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一種ALD腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):40398070發(fā)布日期:2024-12-20 12:21閱讀:3來(lái)源:國(guó)知局
一種ALD腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的制作方法

本技術(shù)屬于晶圓傳輸,具體涉及一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。


背景技術(shù):

1、原子層沉積ald設(shè)備鍍膜反應(yīng)前需利用抽真空設(shè)備使腔體內(nèi)部保持真空狀態(tài),再向腔體內(nèi)交替通入反應(yīng)前驅(qū)體源和惰性氣體;在反應(yīng)腔體內(nèi)穩(wěn)定流場(chǎng)下,反應(yīng)前驅(qū)體源均勻擴(kuò)散落于晶圓基體材料表面,盡量確保同一個(gè)平面內(nèi)反應(yīng)前驅(qū)體源密度均勻,此時(shí)晶圓放置的平整度對(duì)晶圓表面成膜均勻性影響尤為重要;若鍍膜反應(yīng)時(shí)晶圓未平整放置于鍍膜反應(yīng)位置,很容易出現(xiàn)晶圓表面鍍膜不均勻,局部鍍膜缺陷。在一次鍍膜時(shí),若晶圓放置不水平或者放置位置不恰當(dāng),則在交替通入不同反應(yīng)前驅(qū)體源,原子層逐層生長(zhǎng)過(guò)程中,很容易出現(xiàn)局部鍍膜缺陷、局部原子累積、不同原子沉積在上一層缺陷位置的現(xiàn)象,達(dá)不到成膜質(zhì)量要求;目前市場(chǎng)上半導(dǎo)體領(lǐng)域,針對(duì)晶圓平整度的改善,主要集中在晶圓制造過(guò)程中,對(duì)晶圓基體本身的平整度調(diào)整完善,在半導(dǎo)體原子沉積設(shè)備領(lǐng)域,針對(duì)專門(mén)調(diào)整將晶圓放置于載盤(pán)上時(shí)的平整度且能夠符合現(xiàn)有大多數(shù)設(shè)備需求的發(fā)明設(shè)計(jì)少之又少,現(xiàn)有設(shè)計(jì)也有待繼續(xù)改進(jìn)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:

3、一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),包括:

4、內(nèi)部設(shè)有晶圓本體的腔體本體、用于驅(qū)動(dòng)反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組移動(dòng)的動(dòng)力傳輸組件和用于調(diào)整晶圓本體平整度的調(diào)整平整度組件,所述腔體本體的下端設(shè)置有所述動(dòng)力傳輸組件,所述動(dòng)力傳輸組件上安裝有所述調(diào)整平整度組件。

5、優(yōu)選的,所述動(dòng)力傳輸組件包括電缸、安裝件、主動(dòng)連接座、連接件一和從動(dòng)連接座,所述腔體本體的底端設(shè)置有所述電缸,所述電缸的輸出端通過(guò)所述安裝件連接有所述主動(dòng)連接座,所述主動(dòng)連接座通過(guò)所述連接件一連接有所述從動(dòng)連接座,所述主動(dòng)連接座的底端與所述反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組連接,用于帶動(dòng)反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組移動(dòng),通過(guò)設(shè)置的電缸能夠帶動(dòng)主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座進(jìn)行移動(dòng)。

6、優(yōu)選的,所述安裝件包括電缸連接座,所述主動(dòng)連接座的一側(cè)通過(guò)螺栓安裝有所述電缸連接座,所述電缸的輸出端與所述電缸連接座連接,電缸的輸出端能夠通過(guò)電缸連接座帶動(dòng)主動(dòng)連接座進(jìn)行移動(dòng)。

7、優(yōu)選的,所述連接件一包括彈簧安裝螺母柱、彈簧一和小圓螺母,所述主動(dòng)連接座的底端安裝有所述彈簧安裝螺母柱,所述彈簧安裝螺母柱的一端貫穿所述主動(dòng)連接座并與所述從動(dòng)連接座連接,所述彈簧安裝螺母柱的外端套設(shè)有所述彈簧一,所述彈簧一位于所述主動(dòng)連接座和所述從動(dòng)連接座之間,主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座之間安裝的彈簧一,能夠保證主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座之間距離固定,能夠一起向上移動(dòng),所述彈簧安裝螺母柱的外端設(shè)置有所述小圓螺母,所述小圓螺母位于所述彈簧一的上端,所述小圓螺母位于所述從動(dòng)連接座的下端;

