技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種具有離子和電子定向部件的二氧化硅蒸鍍裝置，該裝置包括真空室，真空室的內(nèi)壁圍成真空腔，真空腔的頂部設(shè)置有基片支架，基片支架的底部設(shè)置有多個(gè)基片，真空室的側(cè)面設(shè)置有側(cè)孔，該側(cè)孔中設(shè)置有電子釋放裝置；真空腔的底部設(shè)置有第一電子束蒸發(fā)裝置、電離裝置和第二電子束蒸發(fā)裝置，第一電子束蒸發(fā)裝置的上方設(shè)置有第一擋板，電離裝置的上方設(shè)置有電離擋板，第二電子束蒸發(fā)裝置的上方設(shè)置有第二擋板；在電離擋板的上方設(shè)置有筒狀的離子定向部件；在電子釋放裝置的前方設(shè)置有筒狀的電子定向部件。

技術(shù)研發(fā)人員：田守文
受保護(hù)的技術(shù)使用者：天津市大陽(yáng)光大新材料股份有限公司
文檔號(hào)碼：201720371053
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.10
技術(shù)公布日：2017.11.14