技術(shù)編號：3395376
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型是一種在真空狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)表面涂層的真空鍍膜設(shè)備。現(xiàn)在工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)用真空鍍膜機(jī)只有臥式低溫設(shè)備，它采用的是平面臥式濺射靶，在鍍膜室中沒有加熱裝置，所以這種鍍膜機(jī)的占地面積大，不能鍍制高溫涂層，不能同時鍍制雙面涂層，而且膜的附著力較低。本實(shí)用新型的目的是提供一種新型的真空鍍膜機(jī)，它可以克服現(xiàn)有技術(shù)中所存在的缺點(diǎn)，能夠鍍制高溫涂層及雙面涂層，而且可以提高涂層的質(zhì)量。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的它包括鍍膜室和安裝在鍍膜室中的濺射靶，其特征是在鍍膜室的兩端均...
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