8、所述連接件一還包括多節(jié)焊接波紋管中部安裝座和多節(jié)焊接波紋管一,所述從動(dòng)連接座的一側(cè)連接有所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座,所述主動(dòng)連接座的上端設(shè)置有多節(jié)焊接波紋管一,具有伸縮性能且能夠保持良好的密封性,所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有與所述多節(jié)焊接波紋管一相配合的孔,通過(guò)擰動(dòng)設(shè)置的彈簧安裝螺母柱,壓縮彈簧一的伸縮量,調(diào)整從動(dòng)連接件的高度位置,確保多節(jié)焊接波紋管中部安裝座下表面和從動(dòng)連接座表面配合連接固定。

9、優(yōu)選的,所述調(diào)整平整度組件包括提升桿座和pin桿,所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座的上端設(shè)置有所述提升桿座,提升桿座的上端設(shè)置為圓臺(tái)形的圓環(huán),所述腔體本體的底端內(nèi)部開(kāi)設(shè)有與所述提升桿座相配合的通孔一,所述提升桿座的上端設(shè)置有所述pin桿,所述pin桿設(shè)置為三組且均以所述通孔一的圓心為中心呈陣列設(shè)置,所述腔體本體的內(nèi)部設(shè)置有加熱盤(pán)陶瓷蓋板和金屬加熱盤(pán),所述加熱盤(pán)陶瓷蓋板和所述金屬加熱盤(pán)的內(nèi)部均開(kāi)設(shè)有與所述pin桿相配合的通孔二,三組所述pin桿的端部均位于所述晶圓本體的下端,在反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組向上移動(dòng)到pin桿的頭部時(shí),pin桿頭部能夠完全沉入加熱陶瓷蓋板中,此時(shí)整個(gè)加熱陶瓷表面保持平整;

10、所述調(diào)整平整度組件還包括六角圓柱頭螺釘二、六角圓柱頭螺釘一和波紋管壓塊,所述從動(dòng)連接座的下端安裝有所述六角圓柱頭螺釘二,所述六角圓柱頭螺釘二的上端貫穿所述從動(dòng)連接座的下端并貼合在所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座的下端面,所述從動(dòng)連接座的上端設(shè)置有所述波紋管壓塊,所述波紋管壓塊的上端安裝有所述六角圓柱頭螺釘一,所述六角圓柱頭螺釘一的下端貫穿所述波紋管壓塊的上端并貼合在所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座的上端面。

11、優(yōu)選的,所述腔體本體的底端設(shè)置有導(dǎo)軌組件,所述導(dǎo)軌組件包括上滑塊和下滑塊,所述主動(dòng)連接座通過(guò)螺釘安裝在所述下滑塊的一側(cè),所述從動(dòng)連接座通過(guò)螺釘安裝在所述上滑塊的一側(cè),所述上滑塊位于所述下滑塊的上方,設(shè)置的導(dǎo)軌組件有利于主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座進(jìn)行豎直方向平穩(wěn)移動(dòng),防止發(fā)生偏移。

12、優(yōu)選的,所述腔體本體的底端安裝有腔體底部支撐架,所述腔體底部支撐架包括圓形底盤(pán),所述圓形底盤(pán)的底端安裝有電缸底座安裝板,所述電缸通過(guò)電缸底座安裝板安裝在所述圓形底盤(pán)的底端,所述腔體底部支撐架的底端一側(cè)設(shè)置有側(cè)面豎直板,所述導(dǎo)軌組件通過(guò)螺釘安裝在所述側(cè)面豎直板的一側(cè),所述多節(jié)焊接波紋管一安裝在所述圓形底盤(pán)的下端。

