]作為優(yōu)選方案，所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述銅傳導(dǎo)板5與待鍍面板的接合面上開設(shè)有排氣槽和排氣孔。銅傳導(dǎo)板5與傳輸基板4連接處采用多個(gè)不銹鋼方塊支撐，使銅傳導(dǎo)板5與傳輸基板4之間留有間隙，這樣可以保證傳輸基板從大氣狀態(tài)進(jìn)入到真空狀態(tài)不存在溢氣現(xiàn)象，不會影響鍍膜真空。
[0020]作為優(yōu)選方案，所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述在線面板恒溫加熱裝置還包括鐵弗龍絕緣法蘭墊片11，銅盤電極6通過鐵弗龍絕緣法蘭墊片11進(jìn)行絕緣固定安裝在傳輸基板4上。本發(fā)明根據(jù)水平式連續(xù)磁控鍍膜機(jī)的特點(diǎn)，對真空腔室內(nèi)傳輸待鍍面板的傳輸基板4進(jìn)行改變，在該傳輸基板4做四個(gè)大面積銅盤電極，與傳輸基板4用鐵弗龍絕緣法蘭墊片做絕緣處理；四個(gè)銅盤電極6分別對應(yīng)低壓電源兩極和感溫檢測兩極。
[0021]本發(fā)明的工作過程如下:在鍍膜機(jī)開始生產(chǎn)時(shí)，鍍膜機(jī)將傳輸基板4傳送到進(jìn)料臺，把待鍍面板放置在傳輸基板4上的銅傳導(dǎo)板5上，機(jī)臺傳輸裝置輸送傳輸基板4和待鍍面板一同進(jìn)入真空腔室1，到達(dá)指定位置后，真空腔室底部的旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極7與傳輸基板4的銅盤電極6接通，這時(shí)加熱電源及測溫信號接通，根據(jù)測溫溫度，控制(正溫度系數(shù)熱敏電阻器)PTC恒溫低壓加熱元件進(jìn)行加熱控制，加熱均勻的銅傳導(dǎo)板5通過熱傳導(dǎo)方式對待鍍面板表面進(jìn)行熱處理；當(dāng)溫度達(dá)到工藝溫度后，機(jī)臺傳輸裝置輸送傳輸基板4到下一真空腔室，以同樣的方式進(jìn)行加熱控制，直到平板完成鍍膜工藝后，從真空腔內(nèi)送出產(chǎn)品。
[0022]本發(fā)明裝置與機(jī)臺完美配合，可實(shí)時(shí)待鍍面板基材進(jìn)行溫度監(jiān)測，并保證待鍍面板在真空腔室各腔內(nèi)轉(zhuǎn)換時(shí)保持恒溫，到達(dá)濺射磁控鍍膜區(qū)，待鍍面板達(dá)到合理工藝溫度，使鍍膜品質(zhì)大大提高。本加熱裝置采用高電流低電壓的方式來進(jìn)行加熱，加熱溫度區(qū)間在30-230度，可根據(jù)被鍍基材需要進(jìn)行溫度設(shè)定。采用高電流低電壓的方式，電壓在安全電壓以下，運(yùn)行過程中安全可靠。在實(shí)施中，通過在平板顯示面板鍍抗反射導(dǎo)電膜進(jìn)行驗(yàn)證，結(jié)果效果極佳，在可見光的透射率為97%以上，拆射率指數(shù)為1.0-1.25，面電阻為300歐姆。
[0023]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出:對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:包括真空腔室、工作平臺、傳輸導(dǎo)軌、傳輸基板、銅傳導(dǎo)板和銅盤電極；工作平臺設(shè)置在真空腔室內(nèi)部，工作平臺上平行設(shè)置有一對傳輸導(dǎo)軌，傳輸導(dǎo)軌滑動連接水平設(shè)置有用于傳輸待鍍面板的傳輸基板；傳輸基板上水平設(shè)置有銅傳導(dǎo)板，銅傳導(dǎo)板裝有內(nèi)嵌式熱電偶測溫棒和PTC恒溫低壓加熱元件，且PTC恒溫低壓加熱元件的電源引線和熱電偶測溫棒引線分別與傳輸基板上的銅盤電極對應(yīng)連接； 真空腔室底部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極，旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極包括兩組:其中一組為電源電極，另一組為測溫電極； 當(dāng)傳輸基板到達(dá)一真空腔室工作時(shí)，傳輸基板的銅盤電極與旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極對應(yīng)接觸進(jìn)行電連接，從而進(jìn)行待鍍面板實(shí)時(shí)溫度檢測和加熱的控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:真空腔室側(cè)壁預(yù)留的KF40 口處設(shè)置有KF40法蘭系列真空電極，KF40法蘭系列真空電極通過導(dǎo)線與旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述銅傳導(dǎo)板與待鍍面板的接合面上開設(shè)有排氣槽和排氣孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述銅傳導(dǎo)板與傳輸基板連接處采用多個(gè)不銹鋼方塊支撐，使銅傳導(dǎo)板與傳輸基板之間留有間隙，保證傳輸基板從大氣狀態(tài)進(jìn)入到真空狀態(tài)不會溢氣影響鍍膜真空。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述在線面板恒溫加熱裝置還包括絕緣底座，旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極通過絕緣底座固定安裝在真空腔室底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，其特征在于:所述在線面板恒溫加熱裝置還包括鐵弗龍絕緣法蘭墊片，銅盤電極通過鐵弗龍絕緣法蘭墊片進(jìn)行絕緣固定安裝在傳輸基板上。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種水平連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)在線面板恒溫加熱裝置，傳輸基板上水平設(shè)置有銅傳導(dǎo)板，銅傳導(dǎo)板裝有內(nèi)嵌式熱電偶測溫棒和PTC恒溫低壓加熱元件，且分別與傳輸基板上的銅盤電極對應(yīng)連接；真空腔室底部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極，旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極包括兩組：其中一組為電源電極，另一組為測溫電極；傳輸基板的銅盤電極與旋轉(zhuǎn)式導(dǎo)電輪電極對應(yīng)接觸進(jìn)行電連接時(shí)，進(jìn)行實(shí)時(shí)溫度檢測和加熱的控制。本發(fā)明克服了連續(xù)磁控濺射鍍膜在真空腔室內(nèi)對待鍍面板加熱難的問題，提高了被鍍顯示面板的透明導(dǎo)電膜，抗反射膜，高反射膜的鍍膜品質(zhì)。適合用于提高顯示面板透明導(dǎo)電膜，抗反射膜，高反射膜的鍍膜品質(zhì)。
【IPC分類】C23C14-56, C23C14-35
【公開號】CN104831247
【申請?zhí)枴緾N201510176977
【發(fā)明人】萬志, 黃國興
【申請人】赫得納米科技(昆山)有限公司
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2015年4月15日