一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種拋光工具，尤其是涉及可用于平面、球面、非球面光學(xué)晶體精密拋光或超精密拋光的一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭。
【背景技術(shù)】
[0002]盤形氣囊拋光頭是一種新型高精度、高效率的光學(xué)元件加工拋光工具，尤其適用于平面、球面、非球面光學(xué)晶體的精密拋光加工，具有廣闊的應(yīng)用前景。目前國(guó)內(nèi)外該技術(shù)仍處于研宄發(fā)展階段。圓盤式圓弧氣囊拋光頭主要采用具有一定充氣壓力的環(huán)形氣囊作為拋光工具進(jìn)行拋光加工。與傳統(tǒng)的拋光技術(shù)相比，盤形氣囊拋光不僅可以保證拋光頭與被拋光工件間有良好的表面接觸性，而且可以通過進(jìn)氣口的進(jìn)氣閥門調(diào)節(jié)氣囊內(nèi)腔氣壓，控制拋光效率和拋光表面質(zhì)量，是一種非常具有發(fā)展?jié)摿Φ姆乔蛎鎾伖夥椒āＤ壳傲餍械男率角蛐螝饽覓伖忸^存在不足之處有:球形氣囊拋光頭主要是單邊支撐固定、懸臂粱式的球形氣囊拋光頭(中國(guó)專利CN102825543A)，雖然可多方位加工，自由度高，但高速旋轉(zhuǎn)式容易發(fā)生顫振，動(dòng)力平衡性較弱，剛性較差，慣性不易過大，不利于高效拋光加工。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有的氣囊拋光頭存在的不足之處，提供雙邊支撐定位，動(dòng)力平衡性提高，慣性可根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合設(shè)計(jì)，剛性好，拋光表面質(zhì)量高的一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭。
[0004]本發(fā)明設(shè)有環(huán)形氣囊、圓盤形輪轂、環(huán)形氣囊支架、氣囊胎圈、氣密層、胎圈座；所述環(huán)形氣囊直接注塑成形在環(huán)形氣囊支架上并壓入圓盤形輪轂的凹槽內(nèi)，在環(huán)形氣囊的外表面設(shè)有拋光材料層，氣囊胎圈設(shè)于環(huán)形氣囊開口處兩邊，氣囊胎圈與胎圈座貼合；圓盤形輪轂設(shè)有進(jìn)氣道，在圓盤形輪轂短軸一端設(shè)有進(jìn)氣口，進(jìn)氣道與環(huán)形氣囊的內(nèi)腔充氣口連接，氣密層與圓盤形輪轂的凹槽貼合，圓盤形輪轂的輪轂軸兩端臺(tái)階安裝軸承。
[0005]所述環(huán)形氣囊的厚度可為4?6_。
[0006]所述環(huán)形氣囊支架可采用環(huán)形鋼網(wǎng)；所述環(huán)形氣囊支架的厚度可為0.1?0.3_。
[0007]所述拋光材料層可采用聚氨酯拋光墊，拋光材料層可采用膠水粘固在環(huán)形氣囊外表面。
[0008]本發(fā)明的環(huán)形氣囊橡膠層中用彈性鋼網(wǎng)作為環(huán)形氣囊支架，以增大氣囊的彈性模量，提高剛性，減少充氣時(shí)的變形量。并在環(huán)形氣囊開口處兩邊設(shè)置胎圈；輪轂兩邊與氣囊接觸區(qū)設(shè)置胎圈座，在氣壓的作用下，氣囊開口處兩側(cè)胎圈緊密的套在胎圈座上，在輪緣的阻擋下氣囊不會(huì)脫出；環(huán)形氣囊內(nèi)腔設(shè)有氣密層，可以密閉氣囊內(nèi)腔壓縮空氣，增加氣密性。
[0009]本發(fā)明可以通過改變氣體壓力，調(diào)節(jié)拋光表面質(zhì)量和加工效率，本發(fā)明采用雙邊支撐固定方式和氣壓密封方式，并在環(huán)形氣囊橡膠層中使用較大彈性模量的鋼網(wǎng)作為環(huán)形氣囊支架，有效提高了氣囊拋光頭的平衡性和定位精度，從而提高了被拋光工件的表面加工質(zhì)量。
[0010]與現(xiàn)有氣囊拋光頭相比，本實(shí)發(fā)明有以下優(yōu)點(diǎn)；1、由于在環(huán)形氣囊橡膠層中使用了彈性鋼網(wǎng)作為環(huán)形氣囊支架，增大了氣囊的彈性模量，有效減少氣囊拋光頭充氣后的變形量；2、由于采用雙邊支撐固定方式，提高了氣囊拋光頭的剛性，動(dòng)力平衡性高，有效減少了其旋轉(zhuǎn)時(shí)的徑向變形；3、由于使用了真空輪胎式的氣壓密閉方式，減少定位誤差，提高了拋光時(shí)的穩(wěn)定性和加工精度。
【附圖說明】
[0011]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)組成示意圖。
[0012]圖2是本發(fā)明實(shí)施例的側(cè)視示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]以下實(shí)施例將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0014]見圖1和2，本發(fā)明實(shí)施例設(shè)有環(huán)形氣囊1、圓盤形輪轂2、環(huán)形氣囊支架11、氣囊胎圈12、氣密層13、胎圈座21 ;所述環(huán)形氣囊I直接注塑成形在環(huán)形氣囊支架11上并壓入圓盤形輪轂2的凹槽內(nèi)，在環(huán)形氣囊I的外表面設(shè)有拋光材料層(在圖中未畫出)，氣囊胎圈12設(shè)于環(huán)形氣囊I開口處兩邊，氣囊胎圈12與胎圈座21貼合；圓盤形輪轂2設(shè)有進(jìn)氣道3，在圓盤形輪轂2短軸一端設(shè)有進(jìn)氣口，進(jìn)氣道3與環(huán)形氣囊I的內(nèi)腔充氣口連接，氣密層13與圓盤形輪轂2的凹槽貼合，圓盤形輪轂2的輪轂軸兩端臺(tái)階安裝軸承。