13、優(yōu)選的,還包括限位組件,所述限位組件包括限位螺母柱b,所述限位螺母柱b的上端螺紋連接有限位螺母柱a,所述限位螺母柱a的上端與所述圓形底盤(pán)連接,所述限位螺母柱a的上端設(shè)置有螺紋端,所述限位螺母柱a的螺紋端與所述圓形底盤(pán)螺紋連接,所述限位螺母柱a的下端位于所述從動(dòng)連接座的內(nèi)部,所述限位螺母柱a的外端螺紋連接有限位六角法蘭面螺母a,所述限位螺母柱b的下端位于所述主動(dòng)連接座的內(nèi)部,所述限位螺母柱b的外端螺紋連接有限位六角法蘭面螺母b。

14、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:

15、1、通過(guò)在主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座上端合適位置設(shè)置限位六角法蘭面螺母a和限位六角法蘭面螺母b,確定從動(dòng)連接座和主動(dòng)連接座能夠運(yùn)動(dòng)的極限位置,通過(guò)電缸驅(qū)動(dòng)安裝于導(dǎo)軌組件的滑塊上的主動(dòng)連接座移動(dòng),并利用彈簧一驅(qū)動(dòng)從動(dòng)連接座移動(dòng),最終實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的二次平穩(wěn)傳輸;

16、2、通過(guò)調(diào)節(jié)六角圓柱頭螺釘一、六角圓柱頭螺釘二高度進(jìn)而調(diào)整提升桿座位置,并通過(guò)3組pin桿間接調(diào)整晶圓本體的平整度,確保處于水平位置的晶圓本體放置于水平的加熱盤(pán)陶瓷蓋板上時(shí)不會(huì)發(fā)生位置偏移,保證晶圓本體處于恰當(dāng)?shù)乃轿恢缅兡ぃ岣呔A本體成膜效率。



技術(shù)特征:

1.一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:內(nèi)部設(shè)有晶圓本體(16)的腔體本體(1)、用于驅(qū)動(dòng)反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組(6)移動(dòng)的動(dòng)力傳輸組件和用于調(diào)整晶圓本體(16)平整度的調(diào)整平整度組件,所述腔體本體(1)的下端設(shè)置有所述動(dòng)力傳輸組件,所述動(dòng)力傳輸組件上安裝有所述調(diào)整平整度組件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述動(dòng)力傳輸組件包括電缸(3)、安裝件、主動(dòng)連接座(9)、連接件一和從動(dòng)連接座(12),所述腔體本體(1)的底端設(shè)置有所述電缸(3),所述電缸(3)的輸出端通過(guò)所述安裝件連接有所述主動(dòng)連接座(9),所述主動(dòng)連接座(9)通過(guò)所述連接件一連接有所述從動(dòng)連接座(12),所述主動(dòng)連接座(9)的底端與所述反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組(6)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述安裝件包括電缸連接座(7),所述主動(dòng)連接座(9)的一側(cè)通過(guò)螺栓安裝有所述電缸連接座(7),所述電缸(3)的輸出端與所述電缸連接座(7)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述連接件一包括彈簧安裝螺母柱(22)、彈簧一(10)和小圓螺母(11),所述主動(dòng)連接座(9)的底端安裝有所述彈簧安裝螺母柱(22),所述彈簧安裝螺母柱(22)的一端貫穿所述主動(dòng)連接座(9)并與所述從動(dòng)連接座(12)連接,所述彈簧安裝螺母柱(22)的外端套設(shè)有所述彈簧一(10),所述彈簧一(10)位于所述主動(dòng)連接座(9)和所述從動(dòng)連接座(12)之間,所述彈簧安裝螺母柱(22)的外端設(shè)置有所述小圓螺母(11),所述小圓螺母(11)位于所述彈簧一(10)的上端,所述小圓螺母(11)位于所述從動(dòng)連接座(12)的下端;

