專利名稱：高溫立式雙端離子鍍膜機的制作方法
技術領域：
本實用新型是一種在真空狀態(tài)下實現(xiàn)表面涂層的真空鍍膜設備。
現(xiàn)在工業(yè)規(guī)模生產用真空鍍膜機只有臥式低溫設備，它采用的是平面臥式濺射靶，在鍍膜室中沒有加熱裝置，所以這種鍍膜機的占地面積大，不能鍍制高溫涂層，不能同時鍍制雙面涂層，而且膜的附著力較低。
本實用新型的目的是提供一種新型的真空鍍膜機，它可以克服現(xiàn)有技術中所存在的缺點，能夠鍍制高溫涂層及雙面涂層，而且可以提高涂層的質量。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的它包括鍍膜室和安裝在鍍膜室中的濺射靶，其特征是在鍍膜室的兩端均安裝有高溫加熱器，鍍膜室內的兩側安裝有濺射靶極，濺射靶極立式安裝。
本實用新型的濺射靶極可以成對安裝，至少一對，分別設置在鍍膜室的兩側。為提高濺射時的離化率，在靶極側面可以裝設有燈絲。
本實用新型的濺射鍍膜機在鍍膜室的兩端安裝有高溫加熱器，所以可以鍍制對于溫度要求較高的涂層，并且鍍出的膜層附著力較高，由于本實用新型的濺射靶極立式安裝于鍍膜室的兩側，被鍍工件位于濺射靶極的中間，所以可以在被鍍件的兩面同時鍍制膜層，可以提高工作效率一倍以上，也可以用來鍍制復合膜層，另外本實用新型由于采用立式靶極，所以占地面積較小。
下面結合實施例及其附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。


圖1是一種立式連續(xù)鍍膜機的側面結構示意圖。
圖2是
圖1中的A-A剖視圖。
圖中12是鍍膜室，在鍍膜室內安裝有濺射靶極8，共四個靶極，分別設置在鍍膜室的兩側，每側兩個，兩靶極之間裝有燈絲7，在鍍膜室進料及出料端設置有高溫加熱室6和9，在高溫加熱室中安裝有高溫加熱器5，對工件進行加溫處理，高溫加熱室外側設置有進料室3及出料室10，進料室、出料室與高溫加熱室之間由閥門4隔開。圖中14是工件架，被鍍工件裝在架上，工件架由傳動機構2帶動，通過進料室、高溫加熱室進入鍍膜室，鍍制加工以后，由高溫加熱室、出料室輸出。進、出料室及高溫加熱室和鍍膜室通過真空泵排氣，形成真空狀態(tài)，由充氣系統(tǒng)13充入惰性氣體或鍍膜所需的反應性氣體，即可進行鍍膜加工。
權利要求1.高溫立式雙端離子鍍膜機，它包括鍍膜室和安裝在鍍膜室中的濺射靶，其特征是在鍍膜室的兩端均安裝有高溫加熱器，鍍膜室內的兩側安裝有濺射靶極，濺射靶極立式安裝。
2.根據權利要求1所說的鍍膜機，其特征是在鍍膜室中至少裝有一對靶極，分別設在鍍膜室的兩側。
3.根據權利要求1或2所說的鍍膜機，其特征是在靶極側面裝有燈絲。
專利摘要高溫立式雙端離子鍍膜機,它包括鍍膜室和安裝在鍍膜室中的濺射靶,其特征是在鍍膜室的進料口及出料口均安裝有高溫加熱器,鍍膜室內的兩側安裝有濺射靶極,濺射靶極立式安裝。本實用新型的濺射鍍膜機可以鍍制對于溫度要求較高的涂層,并且鍍出的膜層附著力較高,由于被鍍工件位于濺射靶極的中間,所以可以在被鍍件的兩面同時鍍制膜層,可以提高工作效率一倍以上,也可以用來鍍制復合膜層,并且占地面積較小。
文檔編號C23C14/34GK2286188SQ9623899
公開日1998年7月15日 申請日期1996年11月5日 優(yōu)先權日1996年11月5日
發(fā)明者王振東 申請人:王振東