[0015]所述環(huán)形氣囊的厚度可為4?6mm。
[0016]所述環(huán)形氣囊支架11可采用環(huán)形鋼網(wǎng)；所述環(huán)形氣囊支架的厚度可為0.1?0.3mmο
[0017]所述拋光材料層可采用聚氨酯拋光墊，拋光材料層可采用膠水粘固在環(huán)形氣囊I外表面。
[0018]使用時(shí)，將環(huán)形氣囊I壓入圓盤形輪轂2凹槽，按壓環(huán)形氣囊I外圈盡量使氣囊胎圈12與胎圈座21貼合，通過進(jìn)氣道3往環(huán)形氣囊I內(nèi)腔充氣，內(nèi)腔氣壓將作用于環(huán)形氣囊I內(nèi)壁，使氣囊胎圈12與胎圈座21貼死。與此同時(shí)氣壓作用于氣密層13，使氣密層與環(huán)形輪轂凹槽貼合，從而形成一個(gè)密閉的氣壓環(huán)境，達(dá)到密封效果。通過調(diào)節(jié)進(jìn)氣口的進(jìn)氣量改變氣囊內(nèi)腔的氣壓，從而改變環(huán)形氣囊I的圓弧半徑。圓盤形輪轂軸兩端臺(tái)階安裝軸承，用以定位固定，鍵槽端與聯(lián)軸器相聯(lián)傳遞動(dòng)力。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于設(shè)有環(huán)形氣囊、圓盤形輪轂、環(huán)形氣囊支架、氣囊胎圈、氣密層、胎圈座；所述環(huán)形氣囊直接注塑成形在環(huán)形氣囊支架上并壓入圓盤形輪轂的凹槽內(nèi)，在環(huán)形氣囊的外表面設(shè)有拋光材料層，氣囊胎圈設(shè)于環(huán)形氣囊開口處兩邊，氣囊胎圈與胎圈座貼合；圓盤形輪轂設(shè)有進(jìn)氣道，在圓盤形輪轂短軸一端設(shè)有進(jìn)氣口，進(jìn)氣道與環(huán)形氣囊的內(nèi)腔充氣口連接，氣密層與圓盤形輪轂的凹槽貼合，圓盤形輪轂的輪轂軸兩端臺(tái)階安裝軸承。
2.如權(quán)利要求1所述一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于所述環(huán)形氣囊的厚度為4 ?6mm0
3.如權(quán)利要求1所述一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于所述環(huán)形氣囊支架采用環(huán)形鋼網(wǎng)。
4.如權(quán)利要求1所述一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于所述環(huán)形氣囊支架的厚度為0.1?0.3mm。
5.如權(quán)利要求1所述一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于所述拋光材料層采用聚氨醋拋光墊。
6.如權(quán)利要求1所述一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，其特征在于所述拋光材料層采用膠水粘固在環(huán)形氣囊外表面。
【專利摘要】一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭，涉及一種拋光工具。提供雙邊支撐定位，動(dòng)力平衡性提高，慣性可根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合設(shè)計(jì)，剛性好，拋光表面質(zhì)量高的一種圓盤式圓弧氣囊拋光頭。設(shè)有環(huán)形氣囊、圓盤形輪轂、環(huán)形氣囊支架、氣囊胎圈、氣密層、胎圈座；環(huán)形氣囊直接注塑成形在環(huán)形氣囊支架上并壓入圓盤形輪轂的凹槽內(nèi)，在環(huán)形氣囊的外表面設(shè)有拋光材料層，氣囊胎圈設(shè)于環(huán)形氣囊開口處兩邊，氣囊胎圈與胎圈座貼合；圓盤形輪轂設(shè)有進(jìn)氣道，在圓盤形輪轂短軸一端設(shè)有進(jìn)氣口，進(jìn)氣道與環(huán)形氣囊的內(nèi)腔充氣口連接，氣密層與圓盤形輪轂的凹槽貼合，圓盤形輪轂的輪轂軸兩端臺(tái)階安裝軸承。通過改變氣體壓力，調(diào)節(jié)拋光表面質(zhì)量和加工效率，提高氣囊拋光頭平衡性和定位精度。
【IPC分類】B24B41-04
【公開號(hào)】CN104723216
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510152410
【發(fā)明人】姚斌, 余肖進(jìn), 賈檀, 蔡思捷, 王舒陽
【申請(qǐng)人】廈門大學(xué)
【公開日】2015年6月24日
【申請(qǐng)日】2015年4月2日