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述調(diào)整平整度組件包括提升桿座(4)和pin桿(17),所述多節(jié)焊接波紋管中部安裝座(5)的上端設(shè)置有所述提升桿座(4),所述腔體本體(1)的底端內(nèi)部開(kāi)設(shè)有與所述提升桿座(4)相配合的通孔一,所述提升桿座(4)的上端設(shè)置有所述pin桿(17),所述pin桿(17)設(shè)置為三組且均以所述通孔一的圓心為中心呈陣列設(shè)置,所述腔體本體(1)的內(nèi)部設(shè)置有加熱盤(pán)陶瓷蓋板(18)和金屬加熱盤(pán)(23),所述加熱盤(pán)陶瓷蓋板(18)和所述金屬加熱盤(pán)(23)的內(nèi)部均開(kāi)設(shè)有與所述pin桿(17)相配合的通孔二,三組所述pin桿(17)的端部均位于所述晶圓本體(16)的下端;

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述腔體本體(1)的底端設(shè)置有導(dǎo)軌組件(21),所述導(dǎo)軌組件(21)包括上滑塊和下滑塊,所述主動(dòng)連接座(9)通過(guò)螺釘安裝在所述下滑塊的一側(cè),所述從動(dòng)連接座(12)通過(guò)螺釘安裝在所述上滑塊的一側(cè),所述上滑塊位于所述下滑塊的上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述腔體本體(1)的底端安裝有腔體底部支撐架(2),所述腔體底部支撐架(2)包括圓形底盤(pán),所述圓形底盤(pán)的底端安裝有電缸底座安裝板(20),所述電缸(3)通過(guò)電缸底座安裝板(20)安裝在所述圓形底盤(pán)的底端,所述腔體底部支撐架(2)的底端一側(cè)設(shè)置有側(cè)面豎直板,所述導(dǎo)軌組件(21)通過(guò)螺釘安裝在所述側(cè)面豎直板的一側(cè),所述多節(jié)焊接波紋管一(19)安裝在所述圓形底盤(pán)的下端。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種ald腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),其特征在于:還包括限位組件,所述限位組件包括限位螺母柱b(8),所述限位螺母柱b(8)的上端螺紋連接有限位螺母柱a(13),所述限位螺母柱a(13)的上端與所述圓形底盤(pán)連接,所述限位螺母柱a(13)的上端設(shè)置有螺紋端,所述限位螺母柱a(13)的螺紋端與所述圓形底盤(pán)螺紋連接,所述限位螺母柱a(13)的下端位于所述從動(dòng)連接座(12)的內(nèi)部,所述限位螺母柱a(13)的外端螺紋連接有限位六角法蘭面螺母a(15),所述限位螺母柱b(8)的下端位于所述主動(dòng)連接座(9)的內(nèi)部,所述限位螺母柱b(8)的外端螺紋連接有限位六角法蘭面螺母b(14)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及晶圓傳輸技術(shù)領(lǐng)域,具體公開(kāi)了一種ALD腔體內(nèi)晶圓傳輸及平整度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),包括:內(nèi)部設(shè)有晶圓本體的腔體本體、用于驅(qū)動(dòng)反應(yīng)內(nèi)腔陶瓷加熱組移動(dòng)的動(dòng)力傳輸組件和用于調(diào)整晶圓本體平整度的調(diào)整平整度組件;本技術(shù)通過(guò)在主動(dòng)連接座和從動(dòng)連接座上端合適位置設(shè)置限位六角法蘭面螺母A和限位六角法蘭面螺母B,確定從動(dòng)連接座和主動(dòng)連接座能夠運(yùn)動(dòng)的極限位置,通過(guò)電缸驅(qū)動(dòng)安裝于導(dǎo)軌組件的滑塊上的主動(dòng)連接座移動(dòng),并利用彈簧一驅(qū)動(dòng)從動(dòng)連接座移動(dòng),最終實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的二次平穩(wěn)傳輸;調(diào)節(jié)六角圓柱頭螺釘一、六角圓柱頭螺釘二高度進(jìn)而調(diào)整提升桿座位置,并通過(guò)3組PI?N桿間接調(diào)整晶圓本體的平整度,保證晶圓本體處于恰當(dāng)?shù)乃轿恢缅兡ぁ?br/>
技術(shù)研發(fā)人員:鄭錦,李立松
受保護(hù)的技術(shù)使用者:南京原磊納米材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240119
技術(shù)公布日:2024/12/19
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